公开(公告)号：CN108693719A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201810270282.5

申请日：2018-03-29

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 铃木启之 ,  杉山茂久

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F9/7046 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70666 ,  G03F9/7088

Abstract: 一种曝光装置及曝光方法，在逐次曝光中不使生产能力下降而进行按每次拍摄的校准。曝光装置(100)将形成在掩模(M)上的图案经由投影光学系统(30)向形成在工件(W)上的多个拍摄区域依次转印。曝光装置(100)具备：检测形成在工件(W)上的第1拍摄区域的校准标记的第1检测部(51)；检测形成在工件(W)上的、相邻于第1拍摄区域的第2拍摄区域的校准标记的第2检测部(52)；控制部(62)，控制上述多个拍摄区域的转印。控制部同时进行由第1检测部对校准标记的检测和由第2检测部对校准标记的检测，基于第1检测部的检测结果及第2检测部的检测结果控制向第1拍摄区域及第2拍摄区域的转印。

公开(公告)号：CN108693719B

公开(公告)日：2021-11-05

申请号：CN201810270282.5

申请日：2018-03-29

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 铃木启之 ,  杉山茂久

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

Abstract: 一种曝光装置及曝光方法，在逐次曝光中不使生产能力下降而进行按每次拍摄的校准。曝光装置(100)将形成在掩模(M)上的图案经由投影光学系统(30)向形成在工件(W)上的多个拍摄区域依次转印。曝光装置(100)具备：检测形成在工件(W)上的第1拍摄区域的校准标记的第1检测部(51)；检测形成在工件(W)上的、相邻于第1拍摄区域的第2拍摄区域的校准标记的第2检测部(52)；控制部(62)，控制上述多个拍摄区域的转印。控制部同时进行由第1检测部对校准标记的检测和由第2检测部对校准标记的检测，基于第1检测部的检测结果及第2检测部的检测结果控制向第1拍摄区域及第2拍摄区域的转印。

公开(公告)号：CN118732425A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202410062849.5

申请日：2024-01-16

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 曾原直也 ,  铃木启之

IPC: G03F9/00

Abstract: 本发明提供一种曝光装置，能够提高掩模与工件的对位精度，实现较高的曝光精度。本曝光装置所具备的光射出部射出曝光用光。掩模台保持曝光用掩模。工件台保持工件。投影光学系统将从光射出部射出并透过了曝光用掩模的曝光用光向工件台所保持的工件照射。反射部件在曝光用掩模的掩模标记的检测工序时，配置于由投影光学系统照射的曝光用光的照射区域。对准显微镜在掩模标记的检测工序时，配置于向掩模标记照射的曝光用光的光路，基于由反射部件反射的反射光对掩模标记的图像进行摄影。移动机构在掩模标记的检测工序时，使反射部件从离开照射区域的位置移动到照射区域。