公开(公告)号：CN110366703A

公开(公告)日：2019-10-22

申请号：CN201880014709.3

申请日：2018-02-12

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： T·B·斯塔霍维亚克 ,  W·刘 ,  F·万

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/16 ,  H01L21/027

Abstract: 纳米压印光刻法包括：用预处理组合物涂布纳米压印光刻基板的表面以在该基板的表面上得到该预处理组合物的层；在该预处理组合物的层上设置压印抗蚀剂以在该基板的表面上得到复合层；使该复合层与纳米压印光刻模板接触；和通过使该复合层聚合从而在该基板的表面上形成聚合物层。该预处理组合物包括具有约300至约750的分子量的聚合性组分。该压印抗蚀剂为聚合性组合物。该复合层包括该预处理组合物和该压印抗蚀剂的混合物。该压印抗蚀剂的形成该复合层的平均铺展速率超过在除此之外相同条件下该压印抗蚀剂在该基板上的平均铺展速率。

公开(公告)号：CN110366703B

公开(公告)日：2023-11-14

申请号：CN201880014709.3

申请日：2018-02-12

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： T·B·斯塔霍维亚克 ,  W·刘 ,  F·万

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/16 ,  H01L21/027

Abstract: 纳米压印光刻法包括：用预处理组合物涂布纳米压印光刻基板的表面以在该基板的表面上得到该预处理组合物的层；在该预处理组合物的层上设置压印抗蚀剂以在该基板的表面上得到复合层；使该复合层与纳米压印光刻模板接触；和通过使该复合层聚合从而在该基板的表面上形成聚合物层。该预处理组合物包括具有约300至约750的分子量的聚合性组分。该压印抗蚀剂为聚合性组合物。该复合层包括该预处理组合物和该压印抗蚀剂的混合物。该压印抗蚀剂的形成该复合层的平均铺展速率超过在除此之外相同条件下该压印抗蚀剂在该基板上的平均铺展速率。