子掩膜版及掩膜版
    2.
    实用新型

    公开(公告)号:CN207775334U

    公开(公告)日:2018-08-28

    申请号:CN201820003884.X

    申请日:2018-01-02

    IPC分类号: C23C14/04 C23C14/24

    摘要: 本实用新型公开了一种子掩膜版及掩膜版,属于蒸镀设备领域。该子掩膜版包括图案区和两个夹持区,两个夹持区分别位于图案区相对的两侧,图案区和两个夹持区中的至少一个之间设有呈梯形的过渡区,过渡区的第一底边与夹持区连接,过渡区的第二底边与图案区连接,第一底边为过渡区的较长的底边,第二底边为过渡区的较短的底边,在通过张网机夹持住两个夹持区进行拉伸时,过渡区上会产生沿过渡区的腰的延伸方向的拉力,由于拉力的方向与图案区的长度方向的夹角大于0,因此该拉力会产生垂直于图案区的长度方向的分力,从而降低图案区产生褶皱的可能,这样子掩膜版制作成FMM后,FMM的褶皱较少,从而提高了FMM的平坦度。