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发明公开
曝光方法无效

公开(公告)号：CN1763614A

公开(公告)日：2006-04-26

申请号：CN200410084035.4

申请日：2004-10-18

申请人： 中华映管股份有限公司

发明人： 张营辉 , 涂志中 , 苏大荣 , 程启维 , 庄英鸿 , 刘梦骐

IPC分类号： G02F1/136 , G02F1/133 , G03F7/20 , H01L21/00

摘要： 一种曝光方法，适用于曝光机，以期在基板上形成目标曝光图形，其中基板会受外界因素影响而变形。首先，决定基板之预设变形量，以提供对应之补正值。接着，依据补正值来调整曝光机之曝光参数。之后，通过调整后之曝光参数来对基板进行曝光，以在基板上形成补正后之曝光图形，其中补正后之曝光图形会在基板变形之后逼近目标曝光图形。此曝光方法可对基板之变形提供良好的线性或非线形补正，以提供较佳之制造合格率。