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公开(公告)号：CN1754796A
公开(公告)日：2006-04-05
申请号：CN200510107959.6
申请日：2005-09-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 田上真也
Abstract: 本发明提供一种基板输送装置，将被处理基板放在臂部件上，对基板处理部进行基板的送入送出，即使是大型被处理基板，也能利用设置于臂部件上的吸附垫片来可靠地吸附基板面，不会使基板松动来可靠地保持。基板输送装置(41)包括具有多个吸附垫片(56)的臂部件(51)，将被处理基板(G)放置在吸附垫片(56)上，对基板处理部进行被处理基板(G)的送入送出，其具有使吸附垫片(56)振动的振动设备；驱动振动设备的振动驱动设备(57)；和进行振动驱动设备(57)工作控制的控制设备(58)，在将被处理基板(G)放置在吸附垫片(56)上时，控制设备(58)由振动驱动设备(57)使振动设备工作，而使吸附垫片(56)振动。
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公开(公告)号：CN102671835B
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201210071652.5
申请日：2012-03-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置。从狭缝状的喷出口向基板喷出处理液而形成涂敷膜，不管喷嘴喷出口的液珠的量和来自喷嘴喷出口的喷出压力的变化，都不依赖于现场操作者的熟练程度就能够稳定地进行膜厚形成，使形成在基板上的涂敷膜的有效面积扩大。涂敷膜形成方法包括以下步骤：利用式(1)规定经过时间Ts内的推定膜厚Th，将目标膜厚代入到上述式(1)作为推定膜厚Th，将基板(G)的相对移动速度V设为变量，每隔经过时间Ts求出上述基板的移动速度或相对移动速度V；根据每隔上述经过时间Ts求出的基板的移动速度或相对移动速度V控制基板的移动速度或相对移动速度，Th＝(ΔB+Q)·β/(Ts·V·L) ... (1)。
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公开(公告)号：CN102671835A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210071652.5
申请日：2012-03-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置。从狭缝状的喷出口向基板喷出处理液而形成涂敷膜，不管喷嘴喷出口的液珠的量和来自喷嘴喷出口的喷出压力的变化，都不依赖于现场操作者的熟练程度就能够稳定地进行膜厚形成，使形成在基板上的涂敷膜的有效面积扩大。涂敷膜形成方法包括以下步骤：利用式(1)规定经过时间Ts内的推定膜厚Th，将目标膜厚代入到上述式(1)作为推定膜厚Th，将基板(G)的相对移动速度V设为变量，每隔经过时间Ts求出上述基板的移动速度或相对移动速度V；根据每隔上述经过时间Ts求出的基板的移动速度或相对移动速度V控制基板的移动速度或相对移动速度，Th＝(ΔB+Q)·β/(Ts·V·L) ... (1)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1754796B
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN200510107959.6
申请日：2005-09-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 田上真也
Abstract: 本发明提供一种基板输送装置，将被处理基板放在臂部件上，对基板处理部进行基板的送入送出，即使是大型被处理基板，也能利用设置于臂部件上的吸附垫片来可靠地吸附基板面，不会使基板松动来可靠地保持。基板输送装置(41)包括具有多个吸附垫片(56)的臂部件(51)，将被处理基板(G)放置在吸附垫片(56)上，对基板处理部进行被处理基板(G)的送入送出，其具有使吸附垫片(56)振动的振动设备；驱动振动设备的振动驱动设备(57)；和进行振动驱动设备(57)工作控制的控制设备(58)，在将被处理基板(G)放置在吸附垫片(56)上时，控制设备(58)由振动驱动设备(57)使振动设备工作，而使吸附垫片(56)振动。
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公开(公告)号：CN1279579C
公开(公告)日：2006-10-11
申请号：CN02141538.2
申请日：2002-08-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 拉出小镊子(43)从盒(C)取出基板(G)，一拉出小镊子(43)，在取出基板(G)之前，位置(P)上的传感器(9)就描绘轨迹(T)，移动通过基板(G)的一边(Ga)。因此，被保持的基板(G)的关于与小镊子(43)的进退方向正交的方向(Y方向)的位置根据传感器(9)接收移动通过一边(Ga)时的反射光的定时和电动机(6)的旋转脉冲数算出。随之，通过与小镊子(43)的保持正常位置时的定时比较，就能够检测位置偏移。
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公开(公告)号：CN1249776C
公开(公告)日：2006-04-05
申请号：CN02151869.6
申请日：2002-11-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 一种衬底处理系统，沿着从箱区到外部曝光装置之间往复的运输作业线，依次搬送处理多块衬底，该系统包括：具有沿上述运输作业线设置在上游侧的第1处理部及设置在下游侧的第2处理部的多个处理部件组；及从上述第1处理部接收沿着所述运输作业线搬送的衬底的第1通路单元；及配置在比上述第1通路单元还下游侧，将通过上述第1通路单元的衬底运送到上述第2处理段的第2通路单元；及设在上述第1及第2通路单元至少一个通路单元上方的热处理部；及设在上述第1或第2通路单元至少一个通路单元下方，为防止在上述运输作业线上的衬底之间发生碰撞，至少一个能临时逗留衬底的缓冲室；及在上述第1及第2通路单元与上述缓冲室之间搬送衬底的臂交接机构。
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公开(公告)号：CN1426087A
公开(公告)日：2003-06-25
申请号：CN02151869.6
申请日：2002-11-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 一种衬底处理系统，沿着从箱区到外部曝光装置之间往复的运输作业线，依次搬送处理多块衬底，该系统包括：具有沿上述运输作业线设置在上游侧的第1处理部及设置在下游侧的第2处理部的多个处理部件组；及从上述第1处理部接收沿着所述运输作业线搬送的衬底的第1通路单元；及配置在比上述第1通路单元还下游侧，将通过上述第1通路单元的衬底运送到上述第2处理段的第2通路单元；及设在上述第1及第2通路单元至少一个通路单元上方的热处理部；及设在上述第1或第2通路单元至少一个通路单元下方，为防止在上述运输作业线上的衬底之间发生碰撞，至少一个能临时逗留衬底的缓冲室；及在上述第1及第2通路单元与上述缓冲室之间搬送衬底的臂交接机构。
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公开(公告)号：CN1405839A
公开(公告)日：2003-03-26
申请号：CN02141538.2
申请日：2002-08-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 拉出小镊子(43)从盒(C)取出基板(G)，一拉出小镊子(43)，在取出基板(G)之前，位置(P)上的传感器(9)就描绘轨迹(T)，移动通过基板(G)的一边(Ga)。因此，被保持的基板(G)的关于与小镊子(43)的进退方向正交的方向(Y方向)的位置根据传感器(9)接收移动通过一边(Ga)时的反射光的定时和电动机(6)的旋转脉冲数算出。随之，通过与小镊子(43)的保持正常位置时的定时比较，就能够检测位置偏移。
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