-
公开(公告)号：CN111430261B
公开(公告)日：2023-01-24
申请号：CN202010435140.7
申请日：2020-05-21
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: H01L21/66 , H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 本申请实施例提供了一种光刻机工艺稳定性检测方法及装置，可以利用测试掩模进行第一光刻得到待测结构，对待测结构进行扫描得到测试图像，利用测试图像和第一光刻的光刻参数建立图像与光刻参数的关联关系，这样，在实际工艺中，可以利用实际掩模进行第二光刻得到实际结构，而后对实际结构进行扫描得到实际图像，基于前述建立的图像与光刻参数的关联关系，可以确定实际图像对应的预测光刻参数，这里的预测光刻参数是计算得到的理论上能够得到实际图像所利用的光刻参数，基于预测光刻参数与第二光刻的光刻参数可以确定工艺偏差值，作为工艺检测结果，在提高预测准确性的同时，还减少了实际工艺中的计算量，能够高效的实现工艺的准确检测。
-
公开(公告)号：CN110187600B
公开(公告)日：2022-10-25
申请号：CN201910477251.1
申请日：2019-06-03
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明提供一种根据规则添加SRAF的方法，涉及半导体技术领域，可提高光刻分辨率。该方法包括：获取目标图形，并确定投影区域；根据投影区域选择SRAF规则，并基于SRAF规则在投影区域中添加第一亚分辨率辅助图形；对第一亚分辨率辅助图形进行冲突清理；根据子目标图形的位置、子目标图形的线宽、子目标图形与待形成的第二亚分辨率辅助图形之间的第二预设距离、待形成的第二亚分辨率辅助图形的线宽、以及待形成的第二亚分辨率辅助图形与第一亚分辨率辅助图像之间的第三预设距离，确定生长区域；去除第一亚分辨率辅助图形中位于生长区域的部分；根据子目标图形的位置、以及子目标图形的线宽，在生长区域内形成所述第二亚分辨率辅助图形。
-
公开(公告)号：CN112099319A
公开(公告)日：2020-12-18
申请号：CN202010981385.X
申请日：2020-09-17
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: G03F7/20 , G06F30/392
Abstract: 本发明公开了亚分辨率辅助图形添加方法及装置、计算机可读存储介质。该方法包括：向初始的版图上添加亚分辨率辅助图形，在已添加的多个亚分辨率辅助图形符合设定的条件下分别计算多个亚分辨率辅助图形的评价值以及基于多个亚分辨率辅助图形的评价值清理相应的亚分辨率辅助图形，否则继续添加亚分辨率辅助图形；最后输出版图。该装置可包括辅助图形添加模块、评价值计算模块、辅助图形清理模块及最终版图输出模块。本发明创新地在亚分辨率辅助图形的添加过程中进行冲突清理，可有效避免所有亚分辨率辅助图形添加完成后再进行冲突清理的工作量和复杂度，而且本发明还能够获得更大的光刻工艺窗口，进而明显地提高目标图形的光刻成像对比度。
-
公开(公告)号：CN111583397A
公开(公告)日：2020-08-25
申请号：CN202010386588.4
申请日：2020-05-09
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本申请实施例提供了一种三维重建方法及装置，可以利用电子束扫描设备对待测结构进行扫描得到电子束图像，利用电子束成像模型，可以拟合得到电子束图像对应的模型参数，模型参数可以体现待测结构的三维特性，也就是说，可以对电子束图像进行处理获取到待测结构的三维特性，这样可以利用体现待测结构的三维特性的模型参数进行待测结构的三维重建。由于电子束成像模型可以对电子束图像进行拟合，依赖于模型参数和图像信息的对应关系，因此不受边缘角度的影响，可以适用于各个边缘角度的待测结构的三维重建，提高了高边缘角度的待测结构的三维重建的准确性，进而提升了对工艺质量的监控的准确性。
-
公开(公告)号：CN111583397B
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202010386588.4
申请日：2020-05-09
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本申请实施例提供了一种三维重建方法及装置，可以利用电子束扫描设备对待测结构进行扫描得到电子束图像，利用电子束成像模型，可以拟合得到电子束图像对应的模型参数，模型参数可以体现待测结构的三维特性，也就是说，可以对电子束图像进行处理获取到待测结构的三维特性，这样可以利用体现待测结构的三维特性的模型参数进行待测结构的三维重建。由于电子束成像模型可以对电子束图像进行拟合，依赖于模型参数和图像信息的对应关系，因此不受边缘角度的影响，可以适用于各个边缘角度的待测结构的三维重建，提高了高边缘角度的待测结构的三维重建的准确性，进而提升了对工艺质量的监控的准确性。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112099319B
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202010981385.X
申请日：2020-09-17
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: G03F7/20 , G06F30/392
Abstract: 本发明公开了亚分辨率辅助图形添加方法及装置、计算机可读存储介质。该方法包括：向初始的版图上添加亚分辨率辅助图形，在已添加的多个亚分辨率辅助图形符合设定的条件下分别计算多个亚分辨率辅助图形的评价值以及基于多个亚分辨率辅助图形的评价值清理相应的亚分辨率辅助图形，否则继续添加亚分辨率辅助图形；最后输出版图。该装置可包括辅助图形添加模块、评价值计算模块、辅助图形清理模块及最终版图输出模块。本发明创新地在亚分辨率辅助图形的添加过程中进行冲突清理，可有效避免所有亚分辨率辅助图形添加完成后再进行冲突清理的工作量和复杂度，而且本发明还能够获得更大的光刻工艺窗口，进而明显地提高目标图形的光刻成像对比度。
-
公开(公告)号：CN109683447B
公开(公告)日：2021-01-22
申请号：CN201910120122.7
申请日：2019-02-18
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本申请实施例公开了一种光源掩模协同优化初始光源的确定方法及装置，包括获取初始掩模图形，根据初始掩模图形的几何特征，得到与初始掩模图形相关的至少一个测试图形，在目标光源库中查找与测试图形对应的测试光源，其中，目标光源库包括测试图形和测试光源的对应关系，测试光源为与测试图形对应的经过优化的光源，根据查找到的测试光源的测试参数，可以确定初始光源的初始参数。相比于现有技术中将环形光源作为初始光源，本申请实施例中根据测试光源的测试参数确定的初始光源，更加接近初始掩模图形对应优化得到的最佳光源，因此，基于确定出的初始光源，可以减少光源掩模协同优化方法的迭代次数，提高优化效率。
-
公开(公告)号：CN111430261A
公开(公告)日：2020-07-17
申请号：CN202010435140.7
申请日：2020-05-21
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: H01L21/66 , H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 本申请实施例提供了一种工艺检测方法及装置，可以利用测试掩模进行第一光刻得到待测结构，对待测结构进行扫描得到测试图像，利用测试图像和第一光刻的光刻参数建立图像与光刻参数的关联关系，这样，在实际工艺中，可以利用实际掩模进行第二光刻得到实际结构，而后对实际结构进行扫描得到实际图像，基于前述建立的图像与光刻参数的关联关系，可以确定实际图像对应的预测光刻参数，这里的预测光刻参数是计算得到的理论上能够得到实际图像所利用的光刻参数，基于预测光刻参数与第二光刻的光刻参数可以确定工艺偏差值，作为工艺检测结果，在提高预测准确性的同时，还减少了实际工艺中的计算量，能够高效的实现工艺的准确检测。
-
公开(公告)号：CN112327575B
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202011181868.8
申请日：2020-10-29
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明涉及光刻工艺技术领域，具体涉及一种光刻仿真中斜线图形的光源掩模优化方法、工艺窗口形成方法以及光刻方法，包括以下步骤：将待优化的斜线图形朝第一旋转方向旋转，直至每根线条处于X方向或者Y方向，得到第一图形，进行光源优化处理，得到第一优化光源；对所述斜线图形进行均匀规则的曼哈顿台阶化处理，以将每根线条的两侧直线式边缘处理成均匀规则的曼哈顿台阶，得到第二图形；将第一优化光源朝第二旋转方向旋转，得到第二优化光源；将所述第二图形作为初始掩模图形，使用第二优化光源对其进行掩模优化处理。本申请的优化方法可以得到更好的工艺窗口和更好的曝光结果，从而降低了斜线评估方法带来的困扰。
-
公开(公告)号：CN114089595A
公开(公告)日：2022-02-25
申请号：CN202111322037.2
申请日：2021-11-09
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明涉及一种基于光源添加辅助图形的方法和装置，属于半导体技术领域，解决了现有基于规则的亚分辨率辅助图形无法适应光源因素的改变而导致的辅助图形添加不合理问题。该方法包括：获取基准光源的光源信息和与基准光源相对应的辅助图形添加规则列表；当光刻光源的光源信息不同于基准光源的光源信息时，基于光刻光源的光源信息修改辅助图形添加规则，以生成与光刻光源相对应的修改后的辅助图形添加规则列表；以及根据修改后的辅助图形添加规则列表获取用于版图的辅助图形添加规则并根据用于版图的辅助图形添加规则将待添加的辅助图形添加至版图中。降低了亚分辨率辅助图形添加的复杂性。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
13
records
(took 0.04 seconds)
