公开(公告)号：CN111650680B

公开(公告)日：2021-09-03

申请号：CN202010575620.3

申请日：2020-06-22

申请人： 同济大学 ,  中国科学院上海应用物理研究所

发明人： 程鑫彬 ,  邓晓 ,  刘杰 ,  顾振杰 ,  李同保 ,  赵俊 ,  杨树敏 ,  吴衍青 ,  邰仁忠

IPC分类号： G02B5/18

摘要： 本发明涉及一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法，该方法基于激光汇聚原子沉积技术和软X射线干涉光刻技术，制备百纳米尺度及以下的小节距溯源标准物质，包括以下步骤：1)获取掩膜版基板；2)采用激光汇聚原子沉积技术，在掩膜版基板上，沉积制备掩膜版；3)获取光刻胶样品，该光刻胶样品包括光刻胶和第二衬底；采用掩膜版，通过软X射线干涉光刻技术，对光刻胶进行曝光和显影，得到光刻胶光栅结构；4)将光刻胶光栅结构转移到第二衬底上，获取自溯源光栅标准物质。与现有技术相比，本发明制备的自溯源光栅标准物质具有高精度、溯源性和精确缩短节距值等优点。

公开(公告)号：CN111650680A

公开(公告)日：2020-09-11

申请号：CN202010575620.3

申请日：2020-06-22

申请人： 同济大学 ,  中国科学院上海应用物理研究所

发明人： 程鑫彬 ,  邓晓 ,  刘杰 ,  顾振杰 ,  李同保 ,  赵俊 ,  杨树敏 ,  吴衍青 ,  邰仁忠

IPC分类号： G02B5/18

摘要： 本发明涉及一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法，该方法基于激光汇聚原子沉积技术和软X射线干涉光刻技术，制备百纳米尺度及以下的小节距溯源标准物质，包括以下步骤：1)获取掩膜版基板；2)采用激光汇聚原子沉积技术，在掩膜版基板上，沉积制备掩膜版；3)获取光刻胶样品，该光刻胶样品包括光刻胶和第二衬底；采用掩膜版，通过软X射线干涉光刻技术，对光刻胶进行曝光和显影，得到光刻胶光栅结构；4)将光刻胶光栅结构转移到第二衬底上，获取自溯源光栅标准物质。与现有技术相比，本发明制备的自溯源光栅标准物质具有高精度、溯源性和精确缩短节距值等优点。

公开(公告)号：CN111650819A

公开(公告)日：2020-09-11

申请号：CN202010575583.6

申请日：2020-06-22

申请人： 中国科学院上海应用物理研究所 ,  同济大学

发明人： 赵俊 ,  梁兆峰 ,  杨树敏 ,  薛超凡 ,  王连升 ,  吴衍青 ,  邰仁忠 ,  程鑫彬 ,  邓晓 ,  顾振杰 ,  唐朝辉 ,  李同保

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F1/68

摘要： 本发明涉及基于自溯源光栅的极紫外光刻胶质量检测装置和方法，方法包括以下步骤：1)利用原子光刻技术制备掩膜光栅；2)获取涂有待测极紫外光刻胶膜层的衬底；3)基于获取的掩膜光栅，对所述衬底进行双光栅干涉，获取待测光刻胶图形；4)根据自溯源特性，基于所述掩膜光栅的周期节距值，计算待测光刻胶图形的理论周期节距值，并以待测光刻胶图形的理论周期节距值为标尺，判断待测极紫外光刻胶的质量。与现有技术相比，本发明通过原子光刻技术制备掩膜光栅，具有测量学上周期节距的自溯源性，可以为EUV光刻胶测量数据提供直接的精准标尺，解决了测量设备所带来的实验误差，提高了极紫外光刻胶质量检测的精度。

公开(公告)号：CN117761092A

公开(公告)日：2024-03-26

申请号：CN202311549369.3

申请日：2023-11-20

申请人： 中国科学院上海应用物理研究所

发明人： 黄耀波 ,  许剑锋 ,  郭金来 ,  郑攀 ,  王勇 ,  邰仁忠

IPC分类号： G01N23/22 ,  G05D3/20 ,  G01N23/2204

摘要： 本发明提供一种用于X射线共振非弹性散射光谱仪的自动控制系统，包括一端与光栅单色器连接的入臂和出臂支架，安装于出臂支架的可动端的六轴并联机构；中央控制器模块利用PLC控制器根据物距和像距完成对执行器件的控制命令下发和状态读取，实现入臂支架和出臂支架的运动控制；单色器控制组件将光栅入射角和光栅衍射角作为目标值并根据目标值实现光栅单色器内的光栅组件的运动姿态的控制；六足并联机构控制器将CCD探测器表面光束入射角γ作为目标值并根据目标值沿Y轴方向、Z轴方向以及绕X轴旋转方向调节控制六足并联机构的姿态。本发明的自动控制系统能够实现X射线共振非弹性散射光谱仪的X射线自动聚焦控制。

公开(公告)号：CN105092690A

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201510305701.0

申请日：2015-06-04

申请人： 中国科学院上海应用物理研究所

发明人： 李俊琴 ,  邹鹰 ,  陈振华 ,  薛莲 ,  王勇 ,  邰仁忠

IPC分类号： G01N27/64

摘要： 本发明提供一种基于多通道电子倍增器的电离吸收谱探测装置，包括用于使气体电离的电离腔室；设置在所述电离腔室中的金网，其设置为收集所述电离腔室中电离产生的离子；设置在所述电离腔室中的多通道电子倍增器，其位置与所述金网的位置相对，以在两者之间形成电场，并通过所述电场的作用接收所述金网收集的所述离子并输出相应的离子信号；连接至所述多通道电子倍增器的加压及信号采集电路，其设置为向所述多通道电子倍增器提供电压以及采集并输出所述离子信号；以及信号处理系统，其设置为接收所述离子信号并根据所述离子信号获取相应的电离吸收谱。本发明能够改善测量光束线能量分辨率的准确度，减小气体碰撞展宽对最终结果的影响。

公开(公告)号：CN110389140A

公开(公告)日：2019-10-29

申请号：CN201910633053.X

申请日：2019-07-11

申请人： 中国科学院上海应用物理研究所

发明人： 马立梅 ,  张祥志 ,  邰仁忠 ,  许子健

IPC分类号： G01N23/046 ,  G01N23/04 ,  G06T11/00

摘要： 该发明涉及一种实现元素空间定位的双能焦点堆栈三维重构方法，包括以下步骤：测量样品中需要检测的元素的全电子产额吸收谱，以确定吸收边能量，并选定一个边前能量；对样品进行扫描成像，且入射光的能量为该元素的吸收边能量，获取一组吸收边上的第一焦点堆栈图像；对样品进行扫描成像，且入射光的能量为该元素的边前能量，获取一组吸收边前的第二焦点堆栈图像；利用焦点堆栈算法分别重构所述第一焦点堆栈图像和第二焦点堆栈图像，分别对应获取第一三维结构图以及第二三维结构图；将第一三维结构图与第二三维结构图通过K边减影或相比双能衬度法处理，获得该元素在样品中的空间分布情况。

公开(公告)号：CN105182701B

公开(公告)日：2017-11-28

申请号：CN201510666500.3

申请日：2015-10-15

申请人： 中国科学院上海应用物理研究所

发明人： 薛超凡 ,  吴衍青 ,  刘海岗 ,  杨树敏 ,  王连升 ,  赵俊 ,  邰仁忠

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 本发明涉及一种同步辐射X射线大面积干涉光刻系统，其包括：依次排列的波荡器光源、多个反射聚焦镜、掩膜光栅、具有光阑孔的级选光阑、具有观察孔的样品台、铝膜以及CCD探测器。本发明通过在掩膜光栅与样品之间增设级选光阑，并通过CCD探测器确保掩膜光栅与级选光阑的位置对准，从而使级选光阑能够可靠遮挡经过掩膜光栅分束产生的0级光，避免该0级光照射到样品上，以使样品上产生的±1级衍射光相干区域的周围不存在0级光区域，由此即可通过移动样品台实现样品上的有效曝光区域的大面积拼接。同时本发明还通过采用反射聚焦镜以及铝膜对X射线进行滤波，从而使得CCD探测器能够清楚观察到掩膜光栅与级选光阑的相对位置，从而即可确保两者的对准精度。

公开(公告)号：CN105182701A

公开(公告)日：2015-12-23

申请号：CN201510666500.3

申请日：2015-10-15

申请人： 中国科学院上海应用物理研究所

发明人： 薛超凡 ,  吴衍青 ,  刘海岗 ,  杨树敏 ,  王连升 ,  赵俊 ,  邰仁忠

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 本发明涉及一种同步辐射X射线大面积干涉光刻系统，其包括：依次排列的波荡器光源、多个反射聚焦镜、掩膜光栅、具有光阑孔的级选光阑、具有观察孔的样品台、铝膜以及CCD探测器。本发明通过在掩膜光栅与样品之间增设级选光阑，并通过CCD探测器确保掩膜光栅与级选光阑的位置对准，从而使级选光阑能够可靠遮挡经过掩膜光栅分束产生的0级光，避免该0级光照射到样品上，以使样品上产生的±1级衍射光相干区域的周围不存在0级光区域，由此即可通过移动样品台实现样品上的有效曝光区域的大面积拼接。同时本发明还通过采用反射聚焦镜以及铝膜对X射线进行滤波，从而使得CCD探测器能够清楚观察到掩膜光栅与级选光阑的相对位置，从而即可确保两者的对准精度。

公开(公告)号：CN108549197B

公开(公告)日：2020-04-17

申请号：CN201810214561.X

申请日：2018-03-15

申请人： 中国科学院上海应用物理研究所

发明人： 薛超凡 ,  胡纯 ,  刘平 ,  吴衍青 ,  王连升 ,  杨树敏 ,  赵俊 ,  郑丽芳 ,  邰仁忠

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 本发明涉及一种原位光通量监测及曝光剂量补偿方法，该方法通过采用光电二极管在光刻实验开始前对经过出射狭缝进入真空腔体内的主光束的光通量进行测量，并在进行实验曝光时对经过出射狭缝进入真空腔体内的强度与主光束成正比的杂散光的光通量进行监测，从而根据杂散光的光强变化实时调整各个光刻区域的曝光时间，由此对曝光剂量进行补偿，以使曝光剂量在XIL大面积曝光图形拼接过程中保持不变，从而确保最终获得的大面积曝光图形内的纳米结构均匀，进而有效提高这种曝光图形形成的器件性能。

公开(公告)号：CN109239109A

公开(公告)日：2019-01-18

申请号：CN201811183779.X

申请日：2018-10-11

申请人： 中国科学院上海应用物理研究所

发明人： 邹鹰 ,  王勇 ,  邰仁忠

IPC分类号： G01N23/083

摘要： 本发明涉及带原位蒸金功能的软X射线光束线通量检测装置，具有真空六通法兰管道，该管道具有沿其x向设置的连接上游和下游光学部件的入射和出射法兰，在两法兰之间的真空法兰管道内有金网，沿其y向设有固接有蒸金器的蒸金器安装法兰；沿其z向则设有金网安装法兰，金网由金网夹持电极固定并与外部的真空密封BNC电极电连接，该夹持电极通过金网安装法兰固定于该管道内，一旋转组件通过金网安装法兰与所述金网夹持电极相连，通过旋转组件带动金网在六通管道内沿垂直或水平于光束线方向原位转动，既可进行正常光束线通量检测，又可通过加热蒸金器中的金材而在对金网面镀金膜，从而适时、高效地解决金网沉积污染物的问题，且不会引入其他污染。