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公开(公告)号：CN112147857A
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN202010586039.1
申请日：2020-06-24
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： G03F9/00
摘要： 本公开涉及图案形成方法以及物品的制造方法。一种图案形成方法，在基板上的1层形成多个图案，所述图案形成方法包括：第1测量工序，分别测量形成在所述基板上的多个标记；第1形成工序，在所述基板上的1层形成第1图案；第2测量工序，测量所述多个标记中的至少一部分标记；以及第2形成工序，在根据第1测量工序中的测量结果和所述第2测量工序中的测量结果而决定的位置形成第2图案，在所述第2测量工序中，在与所述第1测量工序中的测量结果对应的测量条件下进行所述标记的测量。
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公开(公告)号：CN110347015A
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201910263549.2
申请日：2019-04-03
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027
摘要： 本发明涉及曝光装置和制造物品的方法。本发明提供了一种曝光装置，所述曝光装置包括被配置为在基板上的抗蚀剂膜上形成标记的形成单元，以及控制单元，该控制单元被配置为通过基于标记的测量位置将图案投影到基板上的抗蚀剂膜上的目标位置上来执行曝光处理以形成潜像，其中，在对去除具有第一标记的第一抗蚀剂膜之后其上已形成有第二抗蚀剂膜的返工基板执行曝光处理之前，控制单元使形成单元执行在第二抗蚀剂膜上形成第二标记的形成处理，以使第二标记将位于返工基板上的偏离第一标记的位置的位置处。
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公开(公告)号：CN114488709A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202210113165.4
申请日：2019-04-03
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027 , H01L21/033
摘要： 本发明涉及曝光装置和制造物品的方法。本发明提供了一种曝光装置，所述曝光装置包括被配置为在基板上的抗蚀剂膜上形成标记的形成单元，以及控制单元，该控制单元被配置为通过基于标记的测量位置将图案投影到基板上的抗蚀剂膜上的目标位置上来执行曝光处理以形成潜像，其中，在对去除具有第一标记的第一抗蚀剂膜之后其上已形成有第二抗蚀剂膜的返工基板执行曝光处理之前，控制单元使形成单元执行在第二抗蚀剂膜上形成第二标记的形成处理，以使第二标记将位于返工基板上的偏离第一标记的位置的位置处。
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公开(公告)号：CN110347015B
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN201910263549.2
申请日：2019-04-03
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027
摘要： 本发明涉及曝光装置和制造物品的方法。本发明提供了一种曝光装置，所述曝光装置包括被配置为在基板上的抗蚀剂膜上形成标记的形成单元，以及控制单元，该控制单元被配置为通过基于标记的测量位置将图案投影到基板上的抗蚀剂膜上的目标位置上来执行曝光处理以形成潜像，其中，在对去除具有第一标记的第一抗蚀剂膜之后其上已形成有第二抗蚀剂膜的返工基板执行曝光处理之前，控制单元使形成单元执行在第二抗蚀剂膜上形成第二标记的形成处理，以使第二标记将位于返工基板上的偏离第一标记的位置的位置处。
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公开(公告)号：CN114488709B
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202210113165.4
申请日：2019-04-03
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027 , H01L21/033
摘要： 本发明涉及曝光装置和制造物品的方法。本发明提供了一种曝光装置，所述曝光装置包括被配置为在基板上的抗蚀剂膜上形成标记的形成单元，以及控制单元，该控制单元被配置为通过基于标记的测量位置将图案投影到基板上的抗蚀剂膜上的目标位置上来执行曝光处理以形成潜像，其中，在对去除具有第一标记的第一抗蚀剂膜之后其上已形成有第二抗蚀剂膜的返工基板执行曝光处理之前，控制单元使形成单元执行在第二抗蚀剂膜上形成第二标记的形成处理，以使第二标记将位于返工基板上的偏离第一标记的位置的位置处。
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