公开(公告)号：CN118348757A

公开(公告)日：2024-07-16

申请号：CN202311727227.1

申请日：2023-12-15

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 曾原直也

IPC: G03F9/00

Abstract: 提供一种能够高精度地进行掩模与工件的对位的检测装置、校准用显微镜及曝光装置。本检测装置具备分别拍摄掩模标记的图像及工件标记的图像的校准用显微镜和基于这些图像检测掩模标记的位置及工件标记的位置的位置检测部。校准用显微镜具有拍摄部、将第一光及第二光分别分割的分束器和一个以上的像差校正透镜。分束器具有以将光分割面夹在中间的方式相互连接的第一部件及第二部件，且以第一光及第二光的入射面及出射面中的任一方的面方向均与光分割面的面方向不同的方式构成。一个以上的像差校正透镜包含配置于第一光的第一光路的第一像差校正透镜和配置于第二光的第二光路的第二像差校正透镜。

公开(公告)号：CN118732425A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202410062849.5

申请日：2024-01-16

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 曾原直也 ,  铃木启之

IPC: G03F9/00

Abstract: 本发明提供一种曝光装置，能够提高掩模与工件的对位精度，实现较高的曝光精度。本曝光装置所具备的光射出部射出曝光用光。掩模台保持曝光用掩模。工件台保持工件。投影光学系统将从光射出部射出并透过了曝光用掩模的曝光用光向工件台所保持的工件照射。反射部件在曝光用掩模的掩模标记的检测工序时，配置于由投影光学系统照射的曝光用光的照射区域。对准显微镜在掩模标记的检测工序时，配置于向掩模标记照射的曝光用光的光路，基于由反射部件反射的反射光对掩模标记的图像进行摄影。移动机构在掩模标记的检测工序时，使反射部件从离开照射区域的位置移动到照射区域。