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公开(公告)号：CN103207531B
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201310138494.5
申请日：2013-04-21
申请人： 中国科学院光电技术研究所
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明公开了一种适用于步进扫描投影光刻机的掩模台硅片台扫描运动同步误差校正系统，包括运动轨迹规划模块、运动控制模块、运动执行模块、同步误差校正模块。本发明的优点是，采用轨迹规划模块对扫描曝光过程中硅片台及掩模台的加速度、速度以及位置轨迹进行规划并数字化，此模块能针对不同的工件台的运动需求进行相应的轨迹规划，具有良好的移植性；针对步进扫描投影光刻机在扫描曝光过程中同步误差的特性，通过减小硅片台跟踪误差以及掩模台跟踪误差中同频部分信号的相位差来达到减小同步误差的目的，从同步误差的特性出发分析出误差校正方法；在同步误差校正模块中采用预测模块对跟踪误差中的频率信号进行预估计，有利于加快系统的运行速度。
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公开(公告)号：CN102878203A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201210404463.5
申请日：2012-10-22
申请人： 中国科学院光电技术研究所
IPC分类号： F16C32/06
摘要： 本发明提供一种气浮导轨，含有滑道、滑块、左导向板、右导向板、盖板，滑道为凹字形结构；滑块为T字形结构包括工作面和凸字形垂直部组成，凸字形垂直部位于凹字形垂直部中，工作面与支撑面相互平行放置并滑动连接；左导向板与右导向板对称于安置滑块的凸字形垂直部的两侧，并左导向板与右导向板位于滑道的凹字形垂直部中且滑动连接；盖板安置于滑块的上面；滑块的凹槽通过盖板的多个抽气口与外界相连；滑块的环形槽通过多个进气口与外界相连。滑块采用对称性结构对加工精度要求降低；滑块通过左右导向板共同导向其气膜均化效应更明显，使导向精度更高；滑块工作面与滑道支撑面间采用真空预载使滑块刚度、承载能力得到有效提升。
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公开(公告)号：CN102073220B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201010593074.2
申请日：2010-12-08
申请人： 中国科学院光电技术研究所
摘要： 一种单幅封闭条纹相位提取方法，包括步骤：条纹图像噪声滤波、通过小波脊提取相位和移除符号不确定性，其中相位提取方法中通过构造具有很好的尺度和角度方向选择性的二维解析小波函数，能同时对封闭条纹进行滤波和相位提取。本发明能更好的处理带有噪声且条纹频率变化较大的封闭条纹，能够通过单幅封闭条纹实现相位自动化提取。克服了之前的小波变换相位提取算法只应用于载波条纹的局限性。
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公开(公告)号：CN102236270A
公开(公告)日：2011-11-09
申请号：CN201110216470.8
申请日：2011-07-29
申请人： 中国科学院光电技术研究所
CPC分类号： G03F9/7026 , G03F9/7061
摘要： 本发明提供一种适用于双工件台投影光刻机的检焦装置，该装置包含激光器、聚焦光学单元、力检测单元、位置检测单元、六自由度工件台、硅片、差分放大器、Z向反馈控制单元、扫描信号发生器、三维形貌数据存储单元；由激光器发出的激光束经聚焦光学单元聚焦在力检测单元的背面，并从力检测单元背面反射到位置检测单元，硅片经真空吸附在六自由度工件台上，六自由度工件台在扫描信号发生器驱动下带动硅片进行XY二维扫描检测过程中，由位置检测单元的输出得到探针与光刻胶相互作用的强度，进而计算出两者间距并用于改变六自由度精密工件台的Z向驱动电压，以调节探针与光刻胶表面的间距，即通过Z向反馈控制单元实现反馈控制。
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公开(公告)号：CN104331116B
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201410607056.3
申请日：2014-10-30
申请人： 中国科学院光电技术研究所
IPC分类号： G05G13/00
摘要： 本发明提供一种掩模与基底六自由度对准装置，含有掩模、掩模支架、弹性簧片、压簧片、压簧预紧、Y手轮、拉簧预紧、基底、基底支架、X手轮、基座、压紧螺钉；掩模支架为圆盘形状，用于承载掩模；弹性簧片具有内环及三个凸起，内环通过螺钉与掩模支架连接，三个凸起通过螺钉与基座凸面连接；压簧片一端与基座支撑面通过螺钉连接，另一端压在基底支架肩面上；压簧预紧与基座支撑面通过螺钉连接并与基底支架相切；Y手轮包括Y1手轮及Y2手轮，与基座支撑面通过螺钉连接并与基底支架相切；拉簧预紧一端与基座支撑面通过螺钉连接，另一端与基底支架通过螺钉连接。本发明结构紧凑，适用于空间狭小的环境，并可完成掩模与基底的六自由度高精度对准。
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公开(公告)号：CN104634254A
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201510100566.6
申请日：2015-03-06
申请人： 中国科学院光电技术研究所
IPC分类号： G01B11/02
摘要： 一种基于外差干涉和二次衍射效应的光栅位移测量系统，包括双频激光器、非偏振分光镜、偏振分光镜、第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜、1/4波片、光栅、第一检偏器、第二检偏器、第一光电探测器、第二光电探测器、第一前置放大器、第二前置放大器、混频器、细分处理电路，其中：双频激光器发出具有特定频差的线偏振光f1和f2，其中f1为s偏振光，f2为p偏振光；光栅栅距为d，用于入射光的反射衍射；第一检偏器、第二检偏器用于合成新的线偏振光并产生拍频信号；第一光电探测器、第二光电探测器用于将拍频信号转换为电信号；第一前置放大器、第二前置放大器用于电信号带自动增益的高倍放大；混频器用于解调出频移信号Δf；细分处理电路用于完成电信号的细分、鉴相。
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公开(公告)号：CN104331116A
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：CN201410607056.3
申请日：2014-10-30
申请人： 中国科学院光电技术研究所
IPC分类号： G05G13/00
摘要： 本发明提供一种掩模与基底六自由度对准装置，含有掩模、掩模支架、弹性簧片、压簧片、压簧预紧、Y手轮、拉簧预紧、基底、基底支架、X手轮、基座、压紧螺钉；掩模支架为圆盘形状，用于承载掩模；弹性簧片具有内环及三个凸起，内环通过螺钉与掩模支架连接，三个凸起通过螺钉与基座凸面连接；压簧片一端与基座支撑面通过螺钉连接，另一端压在基底支架肩面上；压簧预紧与基座支撑面通过螺钉连接并与基底支架相切；Y手轮包括Y1手轮及Y2手轮，与基座支撑面通过螺钉连接并与基底支架相切；拉簧预紧一端与基座支撑面通过螺钉连接，另一端与基底支架通过螺钉连接。本发明结构紧凑，适用于空间狭小的环境，并可完成掩模与基底的六自由度高精度对准。
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公开(公告)号：CN103616166A
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：CN201310648361.2
申请日：2013-12-04
申请人： 中国科学院光电技术研究所
摘要： 本发明提供一种投影物镜焦面形状测量标记装置及应用，含有镀铬区域、透光区域、相位凹槽区域，其中：镀铬区域、透光区域、相位凹槽区域的宽度比为2:1:1；相位凹槽区域具有90°的位相深度。使用时，制作一带有可提高投影物镜焦面形状测量分辨力测量标记的测试掩模，该测量标记均布在整个曝光视场范围内；掩模曝光后，通过测量硅片表面干涉条纹偏移量，并结合公式离焦量与干涉条纹偏移量间对应关系即可获得其投影物镜的真实焦面形状；在光刻机的焦面控制过程中，硅片曝光场进行平面拟合之前将硅片表面高度数据对应的减去投影物镜焦面数据，再将所得结果进行平面拟合进而完成光刻机超高精度的焦面控制。
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公开(公告)号：CN102128206B
公开(公告)日：2013-02-06
申请号：CN201110064971.9
申请日：2011-03-15
申请人： 中国科学院光电技术研究所
IPC分类号： F16C32/06
摘要： 本发明一种空气静压止推轴承，在轴承本体上有进气口、环槽、多个节流孔、多个气腔、储气腔、多个阻尼孔、轴承工作面和上平面；在轴承本体的上平面垂直向内部的位置及在进气口内侧端的位置设有环槽，在环槽的一侧壁上具有一透孔，所述透孔与进气口的内侧端之间连接且相通；轴承本体位于被支撑件和光滑平面之间，轴承本体的上平面、轴承工作面分别与被支撑件的内平面、光滑平面相互平行；在轴承工作面垂直向轴承本体内部分别设置节流孔、气腔和阻尼孔，节流孔的两端口分别与环槽和气腔连接并相通，每个阻尼孔的进流端口位于储气腔下面；气腔和阻尼孔的出流端口位于轴承工作面上；在轴承本体中央位置设有储气腔，储气腔经阻尼孔与轴承工作面相通。
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公开(公告)号：CN102236270B
公开(公告)日：2012-12-19
申请号：CN201110216470.8
申请日：2011-07-29
申请人： 中国科学院光电技术研究所
CPC分类号： G03F9/7026 , G03F9/7061
摘要： 本发明提供一种适用于双工件台投影光刻机的检焦装置，该装置包含激光器、聚焦光学单元、力检测单元、位置检测单元、六自由度工件台、硅片、差分放大器、Z向反馈控制单元、扫描信号发生器、三维形貌数据存储单元；由激光器发出的激光束经聚焦光学单元聚焦在力检测单元的背面，并从力检测单元背面反射到位置检测单元，硅片经真空吸附在六自由度工件台上，六自由度工件台在扫描信号发生器驱动下带动硅片进行XY二维扫描检测过程中，由位置检测单元的输出得到探针与光刻胶相互作用的强度，进而计算出两者间距并用于改变六自由度精密工件台的Z向驱动电压，以调节探针与光刻胶表面的间距，即通过Z向反馈控制单元实现反馈控制。
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