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公开(公告)号：CN105339778A
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201480036869.X
申请日：2014-06-18
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 杉本智洋
CPC classification number: G01N21/45 , G01M11/0228 , G01N2201/13
Abstract: 以高精度测量被检体的折射率。本发明涉及一种用于通过将来自光源的光分成被检光和参照光并且测量源自参照光与穿过被检体的被检光之间的干涉的干涉光来测量被检体的折射率的方法。在该方法中，被检体被布置于其群折射率在特定波长处等于被检体的群折射率的介质中，干涉光被测量，特定波长基于被检光和参照光之间的相位差的波长依赖性被确定，并且，与特定波长对应的介质的群折射率被计算为与特定波长对应的被检体的群折射率。
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公开(公告)号：CN102918373B
公开(公告)日：2014-01-08
申请号：CN201180024878.3
申请日：2011-05-19
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 杉本智洋
CPC classification number: G01N21/45 , G01M11/0228 , G01M11/0257 , G01M11/0271
Abstract: 一方法包括：通过将基准光引入到被布置在折射率与测试对象的折射率不同的介质中的测试对象中来测量测试对象的透过波面，以及通过使用透过波面的测量结果来计算测试对象的折射率分布。测量步骤测量对于第一波长的第一透过波面和对于与第一波长不同的第二波长的第二透过波面。计算步骤通过利用第一透过波面和第二透过波面的测量结果以及被布置在介质中的基准对象的对于第一波长和第二波长中的每一个的透过波面来去除测试对象的形状成分，计算测试对象的折射率分布。基准对象具有与测试对象相同的形状和特定的折射率分布。
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公开(公告)号：CN106248623A
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：CN201610402338.9
申请日：2016-06-08
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 杉本智洋
CPC classification number: G01N21/45 , G01B9/02024 , G01B11/06 , G01M11/0271 , G01N2201/066 , G01N2201/068 , G01N2201/12 , G01M11/0228
Abstract: 本发明涉及折射率测量方法、测量装置和光学元件制造方法。以高精度测量测试对象的相位折射率。通过将来自光源的光分为参照光束和测试光束并引起参照光束和透过测试对象的测试光束之间的干涉来测量参照光束和测试光束之间的相位差。通过基于参照对象的相位折射率相对于波长的斜率计算与相位差中包括的2π的整数倍对应的值来计算测试对象的相位折射率。
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公开(公告)号：CN106226032A
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：CN201610384440.0
申请日：2016-06-02
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 杉本智洋
IPC: G01M11/02
CPC classification number: G01N21/4133 , G01M11/0285 , G01N21/45 , G01M11/0228
Abstract: 本发明公开了测量方法、测量装置和光学元件的制造方法。将测试对象放在介质内，并且在多个波长处测量透过所述测试对象的光的波前。从在所述多个波长处测量的测试对象的透射波前和将具有特定的群折射率分布的基准对象放在所述介质中时多个波长处的透射波前，计算对应于所述测试对象的透射波前与基准对象的透射波前之间的差的波前像差相对于波长的变化率。基于波前像差相对于波长的变化率计算所述测试对象的折射率分布。
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公开(公告)号：CN105675261A
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201510893831.0
申请日：2015-12-08
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 杉本智洋
IPC: G01M11/02
CPC classification number: G01M11/0228
Abstract: 本发明涉及折射率分布测量方法和测量装置以及光学元件制造方法。通过用形状和折射率已知的第一基准透镜、形状和折射率已知的第二基准透镜以及介质夹着测验透镜，形成测验单元。测量传播通过测验单元的光的波前，并且，通过使用第一基准透镜的形状和折射率、第二基准透镜的形状和折射率以及测验单元的测量的波前，计算测验透镜的折射率分布。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102435584B
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201110268850.6
申请日：2011-09-13
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 杉本智洋
IPC: G01N21/45
Abstract: 本申请涉及折射率的测量方法和折射率的测量装置。该测量方法包括：测量第一容器中的测试对象与第一介质的光路长度之和；将光引入到包括第一介质、但不包括测试对象的区域中，并测量第一介质的光路长度；测量第二容器中的测试对象与第二介质的光路长度之和，第二介质具有与第一介质的折射率不同的折射率；将光引入到包括第二介质、但不包括测试对象的区域中，并测量第二介质的光路长度；基于测量的光路长度和被测量了各光路长度的光路的实际距离来计算测试对象的折射率。
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公开(公告)号：CN105339779A
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201480036877.4
申请日：2014-06-18
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 杉本智洋
CPC classification number: G01M11/0228 , G01N21/45 , G01N2021/414
Abstract: 本发明涉及以高的精度测量被检对象的折射率。来自光源10的光被分离成被检光和参考光。通过其中已通过被检对象80的被检光和参考光彼此干涉的干涉法测量被检对象80的折射率。在第一温度处测量第一相位差，在与第一温度不同的第二温度处测量第二相位差，并且通过使用第一相位差、第二相位差以及被检对象80的折射率的温度系数来计算被检对象80的折射率。
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公开(公告)号：CN102062677B
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201010543240.8
申请日：2010-11-15
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 杉本智洋
IPC: G01M11/02
CPC classification number: G01M11/0228 , G01N21/45 , G01N2021/9511
Abstract: 本发明公开了折射率分布测量方法和折射率分布测量装置，该方法包括将被检物(40)置于折射率比被检物的折射率低的第一和第二介质中并使基准光(21)入射到被检物上以测量第一和第二透射波前的第一和第二步骤。当入射到被检物的周边部分上并穿过被检物的同一点的光线被定义为第一和第二光线时，该方法使得这些光线沿相互不同的方向行进以改变基准光的NA，使得透过被检物之后的基准光比入射到被检物之前的基准光更接近于准直光。该方法使用被检物的几何厚度计算被检物的有效厚度，并通过使用第一和第二透射波前以及有效厚度计算其折射率分布。
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公开(公告)号：CN102918373A
公开(公告)日：2013-02-06
申请号：CN201180024878.3
申请日：2011-05-19
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 杉本智洋
CPC classification number: G01N21/45 , G01M11/0228 , G01M11/0257 , G01M11/0271
Abstract: 一方法包括：通过将基准光引入到被布置在折射率与测试对象的折射率不同的介质中的测试对象中来测量测试对象的透过波面，以及通过使用透过波面的测量结果来计算测试对象的折射率分布。测量步骤测量对于第一波长的第一透过波面和对于与第一波长不同的第二波长的第二透过波面。计算步骤通过利用第一透过波面和第二透过波面的测量结果以及被布置在介质中的基准对象的对于第一波长和第二波长中的每一个的透过波面来去除测试对象的形状成分，计算测试对象的折射率分布。基准对象具有与测试对象相同的形状和特定的折射率分布。
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公开(公告)号：CN102435584A
公开(公告)日：2012-05-02
申请号：CN201110268850.6
申请日：2011-09-13
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 杉本智洋
IPC: G01N21/45
Abstract: 本申请涉及折射率的测量方法和折射率的测量装置。该测量方法包括：测量第一容器中的测试对象与第一介质的光路长度之和；将光引入到包括第一介质、但不包括测试对象的区域中，并测量第一介质的光路长度；测量第二容器中的测试对象与第二介质的光路长度之和，第二介质具有与第一介质的折射率不同的折射率；将光引入到包括第二介质、但不包括测试对象的区域中，并测量第二介质的光路长度；基于测量的光路长度和被测量了各光路长度的光路的实际距离来计算测试对象的折射率。
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