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公开(公告)号：CN109739044A
公开(公告)日：2019-05-10
申请号：CN201910195249.5
申请日：2019-03-14
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G02F1/1335
摘要： 本发明提供一种彩膜基板及其制备方法，以及包括该彩膜基板的全反射显示面板及显示装置。彩膜基板包括衬底基板、黑矩阵层、透光层、多个反射片和多个单向透射片，其中，黑矩阵层设于衬底基板的第一侧，透光层设于衬底基板的第二侧；或，黑矩阵层和透光层均设于衬底基板的第一侧，且透光层设于衬底基板和黑矩阵层之间；或，黑矩阵层和透光层均设于衬底基板的第二侧，且黑矩阵层设于衬底基板和透光层之间，反射片和单向透射片设于透光层内，通过反射片和单向透射片的配合将入射光线均导入黑矩阵的透光部，进而传递给反射层，提高了光线的利用率，且不影响光线的出射，提高了光线的反射率，进而实现提高显示亮度的目的。
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公开(公告)号：CN107658294A
公开(公告)日：2018-02-02
申请号：CN201710987228.8
申请日：2017-10-20
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
CPC分类号： H01L27/0248 , H01L21/77
摘要： 本公开涉及显示领域，提供了一种阵列基板及其制造方法、显示面板及显示装置，所述阵列基板的制造方法包括：提供一具有像素区和扇出区的阵列基板；在所述扇出区中形成第一布线区、第二布线区及位于所述第一布线区和所述第二布线区之间的悬空区，并与所述像素区相接；在所述悬空区中形成一薄膜虚拟金属线；图案化所述薄膜虚拟金属线。通过图案化所述薄膜虚拟金属线，一方面减少了静电积累，防止或杜绝了静电击穿的产生；另一方面避免了在对配向膜摩擦取向时产生Rubbing Mura，提高了产品的性能。另外去除薄膜虚拟金属线的方法简单，减少了阵列基板的加工工艺、降低了制造成本。
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公开(公告)号：CN108257974B
公开(公告)日：2021-08-31
申请号：CN201810002772.7
申请日：2018-01-02
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H01L27/12 , H01L27/02 , H01L21/77 , G02F1/1362
摘要： 本发明公开了阵列基板、显示装置以及制备阵列基板的方法。具体的，本发明提出了一种阵列基板，包括：衬底，所述衬底上限定出显示区以及非显示区；多个连接端以及金属结构，所述连接端以及所述金属结构设置在所述非显示区中；以及防静电保护层，所述防静电保护层设置在所述非显示区中，以及其中，所述防静电保护层覆盖所述金属结构远离所述衬底一侧且未被其他结构覆盖的表面，以及所述连接端远离所述衬底一侧表面的至多一部分。由此，该防静电保护层可以防止阵列基板的非显示区在刻蚀过程中产生静电积累，进而避免了该积累的静电传递到显示区影响显示区的性能，从而提高了该阵列基板的性能以及产品良率。
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公开(公告)号：CN108493194B
公开(公告)日：2020-07-24
申请号：CN201810269512.6
申请日：2018-03-28
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H01L27/12 , G02F1/1368
摘要： 本发明公开了一种阵列基板、显示面板。阵列基板包括依次设置的第一金属层、第一绝缘层、第二金属层和第二绝缘层，还包括暴露第一金属层的第一过孔和暴露第二金属层的第二过孔，还包括与第二金属层同层设置的辅助金属块和暴露辅助金属块的辅助过孔，第一过孔、第二过孔和辅助过孔采用一次刻蚀工艺形成。当刻蚀第二绝缘层后，在形成第一过孔而刻蚀第一绝缘层的过程中，第二过孔和辅助过孔暴露出的金属的刻蚀面积之和大于第二过孔暴露出的金属的刻蚀面积，增加了对第二金属层的刻蚀负载，降低了第二过孔处的第二金属层的刻蚀速率，降低了第二过孔的过刻，避免了集成电路与数据线的接触电阻增大，提高了显示面板的产品良率。
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公开(公告)号：CN106990632A
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201710245108.0
申请日：2017-04-14
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G02F1/1362
CPC分类号： G02F1/1362 , G02F1/136227
摘要： 本公开提供一种阵列基板及显示装置。该阵列基板包括薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括栅电极层、源漏层，所述源漏层位于所述栅电极层上方，其中所述栅电极层过孔平台与所述源漏层过孔平台至少部分重合设置。本公开可以降低阵列基板的过孔平台数量，提高UV透过率。
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公开(公告)号：CN106782249A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201710025920.2
申请日：2017-01-13
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G09G3/00
摘要： 本发明公开了一种显示面板、其电学检测方法及显示装置，该显示面板将相邻的两条第一引线和两条第二引线分别对应连接奇数列的数据线和偶数列的数据线，即以相邻四条数据线为一组，第一条数据线的信号由第一引线引入，第二条数据线和第三条数据线的信号由第二引线引入，第四条数据线的信号由第一引线引入，依此类推，最终使得相邻的第一引线和相邻的第二引线均对应奇偶交替的数据线；同时将相邻第一引线和相邻第二引线输入的电信号设置为极性相反，这样相邻的两条第一引线或相邻的两条第二引线发生短路时，发生短路的相邻两条引线对应的数据线上的电信号压差为零，在灰阶显示下可以被检测出，从而可以有效监控显示面板周边区域引线发生的短路不良。
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公开(公告)号：CN118131560A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202410317126.5
申请日：2024-03-19
申请人： 北京京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G03F1/00 , G03F7/20 , G02F1/1362 , H01L27/12
摘要： 本申请提供一种掩膜版、阵列基板的制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，所述掩膜版包括第一曝光区，以及环绕所述第一曝光区外围的第二曝光区和第三曝光区，所述第二曝光区位于所述第一曝光区与所述第三曝光区之间；所述第一曝光区包括多个第一掩膜图案，所述第二曝光区包括多个第二掩膜图案，不同第一掩膜图案的尺寸大致相同，不同第二掩膜图案的尺寸大致相同，所述第一掩膜图案和所述第二掩膜图案的尺寸不同。
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公开(公告)号：CN106782249B
公开(公告)日：2020-08-18
申请号：CN201710025920.2
申请日：2017-01-13
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G09G3/00
摘要： 本发明公开了一种显示面板、其电学检测方法及显示装置，该显示面板将相邻的两条第一引线和两条第二引线分别对应连接奇数列的数据线和偶数列的数据线，即以相邻四条数据线为一组，第一条数据线的信号由第一引线引入，第二条数据线和第三条数据线的信号由第二引线引入，第四条数据线的信号由第一引线引入，依此类推，最终使得相邻的第一引线和相邻的第二引线均对应奇偶交替的数据线；同时将相邻第一引线和相邻第二引线输入的电信号设置为极性相反，这样相邻的两条第一引线或相邻的两条第二引线发生短路时，发生短路的相邻两条引线对应的数据线上的电信号压差为零，在灰阶显示下可以被检测出，从而可以有效监控显示面板周边区域引线发生的短路不良。
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公开(公告)号：CN110595648A
公开(公告)日：2019-12-20
申请号：CN201910868217.7
申请日：2019-09-12
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种压力传感器和压力传感器的制备方法，包括第一衬底，所述第一衬底上设置有相互独立的第一电极和第二电极；第二衬底，所述第二衬底上设置有公共电极；所述第一电极及所述第二电极在所述第二衬底上的正投影均与所述公共电极在所述第二衬底上的正投影至少部分重叠；所述第一衬底与所述第二衬底之间封装有流体介质，所述第一电极可与所述流体介质及所述公共电极形成第一电容，所述第二电极可与所述流体介质及所述公共电极形成第二电容，所述流体介质可在外力作用下在所述第一电容和所述第二电容间流动。本发明所述的传感器不会发生器件的磨损，不会导致器件的寿命周期变短的问题，同时本发明使用的器件简单，降低了生产成本。
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公开(公告)号：CN103913863B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201410101610.0
申请日：2014-03-18
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种显示面板检测结构、显示面板及显示装置，属于显示技术领域，其可解决现有的显示面检测结构中的检测开关单元位置产生ESD的问题。本发明的显示面板检测结构，包括：数据信号端口、检测数据信号线、开关信号线，以及设置于检测数据信号线与开关信号线交叉处的检测开关单元，至少在所述显示面板检测结构的中心线靠近显示面板的第一个检测开关单元的一侧设置有与该检测开关单元处于同一行的一个冗余开关单元，所述冗余开关单元的一端与数据信号端口连接，另一端与冗余数据信号线连接，并通过所述开关信号线控制。
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