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公开(公告)号：CN1337592A
公开(公告)日：2002-02-27
申请号：CN01124799.1
申请日：2001-08-09
Applicant: 伊斯曼柯达公司
Abstract: 一种用于在具有为洗印设备利用的保留区和相对于保留区分布的穿孔的APS格式照相元件上记录参考校准目标的方法,包括以下步骤:产生宽度不大于30.2mm长度不大于16.7mm的参考校准目标;相对于所述穿孔定位照相元件的保留区;以及在保留区内记录参考校准目标。
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公开(公告)号：CN1337594A
公开(公告)日：2002-02-27
申请号：CN01125205.7
申请日：2001-08-09
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: H04N1/00132 , H04N1/4097
Abstract: 一种查找照相材料上的线状缺陷的方法,所述材料具有有效的成像宽度和与所述材料纵向一致的缺陷,所述方法包括下列步骤:将所述材料的一定区域曝光,以形成在所述缺陷的有效成像宽度上基本均匀的潜像;将潜像显影以产生密度信号;利用测光装置对密度信号取样;以及分析取样的密度数据,确定与所述材料纵向一致的显著离差的存在,以查找所述缺陷。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1337597A
公开(公告)日：2002-02-27
申请号：CN01125209.X
申请日：2001-08-09
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: G03C1/00
CPC classification number: G03C11/02
Abstract: 一种用像素值校准具有像素的数字图像的方法包括下列步骤:曝光照相材料以形成包括多个参考校准片的参考校准目标的潜像;曝光所述照相材料以形成景物的潜像;冲洗所述照相材料以从照相材料上的潜像形成显影图像;扫描所述显影图像以产生数字图像;测量参考校准目标的数字图像的像素值以产生每个参考校准片的测量值;获取对应于每个参考校准片的目标值和调整数据;利用所述测量值、目标值和调整数据产生图像校准校正量;以及将所述图像校准校正量运用于所述景物的数字图像。
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公开(公告)号：CN1340734A
公开(公告)日：2002-03-20
申请号：CN01125503.X
申请日：2001-08-09
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: H04N1/00015 , G03C11/02 , H04N1/00002 , H04N1/00031 , H04N1/00045 , H04N1/00053 , H04N1/00063
Abstract: 一种用于在照相元件上定位参考校准补片的方法,包括以下步骤:对所述照相元件曝光形成参考校准目标的潜影图像,所述参考校准目标具有二维的条形码符号和参考校准补片,所述二维条形码符号具有指示特征,所述参考校准补片和所述二维条形码符号的指示特征具有已知的空间关系;处理所述照相元件,使得由潜影图像形成密的图像;扫描所述密的图像而形成数字图像;在数字图像中定位所述二维条形码符号的指示器特征,并在数字图像中相对于指示器特征定位所述参考校准补片。
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公开(公告)号：CN1337595A
公开(公告)日：2002-02-27
申请号：CN01125506.4
申请日：2001-08-09
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G06K19/06037
Abstract: 一种用于在照相元件上设置二维条形码符号的方法,所述条形码符号包括被设置在规则的阵列中的具有多个确定的取向的模块的集合,所述照相元件在一个主要的并具有最大的宽度的方向具有直线缺陷,所述方法包括以下步骤:这样设置条形码符号的方向,使得每个确定的取向相对于主要的方向被充分转动,使得没有一个沿确定的取向排列的模块的集合完全由所述缺陷遮蔽。
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公开(公告)号：CN1432868A
公开(公告)日：2003-07-30
申请号：CN03101851.3
申请日：2003-01-20
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03C5/26 , G03C7/407 , G03C2007/3043 , G03C2200/43
Abstract: 处理照相胶片影像的一种方法与装置包括如下步骤：提供对指定过程具有多个可调参数的胶片处理机来处理一族胶片；确定对该胶片族之不同成员具有不同可调参数值的多个处理型面；采取该胶片族成员的型面对为其胶片族之一员的照相胶片进行化学处理。
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公开(公告)号：CN1337596A
公开(公告)日：2002-02-27
申请号：CN01125204.9
申请日：2001-08-09
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03B27/73
Abstract: 按照曝光量序列在照相材料上产生的参考校准片,把呈现主要方向上的线状缺陷的照相材料安排成二维阵列,并向所述阵列中的参考校准片指定曝光量,使得在主要方向上最靠近的相邻者在所述曝光量序列中不是最靠近的,从而减小线状缺陷的影响;并且参考校准片和在任何方向上与其最靠近的相邻者之间在所述曝光量序列中的最大级数少于预定数量,从而降低闪光的影响。
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