防护膜的制备方法及其装置

    公开(公告)号:CN111468371B

    公开(公告)日:2022-07-08

    申请号:CN202010242326.0

    申请日:2020-03-31

    摘要: 本发明是关于一种防护膜的制备方法及其装置,该方法包括:在真空条件下,将覆膜浆体与待覆膜工件的待覆膜表面接触,控制覆膜浆体的厚度,并使覆膜浆体均匀铺展在待覆膜表面上;加热固化,得到防护膜。该装置包括:真空室,所述真空室与真空泵连接;第一部件,用于装载待覆膜工件;第二部件,用于装载模具;限位件,用于限定所述第一部件和第二部件之间的距离,使待覆膜工件与模具之间的距离为所需防护膜的厚度;加热机构,位于所述模具的下方;所述第一部件、第二部件、限位件和加热机构都位于所述真空室内。本发明只需更换模具,就可得到厚度均匀的防护膜,并解决了异形工件覆膜困难,难以形成均匀厚度的防护膜的困扰。

    防护膜的制备方法及其装置

    公开(公告)号:CN111468371A

    公开(公告)日:2020-07-31

    申请号:CN202010242326.0

    申请日:2020-03-31

    摘要: 本发明是关于一种防护膜的制备方法及其装置,该方法包括:在真空条件下,将覆膜浆体与待覆膜工件的待覆膜表面接触,控制覆膜浆体的厚度,并使覆膜浆体均匀铺展在待覆膜表面上;加热固化,得到防护膜。该装置包括:真空室,所述真空室与真空泵连接;第一部件,用于装载待覆膜工件;第二部件,用于装载模具;限位件,用于限定所述第一部件和第二部件之间的距离,使待覆膜工件与模具之间的距离为所需防护膜的厚度;加热机构,位于所述模具的下方;所述第一部件、第二部件、限位件和加热机构都位于所述真空室内。本发明只需更换模具,就可得到厚度均匀的防护膜,并解决了异形工件覆膜困难,难以形成均匀厚度的防护膜的困扰。

    宽光谱无定形碳膜、光学薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN110938804B

    公开(公告)日:2022-06-03

    申请号:CN201911219325.8

    申请日:2019-12-03

    摘要: 本发明主要目的在于提供一种宽光谱无定形碳膜、光学薄膜及其制备方法。所述碳膜在400nm‑12000nm波段内可透过;其制备方法为在真空气氛下,以石墨为靶材磁控溅射,溅射的同时向真空室内通入氩气和碳氢气体;所述碳氢气体为甲烷和/或氢气;所述光学薄膜依次包括宽光谱可透过的基体及设置于其表面的碳膜;或宽光谱可透过的基体、设置于其表面的增透膜及设置于增透膜表面的碳膜。所解决的技术问题是通过在碳膜镀制时引入氢元素,使其在可见光及红外波段均具有非常良好的透过性,将其应用到可见、红外均透过的光学基体表面,起到宽波段增透和物理、化学防护的作用,满足光电系统对宽光谱、多谱段透过的需求,从而更加适于实用。

    硫系玻璃红外电磁屏蔽窗口及其制备方法

    公开(公告)号:CN113754313B

    公开(公告)日:2023-06-30

    申请号:CN202111136757.X

    申请日:2021-09-27

    IPC分类号: C03C17/36 G01V8/10

    摘要: 本发明是关于硫系玻璃红外电磁屏蔽窗口及其制备方法,该制备方法包括:在硫系玻璃基体上形成Ge膜,再在所述的Ge膜上形成碳膜,得到成膜产品;在形成膜的过程中,控制所述的硫系玻璃基体的温度为70~180℃;将所述的成膜产品降低至室温,在硫系玻璃基体形成Ge膜和碳膜的凸起;将所述的凸起去除,在凸起去除后的槽内及碳膜表面形成导电膜,所述的导电膜的厚度与所述的Ge膜的厚度相同;将得到的产品进行等离子体刻蚀,然后放入水中,碳膜及其表面的导电膜脱落,得到硫系玻璃红外电磁屏蔽窗口。本发明无需使用价格昂贵的激光刻蚀仪器,也无需使用光刻胶,简化了工艺流程,同时降低了生产成本。