一种基于空间光谱干涉的光束色散特性反演算法

    公开(公告)号:CN109697270B

    公开(公告)日:2022-04-01

    申请号:CN201910039429.4

    申请日:2019-01-16

    Abstract: 本发明公开了一种基于空间光谱干涉的光束色散特性反演算法,包括如下步骤:选取空间光谱干涉图像中两条相邻的亮条纹作为取样条纹,选取空间位置处于两条取样条纹之间的N个采样点,记录采样点的角频率ω和空间位置y,计算每个采样点的位相Φ,将角频率ω、空间位置y和位相Φ代入到位相理论表达式中,得到N个位相理论表达式,对位相理论表达式进行矩阵运算,得到表征光束色散特性的参数,本发明直接根据空间光谱干涉条纹反演光束的色散特性,原理简单直观,计算量小,仅利用少量空间光谱干涉条纹数据就可进行反演计算,同时,本发明亦适用于环境恶劣、噪声影响大、空间光谱干涉条纹易受到污染的情况。

    一种超短脉冲激光能量测量方法及系统

    公开(公告)号:CN111693161A

    公开(公告)日:2020-09-22

    申请号:CN202010573578.1

    申请日:2020-06-22

    Abstract: 本发明涉及一种超短脉冲激光能量测量方法及系统。所述方法包括确定待测超短超强激光的光斑;根据所述光斑确定辐射变色膜的尺寸;获取所述辐射变色膜的初始的空间二维分布的光密度值;利用所述待测超短超强激光对所述辐射变色膜进行曝光;获取曝光后的辐射变色膜的曝光后的空间二维分布的光密度值;利用所述初始的空间二维分布的光密度值和所述曝光后的空间二维分布的光密度值确定所述辐射变色膜曝光前后的净光密度值;对所述净光密度值进行标定,得到标定的拟合曲线;利用所述标定的拟合曲线确定照射到辐射变色膜上的所述待测超短超强激光的能量。本发明不仅能够测量输出的超短脉冲激光总能量,还能够测量超短脉冲激光能量的空间分布。

    一种消除子光栅密度差的调整方法及调整装置

    公开(公告)号:CN106848808B

    公开(公告)日:2018-12-28

    申请号:CN201710082728.7

    申请日:2017-02-16

    Abstract: 本发明公开了一种消除子光栅密度差的调整方法,激光源发射的输出光跨拼缝注入到拼接光栅压缩器中,由于其子光栅间存在较大的线密度差,在子光栅共面的情况下其远场焦斑形态表现为分离的光斑,通过引入绕母线旋转的角度误差校正出射光偏移,使压缩器输出光的远场光斑重合;引入光栅平移量补偿由光栅线密度差引起的色散变化,将基准光与待校正光导入同一个光栅光谱仪产生空‑谱干涉条纹,在平移光栅的过程中观察干涉条纹的变化,当条纹变水平时就说明由光栅线密度差引起的色散变化得到了较好的补偿。本方法可以有效消除或降低拼接光栅线密度差对压缩器输出脉冲的影响,有助于获得变换极限的脉宽,并且能够直观、简便地对拼接型光栅压缩器进行调试。

    一种基于图像互相关的阵列元件拼接方法

    公开(公告)号:CN104776978A

    公开(公告)日:2015-07-15

    申请号:CN201510193506.3

    申请日:2015-04-23

    Abstract: 本发明提供了一种基于图像互相关的阵列元件拼接方法,用以获得大口径光学元件。本发明方法首先进行标定,采集得到阵列元件无拼接误差的基准远场图像,然后采集阵列元件存在拼接误差的当前远场图像,计算当前远场图像与基准远场图像的相似度,若相似度不满足拼接终止条件,则根据相似度和最优化算法进行计算得到控制信号,通过控制信号调整阵列元件的拼接姿态,调整完成之后再测量当前远场图像,重复上述过程进入下一次循环或结束拼接;若相似度满足拼接终止条件,则直接进入下一次循环或结束拼接。本发明方法简单易行,避免了制造工艺的限制,降低了大口径光学元件的制作难度和制作成本。

    一种单脉冲超快激光时空耦合畸变测量仪

    公开(公告)号:CN116907804B

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202310904736.0

    申请日:2023-07-24

    Abstract: 本发明公开了一种单脉冲超快激光时空耦合畸变测量仪,包括适配模块,参考光模块,空间取样测试模块,频率取样测试模块,智能分析控制模块和远场表征配置模块,采用载波频分复用谱全息的方法,空间取样和频率取样相结合,通过非线性自适应滤波生成自参考光记录和提取待测光束横截面内不同空间点的谱强度及谱相位信息,再由谱域信息得到时域的分布信息,无需扫描、只需单次数据采集即可获得近场处激光束横截面内的时空耦合畸变信息,实现超快激光三维“空‑时”场的精密诊断;同时可依据近场处测得的“空‑时”场分布信息,结合远场焦斑形态或终端元件的面型定标数据,得到激光束远场处的空‑时分布信息。

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