一种磁流变抛光液的循环装置

    公开(公告)号:CN109531431B

    公开(公告)日:2024-04-16

    申请号:CN201910032160.7

    申请日:2019-01-14

    IPC分类号: B24B57/02 B24B1/00 B24B55/02

    摘要: 本发明公开了一种磁流变抛光液的循环装置,包括作为抛光液循环管路的传送管、用于对传送管内抛光液进行冷却的冷却装置,所述冷却装置包括其上设置有冷却介质承装空间的冷却罐、用于对所述冷却介质进行降温的制冷机,所述传送管局部为呈螺旋盘管状的螺旋管,所述螺旋管位于所述冷却介质承装空间内。本循环装置的结构设计不仅可避免因为温度影响抛光液的抛光去除特性、使得抛光过程中抛光液具有去除特性一致性,同时可避免抛光液在被冷却过程中形成团聚而影响抛光表面质量。

    一种自动标定磁流变抛光缎带厚度的装置

    公开(公告)号:CN107703881B

    公开(公告)日:2023-08-04

    申请号:CN201710809677.3

    申请日:2017-09-11

    IPC分类号: G05B19/401

    摘要: 本发明提供了一种自动标定磁流变抛光缎带的装置。所述装置的气缸和MCP测头,自动测量工件和标定块相对于抛光轮底部的相对位置;利用磁流变液的导电性进行接触式测量,抛光缎带与置于工件上导电的标定块柔性接触,形成电流回路产生导通信号,计算机获取接触时标定块相对于抛光缎带底部的相对位置,从而实现抛光缎带厚度的自动测量。本发明解决了目前人工手动方式对缎带厚度进行测量和标定存在测量精度不高、效率低和较大安全隐患等问题,能够低成本、便捷实现抛光缎带厚度的高精度、高效率、高安全性的自动测量与标定,从而提高磁流变抛光质量和效率。

    一种磁流变抛光工件位姿测算方法及抛光方法

    公开(公告)号:CN113814870A

    公开(公告)日:2021-12-21

    申请号:CN202111151173.X

    申请日:2021-09-29

    摘要: 本发明公开了一种磁流变抛光工件位姿测算方法及抛光方法,位姿测算方法包括以下步骤:构建工件的几何位姿测量模型;根据几何位姿测量模型测量工件的中心点的位置;以中心点的位置为原点,建立工件的理论坐标系;构建工件在理论坐标系中位置的几何位姿理论模型;根据几何位姿理论模型和CCOS技术对工件进行轨迹规划;根据坐标变换矩阵对规划的轨迹点进行修正,得到工件的实际加工轨迹。本发明的目的在于提供一种磁流变抛光工件位姿测算方法及抛光方法,利用集成于机床数控系统的三坐标测头对工件的中心及抛光面上的点进行测量,完成工件位姿数据的获取,解决工件精确调平过程中精度受人工经验影响的问题。

    一种超重光学元件就位装置

    公开(公告)号:CN103922246B

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201410115858.2

    申请日:2014-03-26

    IPC分类号: B66F9/12

    摘要: 本发明提供了一种超重光学元件就位装置。所述装置的限位折叠导轨固定在可移动升降平台上,限位折叠导轨展开后能加长导轨长度,折叠后能节省空间。本发明中的随动起吊框架放置在限位折叠导轨上,且随动起吊框架能在限位折叠导轨限定的范围内运动和固定。本发明的升降调整框架能由随动起吊框架上的吊钩吊起,升降调整框架能实现超重光学元件的定位和升降,保证超重光学元件底面与调节工装的上表面贴合,消除装置对超重光学元件精度的影响。