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公开(公告)号:CN101101934A
公开(公告)日:2008-01-09
申请号:CN200610111261.6
申请日:2006-08-17
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L31/105 , H01L31/0224 , H01L31/18
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 一种提高GaN基pin结构性能的紫外探测器,其特征在于,器件结构包括:一衬底;一成核层,该成核层制作在衬底上;一N型欧姆接触层,该N型欧姆接触层制作在成核层上;一有源层,该有源层制作在欧姆接触层上面的中间;一P型欧姆接触层,该P型欧姆接触层制作在有源层上;P型欧姆接触电极,该P型欧姆接触电极为点状结构或环形结构,制作在P型欧姆接触层上面;一N型欧姆接触电极,该欧姆电极为点状结构或环形结构,制作在N型欧姆接触层上面。
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公开(公告)号:CN101101935A
公开(公告)日:2008-01-09
申请号:CN200610111262.0
申请日:2006-08-17
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L31/108 , H01L31/0224 , H01L31/18
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 一种提高GaN基肖特基结构性能的紫外探测器,其特征在于,器件结构包括:一衬底;一成核层,该成核层制作在衬底上;一高浓度的N型欧姆接触层,该N型欧姆接触层制作在成核层上;一有源层,该有源层制作在N型欧姆接触层上面的中间;一肖特基接触电极,该肖特基接触电极制作在有源层上;一欧姆接触电极,该欧姆接触电极为点状结构或环形结构,制作在欧姆接触层上面的两侧。
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公开(公告)号:CN1956227A
公开(公告)日:2007-05-02
申请号:CN200510118017.8
申请日:2005-10-24
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L31/108 , G01J1/02
Abstract: 本发明一种背照射氮化镓基肖特基结构紫外探测器,其特征在于,包括:一衬底;一成核层,该成核层生长在衬底上;一欧姆接触层,该欧姆接触层生长在成核层上;一有源层,该有源层生长在欧姆接触层上,该有源层的面积小于欧姆接触层的面积,位于欧姆接触层上面的一侧或中间;一欧姆电极,该欧姆电极制作在欧姆接触层上,位于欧姆接触层上面的另一侧或有源层的四周;一肖特基电极,该肖特基电极制作在有源层上,完成器件的制作。
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公开(公告)号:CN1956148A
公开(公告)日:2007-05-02
申请号:CN200510118016.3
申请日:2005-10-24
Applicant: 中国科学院半导体研究所
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 本发明一种提高铝镓氮材料质量的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:取一衬底;步骤2:在该衬底上生长一层成核层;步骤3:在该成核层上生长一层过渡层;步骤4:在该过渡层上生长一层掺杂的铝镓氮层,完成材料的制作。
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