还原氮化结合矿化剂处理含钛高炉渣使TiN富集长大的方法

    公开(公告)号:CN1234875C

    公开(公告)日:2006-01-04

    申请号:CN200410087636.0

    申请日:2004-11-22

    Applicant: 东北大学

    CPC classification number: Y02W30/543

    Abstract: 一种还原氮化结合矿化剂处理含钛高炉渣使TiN富集长大的方法,本发明包括混料、氮化处理、高温处理三个步骤,混料,将含钛高炉渣经破碎、球磨、过筛,制备成粒度为0.125~0.08mm(-120~+160目)的渣料,与煤粉和矿化剂均匀混合,配煤量为25~35%,矿化剂采用分析纯K2CO3,加入量为1.5~3%;氮化处理,将混匀后的混合料装入石墨坩埚中,机械压实后置于电炉中并密封炉膛,再通N2还原氮化处理,N2流量为800ml/min,以5℃/min的速度升温至1300℃后恒温5小时;高温处理,氮化处理达到1300℃并恒温5小时后按如下温度制度进行高温处理:见右式。本发明可使TiN和TiC晶粒明显长大,粒度可达10~30μm,为含钛高炉渣提供了一种有效的处理方法。

    还原氮化结合矿化剂处理含钛高炉渣使TiN富集长大的方法

    公开(公告)号:CN1605632A

    公开(公告)日:2005-04-13

    申请号:CN200410087636.0

    申请日:2004-11-22

    Applicant: 东北大学

    CPC classification number: Y02W30/543

    Abstract: 一种还原氮化结合矿化剂处理含钛高炉渣使TiN富集长大的方法,本发明包括混料、氮化处理、高温处理三个步骤,混料,将含钛高炉渣经破碎、球磨、过筛,制备成粒度为0.125~0.08mm(-120~+160目)的渣料,与煤粉和矿化剂均匀混合,配煤量为25~35%,矿化剂采用分析纯K2CO3,加入量为1.5~3%;氮化处理,将混匀后的混合料装入石墨坩埚中,机械压实后置于电炉中并密封炉膛,再通N2还原氮化处理,N2流量为800ml/min,以5℃/min的速度升温至1300℃后恒温5小时;高温处理,氮化处理达到1300℃并恒温5小时后按如下温度制度进行高温处理:,本发明可使TiN和TiC晶粒明显长大,粒度可达10~30μm,为含钛高炉渣提供了一种有效的处理方法。

    用含钛高炉渣制备光催化材料的方法

    公开(公告)号:CN1171669C

    公开(公告)日:2004-10-20

    申请号:CN02109771.2

    申请日:2002-05-31

    Applicant: 东北大学

    Abstract: 一种用含钛高炉渣制备光催化性能材料的方法,属于陶瓷材料的制备方法,主要使用来源广泛的含二氧化钛的高炉渣,添加少量的过渡族金属或稀土化合物,通过原料破碎、分选、预烧、配料、球磨、负载、干燥、烧成、冷却工艺步骤,将料浆负载于陶瓷、金属、玻璃有机物和建筑材料的表面,形成膜材料,本发明的膜材料除了具有普通膜材料的性质外,同时还具有光催化性能,可以分解水中的有机污染物,净化环境的空气,杀菌除臭,不但降低了材料的成本,而且利用了大量的工业废渣,产品综合性能优良,此种方法还可制作块体材料。

    用含钛高炉渣制备光催化材料的方法

    公开(公告)号:CN1446624A

    公开(公告)日:2003-10-08

    申请号:CN02109771.2

    申请日:2002-05-31

    Applicant: 东北大学

    Abstract: 一种用含钛高炉渣制备光催化性能材料的方法,属于陶瓷材料的制备方法,主要使用来源广泛的含二氧化钛的高炉渣,添加少量的过渡族金属或稀土化合物,通过原料破碎、分选、预烧、配料、球磨、负载、干燥、烧成、冷却工艺步骤,将料浆负载于陶瓷、金属、玻璃有机物和建筑材料的表面,形成膜材料,本发明的膜材料除了具有普通膜材料的性质外,同时还具有光催化性能,可以分解水中的有机污染物,净化环境的空气,杀菌除臭,不但降低了材料的成本,而且利用了大量的工业废渣,产品综合性能优良,此种方法还可制作块体材料。

    原位合成TiN/O′-Sialon复相材料的制备工艺

    公开(公告)号:CN1273227A

    公开(公告)日:2000-11-15

    申请号:CN00110434.9

    申请日:2000-05-22

    Applicant: 东北大学

    Abstract: 本发明提供一种原位合成TiN/O′-Sialon复相材料的制备工艺,采用原位合成技术,使用来源广泛、价格便宜的TiO2作为增强相原料,使之与其它原料在烧成过程中反应,原位自生TiN,一步合成TiN/O′-Sialon复相材料。工艺流程:(1)过筛;(2)预烧;(3)配料;(4)研磨(湿磨);(5)超声波振荡;(6)干燥;(7)模压成型;(8)等静压成型;(9)高温烧成。本发明的产品,增强相TiN颗粒微小、分布均匀、与基相相容性好,而且降低了合成TiN的成本,简化了工序,复相材料综合性能优良且稳定。

    原位合成TiN/O′-Sialon复相材料的制备方法

    公开(公告)号:CN1113831C

    公开(公告)日:2003-07-09

    申请号:CN00110434.9

    申请日:2000-05-22

    Applicant: 东北大学

    Abstract: 本发明提供一种原位合成TiN/O′-Sialon复相材料的制备方法,采用原位合成技术,使用来源广泛、价格便宜的TiO2作为增强相原料,使之与其它原料在烧成过程中反应,原位自生TiN,一步合成TiN/O′-Sialon复相材料。工艺流程:(1)过筛;(2)预烧;(3)配料;(4)研磨(湿磨);(5)超声波振荡;(6)干燥;(7)模压成型;(8)等静压成型;(9)高温烧成。本发明的产品,增强相TiN颗粒微小、分布均匀、与基相相容性好,而且降低了合成TiN的成本,简化了工序,复相材料综合性能优良且稳定。

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