公开(公告)号：CN114119469A

公开(公告)日：2022-03-01

申请号：CN202111194437.X

申请日：2021-10-13

申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司

发明人： 陈晨

IPC分类号： G06T7/00 ,  G06T5/50 ,  G06T5/20 ,  G06T3/00

摘要： 本申请涉及一种用于半导体电子束缺陷监测的图像处理方法、装置和系统，通过获取原图，对所述原图进行滤波处理，获得滤波图像；获取所述滤波图像，采用对齐算法将所述滤波图像进行对齐处理，获得模板图像；将所述模板图像与预设参考图像进行图像减法运算，获得差值图像；计算所述差值图像的方差，并将所述方差与预设值进行对比判断，获取并输出比对判断结果。能够提高缺陷检测过程中图像对齐的成功率，由于滤波去掉图像对齐中不必要的细节，和利用差值图像对对齐结果的准确判断，进而可以交叉使用多种对齐算法，发挥各自优势，本发明的图像对齐算法成功率显著提升，从而大幅提升对齐算法的准确率。

公开(公告)号：CN114119472A

公开(公告)日：2022-03-01

申请号：CN202111228212.1

申请日：2021-10-21

申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司

发明人： 陈晨 ,  韩春营

IPC分类号： G06T7/00 ,  G06K9/62 ,  G06T7/62 ,  G06V10/40 ,  G06V10/774 ,  G06V10/764

摘要： 本申请涉及一种缺陷分类方法和装置、设备及存储介质，其中方法包括：获取当前待分类的缺陷数据，并由缺陷数据中提取出缺陷图像特征和设计图形特征；将缺陷图像特征和设计图形特征均输入至缺陷分类器中，由缺陷分类器根据缺陷图像特征和设计图形特征对缺陷数据进行缺陷分类。实现了综合设计图形特征的因素，将设计图形与缺陷关联在一起，从而使得在进行缺陷分类时更加准确，对缺陷产生的原因理解的也就更加全面，从而有助于后续对晶圆上热点区域的识别，为芯片设计人员设计避免缺陷的技术时能够提供更加有效地参考。