一种多层膜层图案、多层膜层图案的制作方法及阵列基板

    公开(公告)号:CN106783555B

    公开(公告)日:2019-12-03

    申请号:CN201710002753.X

    申请日:2017-01-03

    发明人: 陈磊 董宜萍 安杨

    IPC分类号: H01L21/027

    摘要: 本申请提供一种多层膜层图案、多层膜层图案的制作方法及阵列基板,以解决现有技术在通过一次成膜形成两层图案化的功能层膜层时,多层膜层图案的制作效率较低的问题。所述制作方法包括:在衬底上依次形成第一功能层薄膜和第二功能层薄膜;在所述第二功能层薄膜上形成图案化的第一光刻胶层;利用所述第一光刻胶层的遮挡,形成第二功能层的图案;在所述第一光刻胶层上形成图案化的第二光刻胶层;利用所述第二光刻胶层的遮挡,形成第一功能层的图案,其中,所述第一功能层的图案与所述第二功能层的图案在所述衬底上的正投影互不交叠;同时去除所述第二层光刻胶层和所述第一层光刻胶层。

    一种阵列基板制造方法及阵列基板

    公开(公告)号:CN106684039B

    公开(公告)日:2019-12-24

    申请号:CN201710067036.5

    申请日:2017-02-07

    IPC分类号: H01L21/82

    摘要: 本发明公开了一种阵列基板制造方法及阵列基板,属于显示器领域。所述方法包括:提供一基板;在所述基板上依次制作栅极层、栅极绝缘层、有源层、源漏极层和钝化层;在所述钝化层上形成一层光刻胶;将待形成栅极过孔的区域的光刻胶全部去除,并将待形成源极过孔的区域的光刻胶去除掉设定厚度,所述设定厚度小于所述光刻胶的总厚度;对光刻胶全部去除的区域进行刻蚀;将待形成源极过孔的区域的光刻胶全部去除;再次对光刻胶全部去除的区域进行刻蚀,直到露出源漏极层和栅极层。上述阵列基板制造方法在进行刻蚀时,没有造成源极出现过刻现象,保证了源极信号的正常传输。

    一种掩模板、阵列基板、显示面板及显示装置

    公开(公告)号:CN105974690B

    公开(公告)日:2019-04-26

    申请号:CN201610587218.0

    申请日:2016-07-22

    IPC分类号: G02F1/1343 G02F1/1362

    摘要: 本发明的实施例提供一种掩模板、阵列基板、显示面板及显示装置,涉及显示技术领域,可改善现有技术中公共电极与栅线或像素电极的短路问题。所述阵列基板包括设置在衬底上的栅线、公共电极线、以及公共电极和像素电极,公共电极通过公共电极过孔与公共电极线电连接;公共电极在与公共电极过孔对应的区域包括挖空部分和保留部分;保留部分位于靠近公共电极线的栅线和靠近公共电极线的像素电极之间,并通过公共电极过孔与公共电极线电连接;其中,保留部分与栅线和所述像素电极无交叠;挖空部分至少位于保留部分的靠近栅线的一侧且位于保留部分与栅线之间,和/或,挖空部分至少位于保留部分的靠近像素电极的一侧且位于保留部分与像素电极之间。