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公开(公告)号:CN1257940A
公开(公告)日:2000-06-28
申请号:CN99125749.9
申请日:1999-12-24
申请人: 中国科学院上海冶金研究所
摘要: 本发明涉及一种在高声速材料(如金刚石、非晶金刚石薄膜、类金刚石薄膜)衬底上生长c-取向氮化铝(AlN)薄膜的方法。为了提高声表面波(SAW)器件的工作频率,一种有效的方法就是在高声速材料衬底上沉积压电薄膜。本发明通过引入氧化锌(ZnO)薄膜过渡层解决了在高声速材料(如金刚石、非晶金刚石和类金刚石薄膜)衬底上难以形成C-取向氮化铝(AlN)压电薄膜的难题。用本发明制备的氮化铝压电薄膜,制作声表面波(SAW)器件,其工作频率可达3千兆赫(GHz)以上。
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公开(公告)号:CN1094524C
公开(公告)日:2002-11-20
申请号:CN99125749.9
申请日:1999-12-24
申请人: 中国科学院上海冶金研究所
摘要: 本发明涉及一种在高声速材料(如金刚石、非晶金刚石薄膜、类金刚石薄膜)衬底上生长c-取向氮化铝(AlN)薄膜的方法。为了提高声表面波(SAW)器件的工作频率,一种有效的方法就是在高声速材料衬底上沉积压电薄膜。本发明通过引入氧化锌(ZnO)薄膜过渡层解决了在高声速材料(如金刚石、非晶金刚石和类金刚石薄膜)衬底上难以形成C-取向氮化铝(AlN)压电薄膜的难题。用本发明制备的氮化铝压电薄膜,制作声表面波(SAW)器件,其工作频率可达3千兆赫(GHz)以上。
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