公开(公告)号：CN1249492C

公开(公告)日：2006-04-05

申请号：CN02121836.6

申请日：2002-06-07

Applicant: 住友精密工业株式会社

Inventor： 菅长大辅 ,  藤根修 ,  关口明

IPC: G02F1/1333 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置，在将基板沿水平方向传送并通过多个处理部，在各处理部将处理液供给到基板的表面的传送式的基板处理装置中，其中，在多个处理部中的至少一个处理部的入口部分，设置液膜式的缝隙喷嘴，该缝隙喷嘴具有向基板宽度方向的整个区域膜状地喷出处理液的喷嘴本体，以及防止从该喷嘴本体喷出的处理液向入口侧飞散的遮挡部件，所述遮挡部件设置在所述喷嘴本体的前端外侧。

公开(公告)号：CN1391138A

公开(公告)日：2003-01-15

申请号：CN02121836.6

申请日：2002-06-07

Applicant: 住友精密工业株式会社

Inventor： 菅长大辅 ,  藤根修 ,  关口明

IPC: G03F7/26 ,  G02F1/1333

Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置，在使用因蚀刻液和剥离液等药液而受到浸蚀的基板的情况下，防止在该基板的背面因局部浸蚀而发生污点。在药液处理部的入口部分设置浸泡槽(37)。浸泡槽(37)被配置于基板(100)的传送线的下方，使药液溢出来接触基板(100)的整个背面。一旦与该药液的接触，则基板(100)的背面均匀地浸润后，只要其背面不干燥，通过药液的回入和与传送滚轮的接触，即使药液局部附着于基板(100)的背面，也不发生污点。