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公开(公告)号:CN206839498U
公开(公告)日:2018-01-05
申请号:CN201720765414.2
申请日:2017-06-28
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要: 本实用新型公开了一种在交互焊接工艺中使用的辅助治具和焊接固定设备,其中该辅助治具包括:衬底基板,所述衬底基板的上方设置有若干个凸起,所述凸起至少与待进行交互焊接工艺的第一待焊接结构和第二待焊接结构的交接处相对应。本实用新型提供的辅助治具可在进行交互焊接工艺时使得第一待焊接结构和第二待焊接结构在交界处紧密贴合,从而保证第一待焊接结构和第二待焊接结构在交界处能够被紧密焊接,有效避免出现虚焊的现象。
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公开(公告)号:CN207775334U
公开(公告)日:2018-08-28
申请号:CN201820003884.X
申请日:2018-01-02
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要: 本实用新型公开了一种子掩膜版及掩膜版,属于蒸镀设备领域。该子掩膜版包括图案区和两个夹持区,两个夹持区分别位于图案区相对的两侧,图案区和两个夹持区中的至少一个之间设有呈梯形的过渡区,过渡区的第一底边与夹持区连接,过渡区的第二底边与图案区连接,第一底边为过渡区的较长的底边,第二底边为过渡区的较短的底边,在通过张网机夹持住两个夹持区进行拉伸时,过渡区上会产生沿过渡区的腰的延伸方向的拉力,由于拉力的方向与图案区的长度方向的夹角大于0,因此该拉力会产生垂直于图案区的长度方向的分力,从而降低图案区产生褶皱的可能,这样子掩膜版制作成FMM后,FMM的褶皱较少,从而提高了FMM的平坦度。
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