一种SnSe晶体的制备方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117888203A

    公开(公告)日:2024-04-16

    申请号:CN202410075304.8

    申请日:2024-01-17

    IPC分类号: C30B29/52 C30B9/04 C30B33/02

    摘要: 本发明提供了一种SnSe晶体的制备方法,包括:S1,将SnSe多晶料锭置于石英坩埚底部,将SnSe籽晶倒置悬挂在石英坩埚内,将石英坩埚抽真空并密封;S2,将石英坩埚置于晶体生长炉中,升高石英坩埚内温度,使SnSe多晶料锭熔化为SnSe熔体并与SnSe籽晶接种;自上而下降低石英坩埚内温度,使SnSe熔体结晶为SnSe晶体;结晶完成后,继续降低石英坩埚内温度,对SnSe晶体进行退火,得到SnSe晶体。本发明可抑制SnSe晶体生长过程中Se元素挥发,并避免降温过程中坩埚对SnSe晶体挤压产生应力和坩埚破裂熔体外溢,大幅提升SnSe晶体结晶质量和晶体生长成功率。