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公开(公告)号：CN111650680B
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202010575620.3
申请日：2020-06-22
申请人： 同济大学 , 中国科学院上海应用物理研究所
IPC分类号： G02B5/18
摘要： 本发明涉及一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法，该方法基于激光汇聚原子沉积技术和软X射线干涉光刻技术，制备百纳米尺度及以下的小节距溯源标准物质，包括以下步骤：1)获取掩膜版基板；2)采用激光汇聚原子沉积技术，在掩膜版基板上，沉积制备掩膜版；3)获取光刻胶样品，该光刻胶样品包括光刻胶和第二衬底；采用掩膜版，通过软X射线干涉光刻技术，对光刻胶进行曝光和显影，得到光刻胶光栅结构；4)将光刻胶光栅结构转移到第二衬底上，获取自溯源光栅标准物质。与现有技术相比，本发明制备的自溯源光栅标准物质具有高精度、溯源性和精确缩短节距值等优点。
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公开(公告)号：CN105182701B
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201510666500.3
申请日：2015-10-15
申请人： 中国科学院上海应用物理研究所
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明涉及一种同步辐射X射线大面积干涉光刻系统，其包括：依次排列的波荡器光源、多个反射聚焦镜、掩膜光栅、具有光阑孔的级选光阑、具有观察孔的样品台、铝膜以及CCD探测器。本发明通过在掩膜光栅与样品之间增设级选光阑，并通过CCD探测器确保掩膜光栅与级选光阑的位置对准，从而使级选光阑能够可靠遮挡经过掩膜光栅分束产生的0级光，避免该0级光照射到样品上，以使样品上产生的±1级衍射光相干区域的周围不存在0级光区域，由此即可通过移动样品台实现样品上的有效曝光区域的大面积拼接。同时本发明还通过采用反射聚焦镜以及铝膜对X射线进行滤波，从而使得CCD探测器能够清楚观察到掩膜光栅与级选光阑的相对位置，从而即可确保两者的对准精度。
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公开(公告)号：CN105182701A
公开(公告)日：2015-12-23
申请号：CN201510666500.3
申请日：2015-10-15
申请人： 中国科学院上海应用物理研究所
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明涉及一种同步辐射X射线大面积干涉光刻系统，其包括：依次排列的波荡器光源、多个反射聚焦镜、掩膜光栅、具有光阑孔的级选光阑、具有观察孔的样品台、铝膜以及CCD探测器。本发明通过在掩膜光栅与样品之间增设级选光阑，并通过CCD探测器确保掩膜光栅与级选光阑的位置对准，从而使级选光阑能够可靠遮挡经过掩膜光栅分束产生的0级光，避免该0级光照射到样品上，以使样品上产生的±1级衍射光相干区域的周围不存在0级光区域，由此即可通过移动样品台实现样品上的有效曝光区域的大面积拼接。同时本发明还通过采用反射聚焦镜以及铝膜对X射线进行滤波，从而使得CCD探测器能够清楚观察到掩膜光栅与级选光阑的相对位置，从而即可确保两者的对准精度。
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公开(公告)号：CN111650819A
公开(公告)日：2020-09-11
申请号：CN202010575583.6
申请日：2020-06-22
申请人： 中国科学院上海应用物理研究所 , 同济大学
摘要： 本发明涉及基于自溯源光栅的极紫外光刻胶质量检测装置和方法，方法包括以下步骤：1)利用原子光刻技术制备掩膜光栅；2)获取涂有待测极紫外光刻胶膜层的衬底；3)基于获取的掩膜光栅，对所述衬底进行双光栅干涉，获取待测光刻胶图形；4)根据自溯源特性，基于所述掩膜光栅的周期节距值，计算待测光刻胶图形的理论周期节距值，并以待测光刻胶图形的理论周期节距值为标尺，判断待测极紫外光刻胶的质量。与现有技术相比，本发明通过原子光刻技术制备掩膜光栅，具有测量学上周期节距的自溯源性，可以为EUV光刻胶测量数据提供直接的精准标尺，解决了测量设备所带来的实验误差，提高了极紫外光刻胶质量检测的精度。
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公开(公告)号：CN105784734B
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：CN201610118507.6
申请日：2016-03-02
申请人： 中国科学院上海应用物理研究所
IPC分类号： G01N23/04
摘要： 本发明涉及一种闪烁体探测系统，其包括：闪烁体，其入射面接受X射线的照射，其出射面上设置有光子晶体；光学成像装置，其接收从所述闪烁体转化输出的可见光信号，并输出样品透射成像图；以及与所述光学成像装置连接的GPU工作站，其接收所述样品透射成像图，并利用图像恢复算法对该样品透射成像图并行化进行图像反卷积运算，以实时恢复所述样品透射成像图的成像分辨率。本发明提高了能量分辨率、时间分辨率、探测灵敏度，大大缩短测量时间，降低辐射剂量，进一步提升同步辐射在检测限度、探测深度等方面的优势，对生物学，医学等学科的研究具有非常重要的意义。
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公开(公告)号：CN106783502A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201611088759.5
申请日：2016-11-30
申请人： 中国科学院上海应用物理研究所
摘要： 本发明提供一种同步辐射软X射线无损实时位置分辨电离室，包括密封壳体以及在所述密封壳体中上下平行对置的高压电极板和收集电极板，其特征在于，所述收集电极板呈矩形，并由两个呈直角三角形的微通道板模块拼接而成。本发明通过将收集电极板设计为由两个呈直角三角形的微通道板模块拼接而成，从而可利用微通道板模块对电流信号放大的作用，使得电离室即使工作在高真空下，也可以输出能够被检测到的电流，进而实现对软X射线光束强度、位置的无损实时监测。
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公开(公告)号：CN104634772A
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201510069685.X
申请日：2015-02-10
申请人： 中国科学院上海应用物理研究所
摘要： 本发明提供一种制备表面增强拉曼光谱基底的方法，包括：提供基片层；在基片层上通过蒸镀或溅射形成粘附层；在粘附层上通过蒸镀或溅射形成金属薄膜层；在金属薄膜层上通过蒸镀或溅射或化学气相沉积或薄膜湿法转移形成绝缘层；在绝缘层上通过X射线干涉光刻形成金属纳米结构阵列层，其包括：旋涂光刻胶；在120-180℃下蒸发光刻胶中的水分；X射线干涉曝光；用显影液显影；固化显影后的光刻胶；在有序纳米结构的表面沉积金属薄膜层；去除多余的金属和光刻胶。本发明还涉及一种表面增强拉曼光谱基底，包括基片层粘附层、金属薄膜层、绝缘层和金属纳米结构阵列层。根据本发明的表面增强拉曼光谱基底同时具备良好的灵敏度和稳定性。
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公开(公告)号：CN108549197B
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201810214561.X
申请日：2018-03-15
申请人： 中国科学院上海应用物理研究所
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明涉及一种原位光通量监测及曝光剂量补偿方法，该方法通过采用光电二极管在光刻实验开始前对经过出射狭缝进入真空腔体内的主光束的光通量进行测量，并在进行实验曝光时对经过出射狭缝进入真空腔体内的强度与主光束成正比的杂散光的光通量进行监测，从而根据杂散光的光强变化实时调整各个光刻区域的曝光时间，由此对曝光剂量进行补偿，以使曝光剂量在XIL大面积曝光图形拼接过程中保持不变，从而确保最终获得的大面积曝光图形内的纳米结构均匀，进而有效提高这种曝光图形形成的器件性能。
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公开(公告)号：CN106783502B
公开(公告)日：2018-08-24
申请号：CN201611088759.5
申请日：2016-11-30
申请人： 中国科学院上海应用物理研究所
摘要： 本发明提供一种同步辐射软X射线无损实时位置分辨电离室，包括密封壳体以及在所述密封壳体中上下平行对置的高压电极板和收集电极板，其特征在于，所述收集电极板呈矩形，并由两个呈直角三角形的微通道板模块拼接而成。本发明通过将收集电极板设计为由两个呈直角三角形的微通道板模块拼接而成，从而可利用微通道板模块对电流信号放大的作用，使得电离室即使工作在高真空下，也可以输出能够被检测到的电流，进而实现对软X射线光束强度、位置的无损实时监测。
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公开(公告)号：CN109764962B
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN201910062914.3
申请日：2019-01-23
申请人： 中国科学院上海应用物理研究所
摘要： 本发明涉及一种光栅单色器的优化方法，其包括以下步骤：步骤S0，提供一光源、一前置聚焦镜、一平面镜以及一变线距光栅；步骤S1，使所述光源发出的光线经过所述前置聚焦镜汇聚后入射至所述平面镜，再由所述平面镜反射至所述变线距光栅，最后通过所述变线距光栅将产生的衍射光汇聚至一聚焦点；步骤S2，以所述前置聚焦镜的焦点作为一虚光源，调节所述前置聚焦镜的焦距，以使所述虚光源与所述变线距光栅之间的距离等于所述聚焦点与所述变线距光栅之间的距离；步骤S3，根据光栅方程与所述变线距光栅的聚焦条件，计算所述变线距光栅的聚焦系数。本发明在使用变线距光栅的情况下变包含角光栅单色器依然可以选择不同的聚焦常数，从而实现灵活的工作模式。
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