一种无氰镀铜工艺
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117210892A

    公开(公告)日:2023-12-12

    申请号:CN202311234825.5

    申请日:2023-09-22

    IPC分类号: C25D3/38 C25D5/00 C25D7/00

    摘要: 本发明涉及电镀技术领域,尤其是涉及一种无氰镀铜工艺。采用的镀铜溶液包括硫酸铜38‑42g/L、羟基乙叉二膦酸3‑8‑42g/L、碳酸钾58‑62g/L、氢氧化钾9‑11g/L、主光剂0.2‑0.3mL/L、整平剂0.25‑0.35mL/L、开缸剂0.2‑0.3mL/L。采用的镀铜溶液不含氰,成分简单,消除了含氰物质对人体及环境的危害;添加的微量光亮剂、整平剂、开缸剂能够使镀铜溶液具有较好的分散能力,提高了不规则球形工件表面镀层厚度的均匀性。

    一种氧化钇复合涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN117259762A

    公开(公告)日:2023-12-22

    申请号:CN202311236342.9

    申请日:2023-09-22

    摘要: 本发明涉及金属材料表面处理技术领域,尤其是涉及一种氧化钇复合涂层及其制备方法,制备方法包括以下步骤:将铌合金基体进行前处理,保持清洁;配制Nb料浆;配制Nb+Y2O3复合料浆,配制Y2O3料浆,将清洁后的铌合金基体取出,用刷子先将Nb料浆均匀涂覆在铌合金基体表面并阴干,再涂覆Y2O3+Nb的复合料浆并阴干,最后涂覆Y2O3料浆;待涂覆的料浆阴干后放入真空干燥箱中,在真空条件下对料浆进行干燥,防止料浆在烧结过程中由于温度升高过快而开裂;在管式烧结炉中对料浆进行烧结,随后随炉冷却,在铌合金基体表面获得氧化钇涂层。改善了金属和陶瓷热膨胀系数不匹配的不利因素,在铌合金基体表面制备了致密、结合强度高的氧化钇涂层。

    一种提升管内壁磁控溅射镀膜结合力的方法

    公开(公告)号:CN116162889A

    公开(公告)日:2023-05-26

    申请号:CN202211104017.2

    申请日:2022-09-09

    摘要: 本发明涉及真空镀膜技术领域,尤其是涉及一种提升管内壁磁控溅射镀膜结合力的方法。本发明首先去除管工件表面锈斑、油渍和灰尘,后处理得到预处理件;然后将预处理件装炉后高真空烘烤去除预处理件表面吸附的气体和残留有机物;最后将高真空烘烤的预处理件经柱靶磁控溅射镀膜后从炉中取出。本发明的一种提升管内壁磁控溅射镀膜结合力的方法通过细化管工件预处理流程,获得了更加洁净的管工件表面,同时在试验前增加管工件高真空烘烤步骤,在预处理的基础上进一步清洁管工件表面,除去了管工件表面吸附的气体及油污,有利于提高薄膜结合力,还提高了镀膜开始前管工件表面的温度,这也有利于溅射的靶材原子与管工件紧密结合。