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发明公开
利用宽带RF波形进行等离子体加工审中-实审

公开(公告)号：CN119487609A

公开(公告)日：2025-02-18

申请号：CN202380051422.9

申请日：2023-07-07

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 赵建平 , 约翰·卡罗尔 , 查尔斯·施勒希特 , 彼得·文特泽克

IPC: H01J37/32

Abstract: 一种等离子体系统包括等离子体装置，该等离子体装置包括：等离子体室；基座，该基座被配置为在该室中固持衬底；以及射频(RF)电极，该RF电极被配置为在该室中激发等离子体；电磁(EM)电路块，该EM电路块耦合到该RF电极，该EM电路块包括：函数发生器，该函数发生器被配置为输出宽带RF波形，该波形的EM功率分布在一定频率范围内；宽带放大器，该宽带放大器耦合到该函数发生器的输出端，该放大器的工作频率范围包括该频率范围；以及宽带阻抗匹配网络，该宽带阻抗匹配网络具有耦合到该宽带放大器的输出端的输入端以及耦合到该RF电极的端子的输出端，该宽带阻抗匹配网络的工作频率范围包括该频率范围；以及控制器，该控制器被配置为调整该EM电路块的输入参数。

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