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发明公开
曝光方法以及曝光系统审中-实审

公开(公告)号：CN118215890A

公开(公告)日：2024-06-18

申请号：CN202280074624.0

申请日：2022-09-14

申请人： 优志旺电机株式会社 , 株式会社阿迪泰克工程 , 公益财团法人福冈县产业·科学技术振兴财团

发明人： 桥本圣昭 , 高松大辅 , 高桥辽太郎 , 比企达也 , 野北宽太

IPC分类号： G03F9/00

摘要： 本发明课题在于提供即使内插件大型化也能够抑制生产性能降低的曝光方法以及曝光系统。本发明的一方式的曝光方法具有第一曝光工序与第二曝光工序。所述第一曝光工序使用具有第一曝光精度的第一曝光装置在基板上的抗蚀剂上曝光出第一图案(P1)。所述第二曝光工序使用具有与所述第一曝光精度不同的第二曝光精度的第二曝光装置，在曝光了所述第一图案(P1)的所述抗蚀剂上曝光出与第一图案不同的第二图案(P2)。