用于控制和调节膝骨关节炎光治疗剂量的系统和方法

    公开(公告)号:CN116312955A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202310319095.2

    申请日:2023-03-29

    IPC分类号: G16H20/40 A61N5/06 G16H70/00

    摘要: 本发明公开了一种用于控制和调节膝骨关节炎光治疗剂量的系统和方法,系统包括膝关节样本数据库、膝关节光剂量分析模块、可调节光治疗模块。膝关节样本数据库统计了不同特征的膝关节结构及光学特性参数。膝关节光穿透分析模块用于判断治疗光在膝关节中的传输情况,并提供光治疗最佳参数至可调节光治疗模块。可调节光治疗模块包含控制电路和光源阵列,控制电路根据接收到的治疗参数改变光源阵列的照射时间及出光功率,使膝关节内的治疗靶点接收到合适的光剂量。本发明相比现有产品,能对不同患者进行差异化治疗剂量调节,降低患者治疗光剂量过度或不足的风险,且基于膝关节样本数据库的模型分析方法运算速度快,操作简便,具有很好的临床推广价值。

    用于控制和调节膝骨关节炎光治疗剂量的系统和方法

    公开(公告)号:CN116312955B

    公开(公告)日:2023-10-20

    申请号:CN202310319095.2

    申请日:2023-03-29

    IPC分类号: G16H20/40 A61N5/06 G16H70/00

    摘要: 本发明公开了一种用于控制和调节膝骨关节炎光治疗剂量的系统和方法,系统包括膝关节样本数据库、膝关节光剂量分析模块、可调节光治疗模块。膝关节样本数据库统计了不同特征的膝关节结构及光学特性参数。膝关节光穿透分析模块用于判断治疗光在膝关节中的传输情况,并提供光治疗最佳参数至可调节光治疗模块。可调节光治疗模块包含控制电路和光源阵列,控制电路根据接收到的治疗参数改变光源阵列的照射时间及出光功率,使膝关节内的治疗靶点接收到合适的光剂量。本发明相比现有产品,能对不同患者进行差异化治疗剂量调节,降低患者治疗光剂量过度或不足的风险,且基于膝关节样本数据库的模型分析方法运算速度快,操作简便,具有很好的临床推广价值。