-
公开(公告)号：CN111471960A
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：CN202010518444.X
申请日：2020-06-09
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种掩膜板以及制备方法，涉及显示技术领域。掩膜板包括框架和设置于框架上的对位条，框架包括两条相对设置的第一框边和两条相对设置的第二框边，第一框边和第二框边围成框架，第一框边和第二框边包括相对设置的第一表面和第二表面，第一表面设置为在蒸镀过程中与基板相对的表面，第一框边的第一表面上设置有沿第一框边延伸方向贯穿第二框边的的凹槽，对位条设置于凹槽内，对位条与基板相对的表面与第二表面之间的距离小于或等于第一表面与第二表面之间的距离；对位条上设置有对位孔，对位孔位于所述框架的角部位置。本发明实施例通过将对位条设置于凹槽内，对位条与基板相对的表面不高于第一表面，避免了对位条位置偏移。
-
公开(公告)号：CN109825802A
公开(公告)日：2019-05-31
申请号：CN201910286060.7
申请日：2019-04-10
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明的实施例提供一种掩模板及其制备方法，涉及蒸镀技术领域，可改善掩模板角位置处的混色现象，提高产品良率。一种掩模板的制备方法，包括：将多个第一掩模条依次间隔固定于第一掩模板框架上，每个第一掩模条均跨设于第一掩模板框架的中空区域，且第一掩模条的两端与第一掩模板框架固定；除最靠近第一掩模板框架的第一边和第二边的两个第一掩模条外，其余第一掩模条的延伸方向与第一掩模板框架的第一边平行，第一边和第二边相对；分别靠近第一边和第二边的第一掩模条相对其余第一掩模条倾斜设置，且倾斜角度根据蒸镀偏差计算得到。
-
公开(公告)号：CN111676446B
公开(公告)日：2022-10-28
申请号：CN202010588550.5
申请日：2020-06-24
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本公开是关于一种掩膜板、掩膜板结构和掩膜板制作方法，属于蒸镀领域。掩膜板包括掩膜板主体和掩膜条。掩膜板主体包括多个凹槽，多个凹槽间隔分布在掩膜板主体的第一表面，凹槽内布置有镂空结构；掩膜条位于掩膜板主体上，掩膜条的图形区域位于凹槽在第一表面的正投影内。在基板与掩膜条贴合的过程中，基板对掩膜条产生朝向掩膜板主体的力，使掩膜条的中间部分向凹槽内移动，使得掩膜条的中间部分与基板之间无摩擦力。在基板下放过程中，减小了掩膜条的图形区域的移动，减小了掩膜条的弯曲程度，提高了蒸镀形成的像素区域的精度。
-
公开(公告)号：CN111471960B
公开(公告)日：2022-09-09
申请号：CN202010518444.X
申请日：2020-06-09
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种掩膜板以及制备方法，涉及显示技术领域。掩膜板包括框架和设置于框架上的对位条，框架包括两条相对设置的第一框边和两条相对设置的第二框边，第一框边和第二框边围成框架，第一框边和第二框边包括相对设置的第一表面和第二表面，第一表面设置为在蒸镀过程中与基板相对的表面，第一框边的第一表面上设置有沿第一框边延伸方向贯穿第二框边的的凹槽，对位条设置于凹槽内，对位条与基板相对的表面与第二表面之间的距离小于或等于第一表面与第二表面之间的距离；对位条上设置有对位孔，对位孔位于所述框架的角部位置。本发明实施例通过将对位条设置于凹槽内，对位条与基板相对的表面不高于第一表面，避免了对位条位置偏移。
-
公开(公告)号：CN111500981A
公开(公告)日：2020-08-07
申请号：CN202010525146.3
申请日：2020-06-10
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种掩膜版，所述掩膜版包括掩膜条及支撑掩膜，所述掩膜条包括多个掩膜开口区，所述支撑掩膜包括支撑条；所述掩膜条包括支撑部，所述支撑部的强度大于掩膜条除支撑部以外部分的强度，所述支撑部位于相邻的两个掩膜开口区之间，所述支撑部在所述支撑掩膜上的正投影与所述支撑条至少部分重合，所述支撑条抵靠于所述支撑部以对所述掩膜条进行支撑。支撑条通过支撑部对掩膜条的相邻掩膜开口区之间的区域进行支撑，避免掩膜条发生弯曲变形，从而提高蒸镀形成的膜层的位置精度。
-
公开(公告)号：CN111500981B
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202010525146.3
申请日：2020-06-10
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种掩膜版，所述掩膜版包括掩膜条及支撑掩膜，所述掩膜条包括多个掩膜开口区，所述支撑掩膜包括支撑条；所述掩膜条包括支撑部，所述支撑部的强度大于掩膜条除支撑部以外部分的强度，所述支撑部位于相邻的两个掩膜开口区之间，所述支撑部在所述支撑掩膜上的正投影与所述支撑条至少部分重合，所述支撑条抵靠于所述支撑部以对所述掩膜条进行支撑。支撑条通过支撑部对掩膜条的相邻掩膜开口区之间的区域进行支撑，避免掩膜条发生弯曲变形，从而提高蒸镀形成的膜层的位置精度。
-
公开(公告)号：CN109825802B
公开(公告)日：2021-01-26
申请号：CN201910286060.7
申请日：2019-04-10
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明的实施例提供一种掩模板及其制备方法，涉及蒸镀技术领域，可改善掩模板角位置处的混色现象，提高产品良率。一种掩模板的制备方法，包括：将多个第一掩模条依次间隔固定于第一掩模板框架上，每个第一掩模条均跨设于第一掩模板框架的中空区域，且第一掩模条的两端与第一掩模板框架固定；除最靠近第一掩模板框架的第一边和第二边的两个第一掩模条外，其余第一掩模条的延伸方向与第一掩模板框架的第一边平行，第一边和第二边相对；分别靠近第一边和第二边的第一掩模条相对其余第一掩模条倾斜设置，且倾斜角度根据蒸镀偏差计算得到。
-
公开(公告)号：CN111676446A
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN202010588550.5
申请日：2020-06-24
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本公开是关于一种掩膜板、掩膜板结构和掩膜板制作方法，属于蒸镀领域。掩膜板包括掩膜板主体和掩膜条。掩膜板主体包括多个凹槽，多个凹槽间隔分布在掩膜板主体的第一表面，凹槽内布置有镂空结构；掩膜条位于掩膜板主体上，掩膜条的图形区域位于凹槽在第一表面的正投影内。在基板与掩膜条贴合的过程中，基板对掩膜条产生朝向掩膜板主体的力，使掩膜条的中间部分向凹槽内移动，使得掩膜条的中间部分与基板之间无摩擦力。在基板下放过程中，减小了掩膜条的图形区域的移动，减小了掩膜条的弯曲程度，提高了蒸镀形成的像素区域的精度。
-
公开(公告)号：CN207775334U
公开(公告)日：2018-08-28
申请号：CN201820003884.X
申请日：2018-01-02
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本实用新型公开了一种子掩膜版及掩膜版，属于蒸镀设备领域。该子掩膜版包括图案区和两个夹持区，两个夹持区分别位于图案区相对的两侧，图案区和两个夹持区中的至少一个之间设有呈梯形的过渡区，过渡区的第一底边与夹持区连接，过渡区的第二底边与图案区连接，第一底边为过渡区的较长的底边，第二底边为过渡区的较短的底边，在通过张网机夹持住两个夹持区进行拉伸时，过渡区上会产生沿过渡区的腰的延伸方向的拉力，由于拉力的方向与图案区的长度方向的夹角大于0，因此该拉力会产生垂直于图案区的长度方向的分力，从而降低图案区产生褶皱的可能，这样子掩膜版制作成FMM后，FMM的褶皱较少，从而提高了FMM的平坦度。
-
公开(公告)号：CN206839498U
公开(公告)日：2018-01-05
申请号：CN201720765414.2
申请日：2017-06-28
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本实用新型公开了一种在交互焊接工艺中使用的辅助治具和焊接固定设备，其中该辅助治具包括：衬底基板，所述衬底基板的上方设置有若干个凸起，所述凸起至少与待进行交互焊接工艺的第一待焊接结构和第二待焊接结构的交接处相对应。本实用新型提供的辅助治具可在进行交互焊接工艺时使得第一待焊接结构和第二待焊接结构在交界处紧密贴合，从而保证第一待焊接结构和第二待焊接结构在交界处能够被紧密焊接，有效避免出现虚焊的现象。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
12 条记录 (耗时 0.054 秒)
