公开(公告)号：CN118215367A

公开(公告)日：2024-06-18

申请号：CN202410346869.5

申请日：2024-03-25

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  成都京东方光电科技有限公司

发明人： 张帅 ,  徐哲 ,  蒋龙 ,  彭刚 ,  陈明起 ,  龚清春 ,  冯奎 ,  田明 ,  李策 ,  廖飞

IPC分类号： H10K59/80 ,  H10K59/131 ,  H10K59/122 ,  H10K71/00

摘要： 本发明涉及显示面板的技术领域，具体提供一种显示面板，旨在解决现有显示面板封装效果不佳的问题。为此目的，本发明提供的显示面板包括衬底和至少一道隔离柱，隔离柱设置于阻隔区且围绕开孔区，隔离柱包括金属层，金属层包括沿远离衬底方向依次层叠的第一导电层、第二导电层和第三导电层，第三导电层的材料为透明导电材料。在构图工艺的曝光阶段，光能够直接透过第三导电层照射至侧蚀区，从而使侧蚀区内的有机材料能充分曝光，之后在显影或者去除有机胶的阶段去除位于侧蚀区内的有机材料，避免在侧蚀区内聚集残余胶体，使得封装材料能够填充至侧蚀区内，从而提升显示面板的封装效果。

公开(公告)号：CN111443565A

公开(公告)日：2020-07-24

申请号：CN202010362776.3

申请日：2020-04-30

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  成都京东方光电科技有限公司

发明人： 徐哲 ,  张文轩 ,  尤飞 ,  廖飞 ,  李策 ,  蒋龙

IPC分类号： G03F1/00 ,  H01L27/32 ,  H01L51/56

摘要： 本公开提供了一种掩膜板、显示基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。掩膜板，用以制作显示基板的像素界定层，包括第一透光图形和第一不透光图形，还包括位于所述第一透光图形和所述第一不透光图形之间的过渡结构，所述过渡结构包括交替排布的多个第二透光图形和第二不透光图形，所述第二透光图形和所述第二不透光图形的线宽小于使用所述掩膜板进行曝光的曝光机的解像力。本公开的技术方案能够提高显示装置的良率。

公开(公告)号：CN110308619B

公开(公告)日：2022-03-01

申请号：CN201910384249.X

申请日：2019-05-09

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  成都京东方光电科技有限公司

发明人： 李策 ,  张文轩 ,  蒋龙 ,  尤飞 ,  廖飞 ,  张丛雷 ,  徐哲

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 本发明提供了一种边缘曝光装置、方法、显示基板、显示装置，属于显示技术领域。边缘曝光装置，包括：曝光光源，用于提供曝光光线，所述曝光光线为扩散光线；设置在所述曝光光源出光侧的光学调整组件，能够调整所述曝光光线的传播方向。通过本发明的技术方案，能够防止在柔性衬底的边缘出现膜层残留，保证显示装置的产品良率。

公开(公告)号：CN110308619A

公开(公告)日：2019-10-08

申请号：CN201910384249.X

申请日：2019-05-09

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  成都京东方光电科技有限公司

发明人： 李策 ,  张文轩 ,  蒋龙 ,  尤飞 ,  廖飞 ,  张丛雷 ,  徐哲

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 本发明提供了一种边缘曝光装置、方法、显示基板、显示装置，属于显示技术领域。边缘曝光装置，包括：曝光光源，用于提供曝光光线，所述曝光光线为扩散光线；设置在所述曝光光源出光侧的光学调整组件，能够调整所述曝光光线的传播方向。通过本发明的技术方案，能够防止在柔性衬底的边缘出现膜层残留，保证显示装置的产品良率。

公开(公告)号：CN113053766B

公开(公告)日：2024-08-02

申请号：CN202110252289.6

申请日：2021-03-08

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  重庆京东方显示技术有限公司

发明人： 兰霜 ,  梁永民 ,  李策 ,  张帅

IPC分类号： H01L21/66 ,  G09F9/30

摘要： 本申请公开了一种光刻胶残留检测方法、面板及制造方法和显示装置，检测方法包括通过构图工艺形成沟槽时，同步形成检测镂空图案，检测镂空图案的设计关键尺寸为所述沟槽的设计关键尺寸的1/600～1/300；检测所述检测镂空图案的当前关键尺寸是否大于等于光刻胶残留阈值，若是，则沟槽内无光刻胶残留；若否，则沟槽内有光刻胶残留。上述方案中，通过同步形成沟槽和检测镂空图案，且检测镂空图案的当前关键尺寸较小，易于监控，并通过当前关键尺寸是否大于等于光刻胶残留阈值来确定沟槽内是否残留光刻胶，以利于指导后续工艺，并在无光刻胶残留时制作金属布线层，以靠着柔性基底及金属布线层自身的延展性，避免因金属布线层断裂而造成显示故障的问题发生。

公开(公告)号：CN113053766A

公开(公告)日：2021-06-29

申请号：CN202110252289.6

申请日：2021-03-08

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  重庆京东方显示技术有限公司

发明人： 兰霜 ,  梁永民 ,  李策 ,  张帅

IPC分类号： H01L21/66 ,  G09F9/30

摘要： 本申请公开了一种光刻胶残留检测方法、面板及制造方法和显示装置，检测方法包括通过构图工艺形成沟槽时，同步形成检测镂空图案，检测镂空图案的设计关键尺寸为所述沟槽的设计关键尺寸的1/600～1/300；检测所述检测镂空图案的当前关键尺寸是否大于等于光刻胶残留阈值，若是，则沟槽内无光刻胶残留；若否，则沟槽内有光刻胶残留。上述方案中，通过同步形成沟槽和检测镂空图案，且检测镂空图案的当前关键尺寸较小，易于监控，并通过当前关键尺寸是否大于等于光刻胶残留阈值来确定沟槽内是否残留光刻胶，以利于指导后续工艺，并在无光刻胶残留时制作金属布线层，以靠着柔性基底及金属布线层自身的延展性，避免因金属布线层断裂而造成显示故障的问题发生。