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公开(公告)号：CN101030603A
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200610057880.1
申请日：2006-03-03
申请人： 中华映管股份有限公司
发明人： 涂志中
IPC分类号： H01L29/786 , H01L27/12
摘要： 一种薄膜晶体管，其包括栅极、栅绝缘层、通道层、螺旋状源极以及螺旋状漏极。栅绝缘层覆盖栅极。通道层设置于栅极上方的栅绝缘层上。螺旋状源极设置于栅极上方的通道层上，螺旋状漏极设置于栅极上方的通道层上，且螺旋状源极与螺旋状漏极是以相互绕旋的状态而设置。通过螺旋状源极与螺旋状漏极的设计，能够提高通道W/L比，且能降低栅极－漏极寄生电容Cgd。
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公开(公告)号：CN1988140A
公开(公告)日：2007-06-27
申请号：CN200510132401.3
申请日：2005-12-21
申请人： 中华映管股份有限公司
发明人： 涂志中
CPC分类号： H01L24/06 , H01L2224/05553
摘要： 一种焊垫，包括绝缘层、焊垫金属层、至少一层图案层、保护层以及导电层。绝缘层设置于基板上。焊垫金属层设置在绝缘层上。图案层设置在绝缘层与基板之间以及绝缘层与焊垫金属层之间至少其中之一，以使绝缘层以及位于绝缘层上的焊垫金属层具有起伏的表面。保护层设置于焊垫金属层上。导电层设置于保护层上，且导电层会与焊垫金属层电连接。通过此起伏的表面所造成的粗糙度，而提高焊垫金属层与绝缘层之间的附着力，进而解决焊垫金属层容易自绝缘层上剥落的问题。
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公开(公告)号：CN100514163C
公开(公告)日：2009-07-15
申请号：CN200410080608.6
申请日：2004-10-08
申请人： 中华映管股份有限公司
摘要： 一种改善液晶显示面板之组装偏移的方法，包括下列步骤。对第一基板进行一个工艺步骤，且同时在第一基板上形成第一对准标记。提供光罩，且光罩上已形成有第二对准标记。将光罩设置于曝光设备内，并且将第一基板送入曝光设备内。使光罩上的第二对准标记与第一基板上的第一对准标记进行对准，并存储对准数据。先将第一基板移出曝光设备，再将第二基板移入曝光设备。利用先前存储的对准数据对于第二基板进行定位。以光罩对第二基板进行第一光罩图案转移工艺，并同时在第二基板上形成对应第二对准标记的第三对准标记。
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公开(公告)号：CN100578814C
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：CN200610057880.1
申请日：2006-03-03
申请人： 中华映管股份有限公司
发明人： 涂志中
IPC分类号： H01L29/786 , H01L27/12
摘要： 一种薄膜晶体管，其包括栅极、栅绝缘层、通道层、螺旋状源极以及螺旋状漏极。栅绝缘层覆盖栅极。通道层设置于栅极上方的栅绝缘层上。螺旋状源极设置于栅极上方的通道层上，螺旋状漏极设置于栅极上方的通道层上，且螺旋状源极与螺旋状漏极是以相互绕旋的状态而设置。通过螺旋状源极与螺旋状漏极的设计，能够提高通道W/L比，且能降低栅极-漏极寄生电容Cgd。
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公开(公告)号：CN1758121A
公开(公告)日：2006-04-12
申请号：CN200410080608.6
申请日：2004-10-08
申请人： 中华映管股份有限公司
摘要： 一种改善液晶显示面板之组装偏移的方法，包括下列步骤。对第一基板进行一个工艺步骤，且同时在第一基板上形成第一对准标记。提供光罩，且光罩上已形成有第二对准标记。将光罩设置于曝光设备内，并且将第一基板送入曝光设备内。使光罩上的第二对准标记与第一基板上的第一对准标记进行对准，并存储对准数据。先将第一基板移出曝光设备，再将第二基板移入曝光设备。利用先前存储的对准数据对于第二基板进行定位。以光罩对第二基板进行第一光罩制造工艺，并同时在第二基板上形成对应第二对准标记的第三对准标记。
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公开(公告)号：CN1763614A
公开(公告)日：2006-04-26
申请号：CN200410084035.4
申请日：2004-10-18
申请人： 中华映管股份有限公司
摘要： 一种曝光方法，适用于曝光机，以期在基板上形成目标曝光图形，其中基板会受外界因素影响而变形。首先，决定基板之预设变形量，以提供对应之补正值。接着，依据补正值来调整曝光机之曝光参数。之后，通过调整后之曝光参数来对基板进行曝光，以在基板上形成补正后之曝光图形，其中补正后之曝光图形会在基板变形之后逼近目标曝光图形。此曝光方法可对基板之变形提供良好的线性或非线形补正，以提供较佳之制造合格率。
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