一种小间隙超导腔内表面高压冲洗设备

    公开(公告)号:CN110328176A

    公开(公告)日:2019-10-15

    申请号:CN201910609127.6

    申请日:2019-07-08

    IPC分类号: B08B3/02

    摘要: 本发明涉及一种小间隙超导腔内表面高压冲洗设备,其特征在于,包括支撑架、上支撑台面、旋转平台、喷杆、平台驱动装置、喷杆驱动装置、高压隔膜泵和控制系统;支撑架的顶部固定连接上支撑台面,上支撑台面的顶部设置有旋转平台;支撑架和上支撑台面的中心均开设有用于喷杆往复运动的第一通孔,旋转平台的中心开设有用于喷杆往复运动的第二通孔,上支撑台面的第一通孔和第二通孔上分别设置有用于定位支撑喷杆的导套,喷杆的顶部设置有喷头,喷杆的底部连接高压隔膜泵;支撑架上设置有平台驱动装置和喷杆驱动装置;高压隔膜泵、平台驱动装置和喷杆驱动装置还分别电连接控制系统,本发明可以广泛应用于加速器制造技术领域中。

    一种旋转动密封结构及旋转电解抛光装置

    公开(公告)号:CN111237464A

    公开(公告)日:2020-06-05

    申请号:CN202010049918.0

    申请日:2020-01-16

    摘要: 本发明涉及一种旋转动密封结构及旋转电解抛光装置。本发明所述旋转动密封结构在定子和转子的密封连接处采用双唇型结构动密封圈,该动密封圈的材料为聚四氟乙烯材料,所述旋转动密封结构在定子和转子的轴肩连接处采用滑动轴承连接,所述旋转动密封结构在定子和转子的内外圈相对转动处采用深沟球轴承连接。本发明所述旋转动密封装置及旋转电解抛光装置,既具有耐腐蚀的特点,又可以保障装置的同轴度等工艺参数,具备可靠和安全性等特点,其解决了强腐蚀电解质环境下尤其是大通径工件的内表面旋转电解化学抛光工艺的实现问题。

    超导腔整腔表面化学缓冲全自动抛光系统及方法

    公开(公告)号:CN107699899A

    公开(公告)日:2018-02-16

    申请号:CN201711006578.8

    申请日:2017-10-25

    IPC分类号: C23F3/06 C23F1/08

    CPC分类号: C23F3/06 C23F1/08

    摘要: 本发明涉及离子加速器超导腔加工技术领域,尤其是涉及一种超导腔整腔表面化学缓冲全自动抛光系统及方法。其特点是包括混酸槽,混酸槽上端通过管路与制冷机组相连,混酸槽内设置有热交换器,混酸槽下端通过管路与酸液输送泵相连,酸液输送泵通过管路与过滤器相连,过滤器通过管路与超导腔下端和超纯水水泵相连,超纯水水泵通过管路与超纯水水箱相连,超导腔上端通过管路分别与混酸槽上端和观察窗相连,高纯氮气罐通过管路与混酸槽与超导腔之间的管路相连;其通过采用计算机对酸液的流量、流速、温度、压力和时间进行严格控制,可以实现多型号超导腔的化学缓冲抛光。而且具有很强的抗腐蚀性、高度的安全性、可靠性、可控性和易操作性。

    一种清洗超导腔的装置及清洗方法

    公开(公告)号:CN111203410A

    公开(公告)日:2020-05-29

    申请号:CN202010021601.6

    申请日:2020-01-08

    IPC分类号: B08B3/12

    摘要: 本发明涉及一种清洗超导腔的装置及清洗方法,所述装置包括立式超声波发生槽和超导腔进/排液管路,其中,所述立式超声波发生槽包括槽体和超声振子,所述槽体为立式可封闭槽,所述槽体内部适于容纳所述超导腔,所述槽体的外表面布有所述超声振子,所述槽体设有超导腔管路接口;所述超导腔进/排液管路包括进液管路和排液管路,所述进液管路和排液管路分别通过所述超导腔管路接口与所述超导腔连接。本发明可实现对各类超导腔安全、可靠、无死角、无风险的清洗,并可降低设备采购和运行维护成本。

    一种超导腔零部件表面化学缓冲全自动抛光设备

    公开(公告)号:CN109943851A

    公开(公告)日:2019-06-28

    申请号:CN201910333215.8

    申请日:2019-04-24

    IPC分类号: C23F3/00 C23G3/00

    摘要: 本发明涉及一种超导腔零部件表面化学缓冲全自动抛光设备,其包括:密闭装置、零部件装载装置、水洗装置、酸洗装置、机械手装置以及计算机控制显示系统;密闭装置内设置有等待工位、酸洗工位和水洗工位;零部件装载装置用于装载待抛光的各零部件;酸洗装置设置在酸洗工位,用于对零部件装载装置内的待抛光零部件进行酸洗操作;水洗装置设置在水洗工位,用于对零部件装载装置内的抛光后的零部件进行水洗操作;机械手装置设置在密闭装置上部,用于将零部件装载装置在等待工位、酸洗工位和水洗工位之间移动,完成酸洗操作和水洗操作后将零部件装载装置移动到等待工位。本发明可以广泛应用于超导腔零部件表面化学缓冲抛光领域。

    超导腔整腔表面化学缓冲全自动抛光系统及方法

    公开(公告)号:CN107699899B

    公开(公告)日:2023-11-17

    申请号:CN201711006578.8

    申请日:2017-10-25

    IPC分类号: H10N60/01

    摘要: 本发明涉及离子加速器超导腔加工技术领域,尤其是涉及一种超导腔整腔表面化学缓冲全自动抛光系统及方法。其特点是包括混酸槽,混酸槽上端通过管路与制冷机组相连,混酸槽内设置有热交换器,混酸槽下端通过管路与酸液输送泵相连,酸液输送泵通过管路与过滤器相连,过滤器通过管路与超导腔下端和超纯水水泵相连,超纯水水泵通过管路与超纯水水箱相连,超导腔上端通过管路分别与混酸槽上端和观察窗相连,高纯氮气罐通过管路与混酸槽与超导腔之间的管路相连;其通过采用计算机对酸液的流量、流速、温度、压力和时间进行严格控制,可以实现多型号超导腔的化学缓冲抛光。而且具有很强的抗腐蚀性、高度的安全性、可靠性、可控性和易操作性。

    一种铜基厚壁Nb3Sn薄膜超导腔及其制备方法

    公开(公告)号:CN113373404B

    公开(公告)日:2022-09-27

    申请号:CN202110647650.5

    申请日:2021-06-10

    摘要: 本发明公开了一种铜基厚壁Nb3Sn薄膜超导腔及其制备方法,属于超导技术领域。本发明的铜基厚壁Nb3Sn薄膜超导腔的制备方法,包括如下步骤:(1)采用锡蒸汽扩散法由纯铌超导腔制备铌基Nb3Sn薄膜超导腔;(2)在所述铌基Nb3Sn薄膜超导腔外表面沉积铜层;(3)在沉积了铜层的铌基Nb3Sn薄膜超导腔外表面电镀无氧铜,即得到所述铜基厚壁Nb3Sn薄膜超导腔。该方法通过在铌基Nb3Sn薄膜超导腔外表面以电镀无氧铜的方式制备得到铜基厚壁Nb3Sn薄膜超导腔,成功避免了铜熔点低无法生成高质量Nb3Sn薄膜的缺点;且电镀的无氧铜致密度高、孔隙率低、热反应小。