公开(公告)号：CN104099575B

公开(公告)日：2016-08-03

申请号：CN201410332106.1

申请日：2014-07-11

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方光电科技有限公司

发明人： 马海船 ,  辛旭 ,  陈晓斌 ,  刘鹏

IPC分类号： C23C14/35

摘要： 本发明实施例提供一种磁控溅射装置，涉及真空镀膜领域，可改善腔体内部的等离子体分布状态，提高镀膜均匀性。所述磁控溅射装置包括腔体、设置在所述腔体内的基板、靶材；还包括位于所述基板与所述靶材之间的屏蔽罩；所述屏蔽罩包括屏蔽罩支架与悬浮电位板；其中，所述屏蔽罩支架具有第一镂空区域；所述悬浮电位板具有第二镂空区域；所述悬浮电位板位于所述第一镂空区域内，且所述悬浮电位板与所述屏蔽罩支架相互绝缘。用于改善腔体内部的等离子体分布状态，提高镀膜均匀性的磁控溅射装置的制备。

公开(公告)号：CN104099575A

公开(公告)日：2014-10-15

申请号：CN201410332106.1

申请日：2014-07-11

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方光电科技有限公司

发明人： 马海船 ,  辛旭 ,  陈晓斌 ,  刘鹏

IPC分类号： C23C14/35

摘要： 本发明实施例提供一种磁控溅射装置，涉及真空镀膜领域，可改善腔体内部的等离子体分布状态，提高镀膜均匀性。所述磁控溅射装置包括腔体、设置在所述腔体内的基板、靶材；还包括位于所述基板与所述靶材之间的屏蔽罩；所述屏蔽罩包括屏蔽罩支架与悬浮电位板；其中，所述屏蔽罩支架具有第一镂空区域；所述悬浮电位板具有第二镂空区域；所述悬浮电位板位于所述第一镂空区域内，且所述悬浮电位板与所述屏蔽罩支架相互绝缘。用于改善腔体内部的等离子体分布状态，提高镀膜均匀性的磁控溅射装置的制备。

公开(公告)号：CN203923366U

公开(公告)日：2014-11-05

申请号：CN201420343637.6

申请日：2014-06-24

申请人： 北京京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 辛旭 ,  马海船 ,  陈晓斌

IPC分类号： C23C14/50

摘要： 本实用新型公开了一种基板夹和真空镀膜设备。该基板夹，包括：夹持器底座，安装在所述夹持器底座上的夹持器，安装在所述夹持器上的夹头，以及安装在所述夹持器底座上的工件基座；所述夹持器底座上设置有条形导轨，所述条形导轨上支撑放置所述工件基座，所述工件基座上设置有与所述夹持器可拆卸连接的定位件。本实用新型在基板夹底座上添加条形滑轨，利用条形导轨带动基板夹底座进行位置调整，确定好工件基座和夹头之间的开度值后，然后使用顶端联动的定位件进行定位，操作简单，简化操作人员工作，减少由于玻璃夹碎所导致的停机，提高设备嫁动率。

公开(公告)号：CN202543307U

公开(公告)日：2012-11-21

申请号：CN201220091459.3

申请日：2012-03-12

申请人： 北京京东方光电科技有限公司

发明人： 陈岩 ,  杜晓健 ,  陈晓斌

IPC分类号： C23C14/34

摘要： 本实用新型公开了一种溅射设备，包括真空腔体，所述真空腔体内有清洁装置，所述清洁装置包括：空间移动导轨、滑轮组、滑轮驱动马达、静电发生器、静电吸尘器、打磨装置、打磨装置驱动马达；其中，空间移动导轨设置在溅射设备真空腔体内；滑轮组一端连接空间移动导轨，另一端连接滑轮驱动马达；滑轮驱动马达一端连接滑轮组，另一端连接静电发生器；静电发生器一端连接滑轮驱动马达，另一端连接静电吸尘器；打磨装置驱动马达一端位于静电发生器与静电吸尘器的连接处，另一端连接打磨装置；通过本实用新型的方案，能够在不打开真空腔体的情况下，通过控制滑轮驱动马达不断调整打磨装置接触ITO靶材的位置，实现清洁ITO靶材，提高设备稼动率。