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公开(公告)号：CN118215367A
公开(公告)日：2024-06-18
申请号：CN202410346869.5
申请日：2024-03-25
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H10K59/80 , H10K59/131 , H10K59/122 , H10K71/00
摘要： 本发明涉及显示面板的技术领域，具体提供一种显示面板，旨在解决现有显示面板封装效果不佳的问题。为此目的，本发明提供的显示面板包括衬底和至少一道隔离柱，隔离柱设置于阻隔区且围绕开孔区，隔离柱包括金属层，金属层包括沿远离衬底方向依次层叠的第一导电层、第二导电层和第三导电层，第三导电层的材料为透明导电材料。在构图工艺的曝光阶段，光能够直接透过第三导电层照射至侧蚀区，从而使侧蚀区内的有机材料能充分曝光，之后在显影或者去除有机胶的阶段去除位于侧蚀区内的有机材料，避免在侧蚀区内聚集残余胶体，使得封装材料能够填充至侧蚀区内，从而提升显示面板的封装效果。
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公开(公告)号：CN116209312A
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN202111444192.1
申请日：2021-11-30
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H10K59/122 , H10K50/13 , H10K71/00
摘要： 一种显示基板及其制作方法和显示装置。该显示基板包括衬底基板、位于衬底基板上的多个子像素和像素隔断结构；像素隔断结位于相邻的子像素之间，发光功能层中的多个子功能膜层中的至少一个在像素隔断结构所在的位置断开；像素隔断结构包括沿垂直于衬底基板的方向上层叠设置的第一子像素隔断部、第二子像素隔断部和第三子像素隔断部；第二子像素隔断部包括沿垂直于衬底基板的方向上层叠设置的多个子隔断层，第一子像素隔断部在相邻两个子像素的排列方向上具有超出至少一个子隔断层的第一突出部，第三子像素隔断部在相邻两个子像素的排列方向上具有超出至少一个子隔断层的第二突出部。由此，该显示基板可避免相邻子像素之间的串扰。
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公开(公告)号：CN110224004B
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN201910381325.1
申请日：2019-05-08
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H01L27/32 , H01L51/52 , H01L51/56 , G02F1/1333 , G02F1/1339
摘要： 本发明提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，属于显示技术领域，其可至少部分解决现有的显示基板由于隔离结构的设置，使得显示基板的制作工艺复杂的问题。本发明的一种显示基板，包括：设置在显示基板中的贯穿的安装孔；基底，基底上设有多个显示结构层；设于基底上且围绕安装孔设置的隔离结构，用于将显示结构层靠近隔离结构的边缘与安装孔隔离，隔离结构包括至少一个部分，隔离结构的任意部分与一个显示结构层同层设置。
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公开(公告)号：CN111443565A
公开(公告)日：2020-07-24
申请号：CN202010362776.3
申请日：2020-04-30
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本公开提供了一种掩膜板、显示基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。掩膜板，用以制作显示基板的像素界定层，包括第一透光图形和第一不透光图形，还包括位于所述第一透光图形和所述第一不透光图形之间的过渡结构，所述过渡结构包括交替排布的多个第二透光图形和第二不透光图形，所述第二透光图形和所述第二不透光图形的线宽小于使用所述掩膜板进行曝光的曝光机的解像力。本公开的技术方案能够提高显示装置的良率。
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公开(公告)号：CN118678762A
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202410703394.0
申请日：2024-05-31
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H10K59/12 , H10K59/131 , H10K59/80 , H10K71/00 , H10K50/84 , H10K50/822
摘要： 本发明提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，用于解决显示产品的显示屏上容易出现孔黑斑的问题。显示基板包括：显示区域、孔区域和隔离区域，隔离区域位于孔区域和显示区域之间；隔离区域包括：导电隔离柱，绝缘隔离层和阴极层；导电隔离柱的侧面具有凹口；绝缘隔离层位于导电隔离柱背向显示基板的衬底基板的一侧，导电隔离柱在衬底基板上的正投影，位于绝缘隔离层在衬底基板上的正投影的内部；阴极层包括第一阴极部分和第二阴极部分，第一阴极部分位于绝缘隔离层背向衬底基板的一侧，第二阴极部分在衬底基板上的正投影的至少部分与绝缘隔离层在衬底基板上的正投影不交叠，第一阴极部分和第二阴极部分在凹口处断开。
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公开(公告)号：CN110224004A
公开(公告)日：2019-09-10
申请号：CN201910381325.1
申请日：2019-05-08
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H01L27/32 , H01L51/52 , H01L51/56 , G02F1/1333 , G02F1/1339
摘要： 本发明提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，属于显示技术领域，其可至少部分解决现有的显示基板由于隔离结构的设置，使得显示基板的制作工艺复杂的问题。本发明的一种显示基板，包括：设置在显示基板中的贯穿的安装孔；基底，基底上设有多个显示结构层；设于基底上且围绕安装孔设置的隔离结构，用于将显示结构层靠近隔离结构的边缘与安装孔隔离，隔离结构包括至少一个部分，隔离结构的任意部分与一个显示结构层同层设置。
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公开(公告)号：CN115552621A
公开(公告)日：2022-12-30
申请号：CN202180001022.8
申请日：2021-04-29
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本公开实施例公开了一种显示基板及其制作方法、显示装置，包括：基底，具有走线区；第一走线层，位于基底上，第一走线层在走线区包括间隔设置的多条第一走线，相邻第一走线之间的距离小于2um；绝缘层，位于第一走线层背离基底的一侧，绝缘层具有与各第一走线对应的多个第一过孔；第一平坦层，位于绝缘层背离基底的一侧，第一平坦层具有与各第一过孔对应的第二过孔，第二过孔与第一过孔至少部分重叠。
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公开(公告)号：CN110308619B
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN201910384249.X
申请日：2019-05-09
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供了一种边缘曝光装置、方法、显示基板、显示装置，属于显示技术领域。边缘曝光装置，包括：曝光光源，用于提供曝光光线，所述曝光光线为扩散光线；设置在所述曝光光源出光侧的光学调整组件，能够调整所述曝光光线的传播方向。通过本发明的技术方案，能够防止在柔性衬底的边缘出现膜层残留，保证显示装置的产品良率。
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公开(公告)号：CN110308619A
公开(公告)日：2019-10-08
申请号：CN201910384249.X
申请日：2019-05-09
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供了一种边缘曝光装置、方法、显示基板、显示装置，属于显示技术领域。边缘曝光装置，包括：曝光光源，用于提供曝光光线，所述曝光光线为扩散光线；设置在所述曝光光源出光侧的光学调整组件，能够调整所述曝光光线的传播方向。通过本发明的技术方案，能够防止在柔性衬底的边缘出现膜层残留，保证显示装置的产品良率。
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