公开(公告)号：CN108693719A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201810270282.5

申请日：2018-03-29

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 铃木启之 ,  杉山茂久

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F9/7046 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70666 ,  G03F9/7088

Abstract: 一种曝光装置及曝光方法，在逐次曝光中不使生产能力下降而进行按每次拍摄的校准。曝光装置(100)将形成在掩模(M)上的图案经由投影光学系统(30)向形成在工件(W)上的多个拍摄区域依次转印。曝光装置(100)具备：检测形成在工件(W)上的第1拍摄区域的校准标记的第1检测部(51)；检测形成在工件(W)上的、相邻于第1拍摄区域的第2拍摄区域的校准标记的第2检测部(52)；控制部(62)，控制上述多个拍摄区域的转印。控制部同时进行由第1检测部对校准标记的检测和由第2检测部对校准标记的检测，基于第1检测部的检测结果及第2检测部的检测结果控制向第1拍摄区域及第2拍摄区域的转印。

公开(公告)号：CN108693719B

公开(公告)日：2021-11-05

申请号：CN201810270282.5

申请日：2018-03-29

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 铃木启之 ,  杉山茂久

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

Abstract: 一种曝光装置及曝光方法，在逐次曝光中不使生产能力下降而进行按每次拍摄的校准。曝光装置(100)将形成在掩模(M)上的图案经由投影光学系统(30)向形成在工件(W)上的多个拍摄区域依次转印。曝光装置(100)具备：检测形成在工件(W)上的第1拍摄区域的校准标记的第1检测部(51)；检测形成在工件(W)上的、相邻于第1拍摄区域的第2拍摄区域的校准标记的第2检测部(52)；控制部(62)，控制上述多个拍摄区域的转印。控制部同时进行由第1检测部对校准标记的检测和由第2检测部对校准标记的检测，基于第1检测部的检测结果及第2检测部的检测结果控制向第1拍摄区域及第2拍摄区域的转印。

公开(公告)号：CN102998909B

公开(公告)日：2016-08-31

申请号：CN201210339557.9

申请日：2012-09-13

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 杉山茂久

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70725 ,  G03F7/70775 ,  G03F9/7015 ,  G03F9/7084 ,  G03F9/7088

Abstract: 一种曝光装置，使工件在正交于工件面的方向、即Z方向移动时，修正起因于Z方向移动机构的直线度所产生的在与工件面平行的平面内的工件的移动。利用校准用显微镜来检测掩模的掩模标记像，并存储其位置。接着，将工件载置于吸附工作台，检测工件标记的位置，进行工件与掩模的对位，通过激光测长仪存储从滑块到反射镜的距离。接下来，为了进行曝光处理，通过Z方向移动机构使工件台下降工件的厚度量，并通过激光测长仪来测定从滑块到反射镜的距离。然后，根据上述距离来检测工件台的下降所引起的移动量，将工件回归到与掩模对位了的位置。在该状态下，从光射出部射出曝光光，对工件进行曝光。

公开(公告)号：CN102998909A

公开(公告)日：2013-03-27

申请号：CN201210339557.9

申请日：2012-09-13

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 杉山茂久

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70725 ,  G03F7/70775 ,  G03F9/7015 ,  G03F9/7084 ,  G03F9/7088

Abstract: 一种曝光装置，使工件在正交于工件面的方向、即Z方向移动时，修正起因于Z方向移动机构的直线度所产生的在与工件面平行的平面内的工件的移动。利用校准用显微镜来检测掩模的掩模标记像，并存储其位置。接着，将工件载置于吸附工作台，检测工件标记的位置，进行工件与掩模的对位，通过激光测长仪存储从滑块到反射镜的距离。接下来，为了进行曝光处理，通过Z方向移动机构使工件台下降工件的厚度量，并通过激光测长仪来测定从滑块到反射镜的距离。然后，根据上述距离来检测工件台的下降所引起的移动量，将工件回归到与掩模对位了的位置。在该状态下，从光射出部射出曝光光，对工件进行曝光。