冷却系统、准分子激光器以及曝光设备

    公开(公告)号:CN114520456A

    公开(公告)日:2022-05-20

    申请号:CN202011308538.0

    申请日:2020-11-19

    IPC分类号: H01S3/041 H01S3/04 G03F7/20

    摘要: 本发明公开了一种冷却系统、准分子激光器以及曝光设备,该冷却系统包括气源和气体回收装置,气源用于向准分子激光器的线路压窄模块的内部供给氦气,以使线路压窄模块的内部维持在预设温度,气体回收装置用于回收且处理线路压窄模块的内部的氦气,气体回收装置与气源连通,以便将被处理后的氦气输送至气源。准分子激光器启动后,激光进入到线路压窄模块内,进入到线路压窄模块内的激光依次经过线路压窄模块内的光栅和棱镜,气源的氦气对光栅以及棱镜进行吹扫,吹扫后的氦气进入到气体回收装置,气体回收装置对氦气进行处理,并且被处理后的氦气再次输送至气源,实现了氦气的重复利用,减少了氦气的使用量,使得产品的制造成本得到了有效地降低。

    紧急按钮装置及具有其的设备
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112071685A

    公开(公告)日:2020-12-11

    申请号:CN202010702042.5

    申请日:2020-07-21

    IPC分类号: H01H13/02 H01H13/04 H01H13/14

    摘要: 本申请属于电气装置技术领域,具体涉及一种紧急按钮装置及具有其的设备,该紧急按钮装置包括壳体,壳体内设置有第一电连接结构,紧急按钮装置还包括升降组件,升降组件的一端伸至壳体内,且升降组件的一端设置有与第一电连接结构对应的第二电连接结构,升降组件处于下降状态时,第二电连接结构与第一电连接结构配合使紧急按钮装置处于正常状态,升降组件处于上升状态时,第二电连接结构与第一电连接结构配合使紧急按钮装置处于紧急状态。根据本申请的紧急按钮装置,升降组件处于下降状态时紧急按钮装置处于正常状态,升降组件处于上升状态时紧急按钮装置处于紧急状态,以此减少由于失误按压紧急按钮装置导致紧急按钮装置进入紧急状态的现象。

    检测及清理光掩模的玻璃面及膜面上的微尘的装置及方法

    公开(公告)号:CN112051273A

    公开(公告)日:2020-12-08

    申请号:CN202010763336.9

    申请日:2020-07-31

    IPC分类号: G01N21/94 G03F1/84 B08B5/02

    摘要: 本申请涉及一种检测及清理光掩模的玻璃面及膜面上的微尘的装置及方法。所述装置包括:装载单元,装载单元包括用于保持光掩模的保持部;检测单元,检测单元用于检测光掩模上的微尘;清理单元,清理单元用于对检测到的微尘进行清理。在应用微尘清理装置时,可以将待测的光掩模装载于装载单元,装载后的光掩模保持在保持部上,之后可以启动检测单元对光掩模上的微尘进行检测,待完成检测后,可以通过清理单元对微尘进行清理,从而去除光掩模上的微尘。利用本申请的微尘清理装置能够以连续的方式顺次对光掩模实施微尘检测和微尘清除的工作,使得微尘检测和微尘清除两项工作无缝衔接,由此,可以提高光掩模的微尘检测及清理过程的整体效率。

    紧急按钮装置及具有其的设备

    公开(公告)号:CN112071685B

    公开(公告)日:2023-06-16

    申请号:CN202010702042.5

    申请日:2020-07-21

    IPC分类号: H01H13/02 H01H13/04 H01H13/14

    摘要: 本申请属于电气装置技术领域,具体涉及一种紧急按钮装置及具有其的设备,该紧急按钮装置包括壳体,壳体内设置有第一电连接结构,紧急按钮装置还包括升降组件,升降组件的一端伸至壳体内,且升降组件的一端设置有与第一电连接结构对应的第二电连接结构,升降组件处于下降状态时,第二电连接结构与第一电连接结构配合使紧急按钮装置处于正常状态,升降组件处于上升状态时,第二电连接结构与第一电连接结构配合使紧急按钮装置处于紧急状态。根据本申请的紧急按钮装置,升降组件处于下降状态时紧急按钮装置处于正常状态,升降组件处于上升状态时紧急按钮装置处于紧急状态,以此减少由于失误按压紧急按钮装置导致紧急按钮装置进入紧急状态的现象。

    氢离子捕捉器、防硫酸铵系统、光刻系统及防硫酸铵方法

    公开(公告)号:CN111929990B

    公开(公告)日:2023-02-07

    申请号:CN202010761593.9

    申请日:2020-07-31

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 本申请公开了一种氢离子捕捉器、防硫酸铵系统、光刻系统及防硫酸铵方法,该防硫酸铵系统包括:薄膜,设置于掩模版的掩模底面上,与所述掩模底面围成一密闭空间,所述密闭空间包围所述掩模版的胶片;氢离子捕捉器,通过两条管道分别与所述密闭空间的两侧相连通;该氢离子捕捉器包括:壳体、设置在所述壳体内的电解质容器、水合凝胶层、电极、供电模块和水收集器。本申请的防硫酸铵系统,能够通过氢离子捕捉器去除空气中的氢离子,向薄膜与掩模版所围成的密闭空间内输入过滤掉氢离子的空气,通过空气将胶片在曝光时产生的氨排出,从而防止有害硫酸铵的生成,避免产生硫酸铵附着在胶片上的情况。

    用于曝光设备的调整装置、方法及曝光设备

    公开(公告)号:CN111443577B

    公开(公告)日:2023-04-07

    申请号:CN202010270647.1

    申请日:2020-04-08

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 本公开提供一种用于曝光设备的调整装置、方法及曝光设备。所述调整装置用于对工件台上放置的基板进行调整,所述基板表面预先被划分为多个测量区域,其包括:在光路上依次设置的光源、投影光栅、可调节反射镜、探测光栅和探测器模块;光源发出的光束经过投影光栅形成具有预设光斑图案的光束后,到达可调节反射镜;所述可调节反射镜将光束调整后照明所述工件台上放置的基板表面对应的测量区域;从所述基板表面反射的光束经所述探测光栅到达所述探测器模块;所述探测器模块根据探测到的光束信息计算调焦调平参数。该调整装置可以准确地对基板偏离量进行校正,可以减少曝光前的调焦调平时间,使得曝光设备的工作效率得到提升。

    晶圆工作台、光刻机及晶圆工作台温度调节方法

    公开(公告)号:CN114518690A

    公开(公告)日:2022-05-20

    申请号:CN202011303689.7

    申请日:2020-11-19

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 本申请公开了一种晶圆工作台、光刻机及晶圆工作台温度调节方法,该晶圆工作台包括载台、热电模块组件和控制模块,其中,载台用于放置晶圆;热电模块组件安装在载台上,用于调节载台以及晶圆的温度;控制模块与热电模块组件通信连接。本实施例提出的晶圆工作台通过在载台上安装热电模块组件,可以利用热电模块组件调节载台的温度,以及调节放置在载台上的晶圆的温度,避免载台和晶圆温度过低,以及避免载台和晶圆的不同部位产生温度差异,从而避免产品生产时套刻误差的产生,提高产品良率,解决了现有技术中通过热水循环调节存在的无法准确调节温度的问题。

    一种光刻设备及其状态调整方法、装置

    公开(公告)号:CN114384765A

    公开(公告)日:2022-04-22

    申请号:CN202011140775.0

    申请日:2020-10-22

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 本公开提供一种光刻设备及其状态调整方法、装置。本公开的光刻设备状态调整方法包括:根据标准晶圆对光刻设备进行聚焦检测,得到所述光刻设备的当前聚焦值;根据所述当前聚焦值和所述标准晶圆对应的初始聚焦值,对所述光刻设备进行状态调整;其中,所述标准晶圆是初始状态下的所述光刻设备根据所述初始聚焦值制作的。该方案的优点在于:将光刻设备最新的变化值补偿到设备里,从而保证聚焦值依然和最初一样;可去除因涂胶厚度变化等因素所造成的误测量的现象;由于不需要进行涂胶,能节省相关费用;由于不需要在光刻机上进行曝光,聚焦需要的时间减少。