一种磁过滤装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110075995A

    公开(公告)日:2019-08-02

    申请号:CN201910326052.0

    申请日:2019-04-22

    IPC分类号: B03C1/023

    摘要: 本发明公开一种磁过滤装置,包括束流管道、磁场线圈、四极透镜装置;所述磁场线圈套设于所述束流管道上,所述四极透镜装置对应设置于所述束流管道的端口位置,且设置于所述束流管道的外侧,离子束流通过所述束流管道的端部流入并从另一端流出;本发明所述磁过滤装置可产生偏转磁场,在粒子传输过程中达到将所需的带电粒子同大颗粒进行分离的目的。

    一种真空-超声复合钎焊装置及方法

    公开(公告)号:CN113042844A

    公开(公告)日:2021-06-29

    申请号:CN202110446700.3

    申请日:2021-04-25

    摘要: 本发明提供了一种真空‑超声复合钎焊装置,包括用于放置待焊接工件的真空罩,还包括设置于真空罩内的运动单元,所述运动单元上固定有一压力传感单元,所述压力传感单元下方固定有超声钎焊仪,所述运动单元能够驱动压力传感单元在竖直方向和垂直竖直方向的平面内移动位置。本发明的优点在于:利用超声波除气效应和真空负压,实现微波组件上微带板的高效、高可靠、低成本连接,运动单元能够在整个空间内的三个方向进行运动调整焊接位置,自由度更高,能够满足大焊接面、多位置、非连续焊接等需求;同时超声钎焊仪通过压力传感单元施加荷载,能够准确的控制超声钎焊仪得到的压力,控制精度高,满足电子组件的高精度焊接需求。

    一种铝合金表面低温钎焊改性涂层及制备方法

    公开(公告)号:CN112501537B

    公开(公告)日:2023-03-24

    申请号:CN202011253454.1

    申请日:2020-11-11

    摘要: 本发明公开一种铝合金表面低温钎焊改性涂层,包括打底层、改性层,打底层连接在铝合金基板表面,改性层连接在打底层表面;打底层为包含铝的镍基合金材料,改性层为包含镍的银基合金材料。本发明还公开铝合金表面低温钎焊改性涂层的制备方法,包括表面净化;表面粗化;预热处理;打底层制备;改性层制备。本发明的有益效果:提高了涂层与基体的结合强度,镍合金打底层能作为扩散阻挡层不仅能有效防止钎焊时反润湿现象的发生,还能降低银基合金改性层的厚度,减少喷涂材料成本;银合金低温钎焊改性涂层能与低温焊料形成良好的润湿效果与冶金结合,可有效提高焊接接头强度;操作简便、效率高、成本低等优点,工艺环保,易于推广。

    一种用于射线源的浮动靶驱动机构及控制方法

    公开(公告)号:CN110794875A

    公开(公告)日:2020-02-14

    申请号:CN201911029261.5

    申请日:2019-10-25

    IPC分类号: G05D3/12 H01J35/02 H01J35/24

    摘要: 本发明公开一种用于射线源的浮动靶驱动机构及控制方法,包括膨胀杆、调节组件、靶座、浮动靶和射线源壳体,所述浮动靶固定设置在所述靶座上,所述射线源壳体端部通过波纹管与所述靶座进行弹性连接,所述膨胀杆一端连接在所述射线源壳体上,另一端通过所述调节组件与所述靶座相连,所述膨胀杆温度变化后在热胀冷缩作用下在轴线方向产生线性膨胀,以调节所述靶座和所述射线源壳体的相对位置,射线源设置于所述射线源壳体内;本发明采用材料的热胀冷缩原理,使用可控温的膨胀杆作为动力源,力量大,结构紧凑,解决了电机加减速箱的常规驱动机构体积过大、安装不便的问题。

    一种液冷组件的焊接流道结构

    公开(公告)号:CN110598266B

    公开(公告)日:2022-11-25

    申请号:CN201910763425.0

    申请日:2019-08-16

    IPC分类号: H05K7/20 G01S7/02

    摘要: 本发明公开一种液冷组件的焊接流道结构,焊接流道设置于液冷组件内,所述液冷组件包括主板和盖板,所述主板上设置有流槽,通过将所述主板和所述盖板焊接一体,从而使所述流槽形成所述焊接流道;所述流槽对应设置有盖板台阶,通过所述盖板台阶实现所述盖板和所述流槽之间的对应卡接固定,所述液冷组件特征参数满足如下关系:KPL2/H<σ0,其中,K为常数;P为所述液冷组件内的冷却液压力;L为所述焊接流道表面的有效宽度;H为所述焊接流道的表面厚度,σ0为所述焊接流道上焊缝的应力强度;本发明解决目前铝合金焊接液冷组件流道可靠性设计难度大,过程复杂,焊接液冷组件存在设计风险的的问题,实现铝合金焊接液冷组件流道结构的快速设置。

    一种用于射线源的转动靶机构

    公开(公告)号:CN111243924B

    公开(公告)日:2022-10-25

    申请号:CN202010044726.0

    申请日:2020-01-14

    IPC分类号: H01J35/10 H01J35/16 H01J35/24

    摘要: 本发明提高一种用于射线源的转动靶机构,包括射线源壳体、磁流体密封组件、环形管、靶座、驱动机构;所述射线源壳体与靶座套设装配,靶座在内,射线源壳体在外,所述驱动机构驱动靶座以靶座轴线为转轴转动;所述射线源壳体与靶座二者之间形成环形腔体;所述环形管、磁流体密封组件限位在环形腔体内,且环形管(3)环绕在磁流体密封组件的外圈,并与射线源壳体上开设的进水口和出水口形成冷却通道;所述磁流体密封组件与环形腔体的内圈壁、底壁密封配合。通过环形管的设计,可以对密封组件进行降温,可实现对电子枪工作环境的全面烘烤,达到较高程度的真空度。