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公开(公告)号：CN1337596A
公开(公告)日：2002-02-27
申请号：CN01125204.9
申请日：2001-08-09
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03B27/73
Abstract: 按照曝光量序列在照相材料上产生的参考校准片,把呈现主要方向上的线状缺陷的照相材料安排成二维阵列,并向所述阵列中的参考校准片指定曝光量,使得在主要方向上最靠近的相邻者在所述曝光量序列中不是最靠近的,从而减小线状缺陷的影响;并且参考校准片和在任何方向上与其最靠近的相邻者之间在所述曝光量序列中的最大级数少于预定数量,从而降低闪光的影响。
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