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公开(公告)号：CN104362170B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201410714887.0
申请日：2014-11-28
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
IPC分类号： H01L27/32 , G09G3/3225
CPC分类号： H01L27/3218 , G09G3/3208 , H01L27/32 , H01L27/326 , H01L27/3276 , H01L51/0011 , H01L51/50 , H01L51/56 , H01L2227/323 , Y10T428/24306
摘要： 本发明公开了一种有机电致发光显示器件、其驱动方法及相关装置，由于每一像素单元组包括沿第一方向相邻设置的且分别包括三个颜色不同的亚像素的第一子像素单元组和第二子像素单元组；并且第一子像素单元组中的各亚像素与第二字像素单元组中的各亚像素沿第二方向呈错位排列，且衬底基板上任一亚像素的颜色均与与亚像素相邻的其它亚像素的颜色不相同。因此保证了衬底基板上相同颜色的亚像素呈有规律的交错排列，进而可以在制作相应的金属掩膜板时，相同颜色的亚像素所对应的金属掩膜板中的相邻开口区域之间的距离相对较大，增加了金属掩膜板的强度，有利于制作小尺寸的亚像素，进而可以提高有机电致发光显示器件的分辨率。
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公开(公告)号：CN105803389A
公开(公告)日：2016-07-27
申请号：CN201610330444.0
申请日：2016-05-18
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
CPC分类号： C23C14/042 , C23C14/24
摘要： 本发明公开了一种掩膜板及其制作方法。其中，该掩膜板用于对显示基板进行蒸镀，包括：图案部，对应于显示基板的显示区域；应力缓冲部，对应于显示基板的至少部分非显示区域；所述应力缓冲部的一侧设置有多个第一凹槽，所述应力缓冲部的另一侧设置有多个第二凹槽，所述第一凹槽在所述掩膜板所在平面上的第一投影与所述第二凹槽在所述掩膜板所在平面上的第二投影不相交。通过本发明，保证了掩膜板在蒸镀过程中的质量，从而达到了提高AMOLED的产品品质的效果。
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公开(公告)号：CN108666420A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：CN201710188795.7
申请日：2017-03-27
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
摘要： 一种掩模板及其制作方法。该掩模板包括掩模基板，掩模基板上包括掩模区，掩模区包括有效区以及围绕有效区的虚设区，在有效区和虚设区内均设置有贯穿掩模基板的多个通孔，其中，设置在虚设区的多个通孔填充遮挡材料。该掩模板对设置在虚设区的通孔填充遮挡材料，一方面可以阻挡蒸镀材料蒸镀到待蒸镀的衬底基板上，另一方面可以促进掩模区达到张力平衡以及改善有效区边缘刻蚀不良的现象，从而避免了采用该掩模板蒸镀形成的有效显示区边缘显示异常的现象，提升了产品的良率。
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公开(公告)号：CN105586568B
公开(公告)日：2018-01-26
申请号：CN201610159061.1
申请日：2016-03-18
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
CPC分类号： C23C14/042
摘要： 本发明提供一种掩膜板框架模组、蒸镀方法、阵列基板，属于显示技术领域，其可解决现有的掩膜板框架模组中的蒸镀掩膜板的边缘不固定导致的在蒸镀时蒸镀掩膜板的边缘容易卷曲翘起，影响蒸镀效果的问题。本发明的掩膜板框架模组，包括框架、覆盖掩膜板和至少两个蒸镀掩膜板，蒸镀掩膜板依次设置在框架上，两个相邻的蒸镀掩膜板之间具有缝隙，在框架上与缝隙对应的位置设置有第一沟槽；第一沟槽包括第一沟槽焊接部和第一沟槽非焊接部；蒸镀掩膜板包括与第一沟槽焊接部对应的第一子蒸镀掩膜板和与第一沟槽非焊接部对应的第二子蒸镀掩膜板；第一子蒸镀掩膜板的边缘与第一沟槽焊接部的边缘重合。
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公开(公告)号：CN105586568A
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201610159061.1
申请日：2016-03-18
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
CPC分类号： C23C14/042 , C23C14/12 , G03F1/64
摘要： 本发明提供一种掩膜板框架模组、蒸镀方法、阵列基板，属于显示技术领域，其可解决现有的掩膜板框架模组中的蒸镀掩膜板的边缘不固定导致的在蒸镀时蒸镀掩膜板的边缘容易卷曲翘起，影响蒸镀效果的问题。本发明的掩膜板框架模组，包括框架、覆盖掩膜板和至少两个蒸镀掩膜板，蒸镀掩膜板依次设置在框架上，两个相邻的蒸镀掩膜板之间具有缝隙，在框架上与缝隙对应的位置设置有第一沟槽；第一沟槽包括第一沟槽焊接部和第一沟槽非焊接部；蒸镀掩膜板包括与第一沟槽焊接部对应的第一子蒸镀掩膜板和与第一沟槽非焊接部对应的第二子蒸镀掩膜板；第一子蒸镀掩膜板的边缘与第一沟槽焊接部的边缘重合。
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公开(公告)号：CN104835832A
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201510254661.1
申请日：2015-05-18
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
CPC分类号： H01L27/3218 , H01L27/32 , H01L27/3246 , H01L51/52 , H01L51/56 , H01L27/326 , H01L51/0002
摘要： 本发明公开了一种像素排列结构、有机电致发光器件、显示装置、掩模板，用以使得制造像素排列结构的金属掩膜板的开口区域较大，进而提高开口率，提高AMOLED产品亮度、寿命以及画质清晰度。本发明提供的像素排列结构包括多个由三个不同颜色子像素构成的像素，其中，各子像素的中心点连线构成等边三角形，每一子像素的形状为边数大于四的多边形。
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公开(公告)号：CN105914226A
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201610371410.6
申请日：2016-05-30
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
IPC分类号： H01L27/32
CPC分类号： H01L27/3244
摘要： 本发明涉及显示技术领域，公开了一种OLED显示基板及其制作方法、显示装置和一种掩模板。OLED显示基板包括衬底基板以及形成于衬底基板之上的多个像素单元，每个像素单元包括位于衬底基板之上的第一电极、位于第一电极之上的有机发光层和位于有机发光层之上的第二电极，多个像素单元的第二电极相连接，OLED显示基板还包括位于多个像素单元的第二电极之上的电极增厚层，电极增厚层包括第一增厚部和第二增厚部，第一增厚部与OLED显示基板的边缘区域位置相对，第二增厚部位于相邻两个像素单元之间。相比现有技术，该方案提高了OLED显示产品的显示品质和电学特性。
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公开(公告)号：CN105887010A
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201610320002.8
申请日：2016-05-13
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
摘要： 本发明提供了一种掩膜集成框架及蒸镀设备，该掩膜集成框架包括框架以及设置在所述框架上的掩膜板，所述掩膜集成框架设置有对位标记，所述对位标记包括设置在所述框架上的第一对位孔以及设置在所述掩膜板上的第二对位孔，所述第二对位孔为通孔，所述第二对位孔在所述框架上的正投影位于所述第一对位孔的内壁上，所述第一对位孔为盲孔或者通孔，当所述第一对位孔为盲孔时，所述第一对位孔底部最深的位置位于所述第二对位孔在所述框架上的正投影之外。本发明提供的掩膜集成框架可以有效缓解由于框架上的对位孔中残留液体从而干扰对位的问题。
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公开(公告)号：CN104362170A
公开(公告)日：2015-02-18
申请号：CN201410714887.0
申请日：2014-11-28
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
CPC分类号： H01L27/3218 , G09G3/3208 , H01L27/32 , H01L27/326 , H01L27/3276 , H01L51/0011 , H01L51/50 , H01L51/56 , H01L2227/323 , Y10T428/24306
摘要： 本发明公开了一种有机电致发光显示器件、其驱动方法及相关装置，由于每一像素单元组包括沿第一方向相邻设置的且分别包括三个颜色不同的亚像素的第一子像素单元组和第二子像素单元组；并且第一子像素单元组中的各亚像素与第二字像素单元组中的各亚像素沿第二方向呈错位排列，且衬底基板上任一亚像素的颜色均与与亚像素相邻的其它亚像素的颜色不相同。因此保证了衬底基板上相同颜色的亚像素呈有规律的交错排列，进而可以在制作相应的金属掩膜板时，相同颜色的亚像素所对应的金属掩膜板中的相邻开口区域之间的距离相对较大，增加了金属掩膜板的强度，有利于制作小尺寸的亚像素，进而可以提高有机电致发光显示器件的分辨率。
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公开(公告)号：CN108666420B
公开(公告)日：2021-01-22
申请号：CN201710188795.7
申请日：2017-03-27
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
摘要： 一种掩模板及其制作方法。该掩模板包括掩模基板，掩模基板上包括掩模区，掩模区包括有效区以及围绕有效区的虚设区，在有效区和虚设区内均设置有贯穿掩模基板的多个通孔，其中，设置在虚设区的多个通孔填充遮挡材料。该掩模板对设置在虚设区的通孔填充遮挡材料，一方面可以阻挡蒸镀材料蒸镀到待蒸镀的衬底基板上，另一方面可以促进掩模区达到张力平衡以及改善有效区边缘刻蚀不良的现象，从而避免了采用该掩模板蒸镀形成的有效显示区边缘显示异常的现象，提升了产品的良率。
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