球形氧化锆粉体的连续生产设备及其生产方法

    公开(公告)号:CN101074114A

    公开(公告)日:2007-11-21

    申请号:CN200610081426.X

    申请日:2006-05-19

    Abstract: 本发明涉及采用分子薄层氨化法制备超细球形ZrO2粉体的连续生产设备及其生产方法。一安装在支架上的大圆辊的一侧有一个以上的安装在支架上的小圆辊,并且大圆辊与小圆辊相切;在大圆辊的另一侧圆辊边上有通过管路与乙醇罐相连通的喷射头;在大圆辊的上部,且在小圆辊与喷射头之间有安装在支架上的一个以上的加热器,在加热器的上方安装有气体收集器;在大圆辊的下方有一原料槽及产品收集器,且大圆辊的底部与原料槽中的原料液相接触。本发明的方法是利用本发明的设备,该方法以氧氯化锆醇溶液为原料,与氨气直接反应得到氢氧化锆,煅烧连续制备球形氧化锆超细粉体,其粒径在几个纳米到三十个纳米范围内调控,且具有良好的分散性。

    球形Zr(OH)4微颗粒的真空反应负压输送连续化制备装置

    公开(公告)号:CN1572727A

    公开(公告)日:2005-02-02

    申请号:CN200410042714.5

    申请日:2002-05-14

    Abstract: 本发明涉及的球形Zr(OH)4微颗粒的真空反应负压输送连续化制备装置,包括雾化发生器、真空反应器、颗粒收集器和抽真空装置,雾化发生器上端通过乳胶管和位于真空反应器顶部的雾滴导流管与真空反应器相连通,真空反应器底部通过位于其底部向上弯曲的氨气导流管和乳胶管与氨气瓶相连通,真空反应器上部通过乳胶管与颗粒收集器相连通;抽真空装置与颗粒收集器上部相连通;所述雾化发生器内顶部设有圆形细孔筛板;所述雾滴导流管伸至真空反应器的中部。该装置结构简单,使用方便工艺操作方便,适用于球形Zr(OH)4微颗粒的规模化、连续化生产。

    一种气体旋转脉动分布的气固相反应装置

    公开(公告)号:CN102284260A

    公开(公告)日:2011-12-21

    申请号:CN201110160299.3

    申请日:2011-06-15

    Abstract: 本发明涉及一种具有气体旋转脉动分布功能的气固相反应装置,属于冶金设备技术领域。其包括一个下部接在旋转电机上的侧路进气的管式气体分布器和一个固定的气体分布板,气源为脉冲气源。在旋转的管式气体分布器和固定气体分布板之间为缠绕的电阻丝加热热源,使反应气体加热到达反应设定温度。在固定气体分布板的上部放置需要反应的固体粉末原料和所需要的惰性反应填料如氧化铝和氧化锆球等。本装置适用于气固两相反应,气体的脉动输入和管式气体分布器的旋转气体分布有效的改善气体在固相反应物和惰性填料之间的流动分布方式,以达到增加气固两相接触界面,有效抑制沟流等有害现象的发生,达到提高反应速率,降低气体消耗量的作用。

    一种气体旋转脉动分布的气固相反应装置

    公开(公告)号:CN102284260B

    公开(公告)日:2013-06-12

    申请号:CN201110160299.3

    申请日:2011-06-15

    Abstract: 本发明涉及一种具有气体旋转脉动分布功能的气固相反应装置,属于冶金设备技术领域。其包括一个下部接在旋转电机上的侧路进气的管式气体分布器和一个固定的气体分布板,气源为脉冲气源。在旋转的管式气体分布器和固定气体分布板之间为缠绕的电阻丝加热热源,使反应气体加热到达反应设定温度。在固定气体分布板的上部放置需要反应的固体粉末原料和所需要的惰性反应填料如氧化铝和氧化锆球等。本装置适用于气固两相反应,气体的脉动输入和管式气体分布器的旋转气体分布有效的改善气体在固相反应物和惰性填料之间的流动分布方式,以达到增加气固两相接触界面,有效抑制沟流等有害现象的发生,达到提高反应速率,降低气体消耗量的作用。

    球形Zr(OH)4纳米粒子的准气相法连续化制备方法及制备装置

    公开(公告)号:CN1186263C

    公开(公告)日:2005-01-26

    申请号:CN02117183.1

    申请日:2002-04-25

    Abstract: 本发明的球形Zr(OH)4纳米粒子的准气相法连续化制备方法,步骤是:1)将锆盐溶液压入密闭雾化发生器中进行雾化;2)将雾化的锆盐溶液微细雾滴和纯氨气同时导入反应器中,发生沉淀反应,生成球形Zr(OH)4纳米粒子;3)将生成的球形Zr(OH)4纳米粒子导入装有溶剂的颗粒收集器中进行回收;装置包括雾化发生器、反应器、颗粒收集器,雾化发生器上端通过乳胶管与保护性气体瓶相通,通过乳胶管和位于反应器顶部的雾滴导流管与反应器相通,反应器底部通过位于底部向上弯曲的氨气导流管和乳胶管与氨气瓶相通,反应器上部通过乳胶管与颗粒收集器相通;雾化发生器内顶部设圆形细孔筛板;雾滴导流管伸至反应器中部;其结构简单,工艺操作方便,可规模化、连续化生产。

    球形Zr(OH)4微颗粒的真空反应负压输送连续化制备方法

    公开(公告)号:CN1183039C

    公开(公告)日:2005-01-05

    申请号:CN02117654.X

    申请日:2002-05-14

    Abstract: 本发明的球形Zr(OH)4纳米粒子的准气相法连续化制备方法,步骤是:1)将锆盐溶液压入密闭雾化发生器中进行雾化;2)将雾化的锆盐溶液微细雾滴和纯氨气同时导入真空反应器中,发生沉淀反应,生成球形Zr(OH)4微颗粒;3)将生成的球形Zr(OH)4微颗粒导入装有溶剂的颗粒收集器中进行回收;装置包括雾化发生器、真空反应器、颗粒收集器和抽真空装置,雾化发生器与真空反应器相通,反应器底部通过位于底部向上弯曲的氨气导流管和乳胶管与氨气瓶相通,反应器上部通过乳胶管与颗粒收集器相通;雾化发生器内顶部设圆形细孔筛板;雾滴导流管伸至反应器中部;其结构简单,工艺操作方便,可规模化、连续化生产。

    氧化锆颗粒呈膜的原位造型制备方法

    公开(公告)号:CN100522822C

    公开(公告)日:2009-08-05

    申请号:CN200610011887.X

    申请日:2006-05-12

    Abstract: 本发明属于粉体合成及表面工程领域,特别涉及一种氧化锆颗粒呈膜状原位造型制备方法。本发明提供的方法是以氧氯化锆醇溶液原料,无灰份的滤纸等无灰型物质为载体,氧氯化锆与氨气直接反应得到氢氧化锆,经煅烧原位制备氧化锆薄膜,其厚度调控。本发明具有采用无灰份的滤纸等无灰型物质为载体原位制备氧化锆薄膜,充分利用了载体无灰的特性,通过对载体涂层的控制,从而调控了氧化锆薄膜的厚度;工艺流程简单,操作简便且无污染;通过对载体的更换,可直接达到对不同载体表面进行涂层的目的,使成膜工艺更简单,操作成本更低,膜形成过程中不引入其它杂质。

    分子薄层氨化法制备球形氧化锆粉体的方法

    公开(公告)号:CN100460335C

    公开(公告)日:2009-02-11

    申请号:CN200610081427.4

    申请日:2006-05-19

    Abstract: 本发明属于粉体合成领域,特别涉及一种采用分子薄膜氨化法制备超细球形ZrO2粉体的方法。本发明提供的方法是以氧氯化锆醇溶液为原料,利用密闭反应器中的两薄板进行挤压和相互平推两薄板之间的氧氯化锆醇溶液,使氧氯化锆醇溶液排出微小气泡形成分子薄层;使上下层薄板的下上表面带有的氧氯化锆醇溶液与通入反应器中的氨气反应;在不同温度下,煅烧上下层薄板及其反应结束后的产物,得到球形氧化锆超细粉体,其粒度在几个纳米到三十个纳米范围内调控,且具有良好的分散性。本发明充分利用了溶液分子薄层的特性,通过对原料浓度的控制,从而调控了产物粒度分布。本方法工艺流程简单,生产成本低廉,通过对物质内循环实现污染零排放。

    分子薄层氨化法制备球形氧化锆粉体的方法

    公开(公告)号:CN101074115A

    公开(公告)日:2007-11-21

    申请号:CN200610081427.4

    申请日:2006-05-19

    Abstract: 本发明属于粉体合成领域,特别涉及一种采用分子薄膜氨化法制备超细球形ZrO2粉体的方法。本发明提供的方法是以氧氯化锆醇溶液为原料,利用密闭反应器中的两模板进行挤压和相互平推两模板之间的氧氯化锆醇溶液,使氧氯化锆醇溶液排出微小气泡形成分子薄层;使上下层薄板的下上表面带有的氧氯化锆醇溶液与通入反应器中的氨气反应;在不同温度下,煅烧上下层薄板及其反应结束后的产物,得到球形氧化锆超细粉体,其粒度在几个纳米到三十个纳米范围内调控,且具有良好的分散性。本发明充分利用了溶液分子薄层的特性,通过对原料浓度的控制,从而调控了产物粒度分布。本方法工艺流程简单,生产成本低廉,通过对物质内循环实现污染零排放。

    氧化锆颗粒呈膜的原位造型制备方法

    公开(公告)号:CN101070185A

    公开(公告)日:2007-11-14

    申请号:CN200610011887.X

    申请日:2006-05-12

    Abstract: 本发明属于粉体合成及表面工程领域,特别涉及一种氧化锆颗粒呈膜状原位造型制备方法。本发明提供的方法是以氧氯化锆醇溶液原料,无灰份的滤纸等无灰型物质为载体,氧氯化锆与氨气直接反应得到氢氧化锆,经煅烧原位制备氧化锆薄膜,其厚度调控。本发明具有采用无灰份的滤纸等无灰型物质为载体原位制备氧化锆薄膜,充分利用了载体无灰的特性,通过对载体涂层的控制,从而调控了氧化锆薄膜的厚度;工艺流程简单,操作简便且无污染;通过对载体的更换,可直接达到对不同载体表面进行涂层的目的,使成膜工艺更简单,操作成本更低,膜形成过程中不引入其它杂质。

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