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公开(公告)号：CN110416043A
公开(公告)日：2019-11-05
申请号：CN201910638430.9
申请日：2019-07-15
申请人： 中国电子科技集团公司第三十八研究所
IPC分类号： H01J37/18 , H01J37/073
摘要： 本发明公开一种用于电子源系统的真空结构，包括电子源、屏蔽层、真空腔体外壳，通过所述屏蔽层在所述真空腔体外壳内的阻隔设置形成具有高低差真空度的高真空度腔体区域和低真空度腔体区域；所述电子源位于所述高真空度腔体区域内，所述真空结构的出气位置设置于所述低真空腔体区域上，所述屏蔽层将所述电子源和所述出气位置隔开，所述屏蔽层上设置有小孔，所述小孔连通所述高真空度腔体区域和所述低真空度腔体区域；真空泵通过抽气泵口同时与所述高真空度腔体区域和所述低真空度腔体区域连通；本发明仅依靠一个真空泵使两个腔体满足不同的真空度要求，使内外真空腔体保持真空差在一个数量级。
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公开(公告)号：CN107887243B
公开(公告)日：2019-11-08
申请号：CN201710851400.7
申请日：2017-09-19
申请人： 中国电子科技集团公司第三十八研究所
摘要： 一种用于电子束扫描CT的X射线源的阵列靶，包括线性阵列靶位、包埋层和靶基；所述线性阵列靶位包括至少一个单独的靶位，所述单独的靶位为线条状，深入所述包埋层0.5至10μm，所述靶位的两端延伸到所述包埋层的边缘，靶位的宽度小于或等于电子束直径，最佳为电子束束流密度的半峰宽尺寸，可近似为电子束直径的1/2至2/3；靶位之间的间隙等于或大于电子束直径；所述包埋层用于配置所述靶位；所述靶基配置于所述包埋层和靶位的底部；所述靶基的厚度为20至300μm。
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公开(公告)号：CN105702544A
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201610040882.3
申请日：2016-01-21
申请人： 中国电子科技集团公司第三十八研究所
CPC分类号： H01J35/18 , H01J35/08 , H01J35/12 , H01J35/24 , H01J2235/1204 , H01J2235/186
摘要： 本发明公开了一种金刚石射线靶、制备方法及应用，包括金刚石片、窗口封接环和薄膜阳极，所述金刚石片通过焊料焊接在窗口封接环上，所述薄膜阳极沉积在金刚石片朝向电子束的一面。在窗口封接环上开设连接孔，连接孔的两端为台阶面，将焊料放入台阶面，再将金刚石片放入台阶面上，焊接过程中确保金刚石压紧焊接在窗口封接环上；焊接后，将金刚石片以外的部分挡住，在金刚石朝向电子束的一面沉积薄膜阳极。通过优化镀膜工艺和焊接工艺，使透射式X射线管金刚石窗口、薄膜阳极、散热层三者之间具有良好的热力学接触性能，可提高微焦点X射线管连续使用时的可靠性。
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公开(公告)号：CN110416043B
公开(公告)日：2021-08-27
申请号：CN201910638430.9
申请日：2019-07-15
申请人： 中国电子科技集团公司第三十八研究所
IPC分类号： H01J37/18 , H01J37/073
摘要： 本发明公开一种用于电子源系统的真空结构，包括电子源、屏蔽层、真空腔体外壳，通过所述屏蔽层在所述真空腔体外壳内的阻隔设置形成具有高低差真空度的高真空度腔体区域和低真空度腔体区域；所述电子源位于所述高真空度腔体区域内，所述真空结构的出气位置设置于所述低真空腔体区域上，所述屏蔽层将所述电子源和所述出气位置隔开，所述屏蔽层上设置有小孔，所述小孔连通所述高真空度腔体区域和所述低真空度腔体区域；真空泵通过抽气泵口同时与所述高真空度腔体区域和所述低真空度腔体区域连通；本发明仅依靠一个真空泵使两个腔体满足不同的真空度要求，使内外真空腔体保持真空差在一个数量级。
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公开(公告)号：CN107887243A
公开(公告)日：2018-04-06
申请号：CN201710851400.7
申请日：2017-09-19
申请人： 中国电子科技集团公司第三十八研究所
摘要： 一种用于电子束扫描CT的X射线源的阵列靶，包括线性阵列靶位、包埋层和靶基；所述线性阵列靶位包括至少一个单独的靶位，所述单独的靶位为线条状，深入所述包埋层0.5至10μm，所述靶位的两端延伸到所述包埋层的边缘，靶位的宽度小于或等于电子束直径，最佳为电子束束流密度的半峰宽尺寸，可近似为电子束直径的1/2至2/3；靶位之间的间隙等于或大于电子束直径；所述包埋层用于配置所述靶位；所述靶基配置于所述包埋层和靶位的底部；所述靶基的厚度为20至300μm。
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