一种非真空无掩膜的高电导率金属纳米线的加工方法

    公开(公告)号:CN104625420A

    公开(公告)日:2015-05-20

    申请号:CN201410830123.8

    申请日:2014-12-29

    IPC分类号: B23K26/36 B23K26/064

    摘要: 本发明涉及一种非真空无掩膜的高电导率金属纳米线的加工方法,属于微纳加工领域。该方法使用飞秒激光进行加工。首先对入射激光进行整形产生双光点光束,然后通过三维位移平台控制样品的位置,使得双光电光束与样品之间相对运动形成加工图案。通过控制聚焦平面与样品表面之间的距离控制线宽。该方法无需在真空条件下加工,降低对加工环境的要求,有利于成本的降低;无需掩膜,从而减少加工步骤,提高加工效率;金属纳米线由较为成熟的电子束蒸镀的方法产生,内部不存在纳米间隙,电导率较高;且金属纳米线的宽度可以大范围调节。该方法提供了一种可靠、高效、灵活的金属纳米线加工方法。

    一种非真空无掩膜的高电导率金属纳米线的加工装置

    公开(公告)号:CN104625420B

    公开(公告)日:2016-11-30

    申请号:CN201410830123.8

    申请日:2014-12-29

    IPC分类号: B23K26/36 B23K26/064

    摘要: 本发明涉及一种非真空无掩膜的高电导率金属纳米线的加工装置,属于微纳加工领域。该装置使用飞秒激光进行加工。首先对入射激光进行整形产生双光点光束,然后通过三维位移平台控制样品的位置,使得双光电光束与样品之间相对运动形成加工图案。通过控制聚焦平面与样品表面之间的距离控制线宽。该装置无需在真空条件下加工,降低对加工环境的要求,有利于成本的降低;无需掩膜,从而减少加工步骤,提高加工效率;金属纳米线由较为成熟的电子束蒸镀的方法产生,内部不存在纳米间隙,电导率较高;且金属纳米线的宽度可以大范围调节。该装置提供了一种可靠、高效、灵活的金属纳米线加工装置。