公开(公告)号：CN110392919B

公开(公告)日：2024-01-16

申请号：CN201880016546.2

申请日：2018-03-02

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 千叶启子 ,  石田晋吾 ,  安藤敏明 ,  伊藤俊树 ,  B·T·斯塔霍维亚克 ,  W·刘

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02

Abstract: 提供了图案形成方法，其提供高生产量并可以均匀精度加工的注料区域。图案形成方法，其为光纳米压印技术，依次包括：步骤(1)，将由固化性组合物(A1)形成的层铺设在基板的表面上，该固化性组合物(A1)至少含有充当聚合性化合物的组分(a1)；步骤(2)，将固化性组合物(A2)的液滴离散地逐滴分配至固化性组合物(A1)的层上以铺设液滴，该固化性组合物(A2)至少含有充当聚合性化合物的组分(a2)；步骤(3)，将通过部分混合固化性组合物(A1)和固化性组合物(A2)获得的层夹在模具和基板之间；步骤(4)，用光从模具侧照射通过部分混合固化性组合物(A1)和固化性组合物(A2)获得的层以一次地使该层固化；和步骤(5)，在固化之后从由固化性组合物形成的层脱模模具，其中通过每注料区域固化性组

公开(公告)号：CN110366703A

公开(公告)日：2019-10-22

申请号：CN201880014709.3

申请日：2018-02-12

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： T·B·斯塔霍维亚克 ,  W·刘 ,  F·万

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/16 ,  H01L21/027

Abstract: 纳米压印光刻法包括：用预处理组合物涂布纳米压印光刻基板的表面以在该基板的表面上得到该预处理组合物的层；在该预处理组合物的层上设置压印抗蚀剂以在该基板的表面上得到复合层；使该复合层与纳米压印光刻模板接触；和通过使该复合层聚合从而在该基板的表面上形成聚合物层。该预处理组合物包括具有约300至约750的分子量的聚合性组分。该压印抗蚀剂为聚合性组合物。该复合层包括该预处理组合物和该压印抗蚀剂的混合物。该压印抗蚀剂的形成该复合层的平均铺展速率超过在除此之外相同条件下该压印抗蚀剂在该基板上的平均铺展速率。

公开(公告)号：CN110366703B

公开(公告)日：2023-11-14

申请号：CN201880014709.3

申请日：2018-02-12

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： T·B·斯塔霍维亚克 ,  W·刘 ,  F·万

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/16 ,  H01L21/027

Abstract: 纳米压印光刻法包括：用预处理组合物涂布纳米压印光刻基板的表面以在该基板的表面上得到该预处理组合物的层；在该预处理组合物的层上设置压印抗蚀剂以在该基板的表面上得到复合层；使该复合层与纳米压印光刻模板接触；和通过使该复合层聚合从而在该基板的表面上形成聚合物层。该预处理组合物包括具有约300至约750的分子量的聚合性组分。该压印抗蚀剂为聚合性组合物。该复合层包括该预处理组合物和该压印抗蚀剂的混合物。该压印抗蚀剂的形成该复合层的平均铺展速率超过在除此之外相同条件下该压印抗蚀剂在该基板上的平均铺展速率。

公开(公告)号：CN110392919A

公开(公告)日：2019-10-29

申请号：CN201880016546.2

申请日：2018-03-02

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 千叶启子 ,  石田晋吾 ,  安藤敏明 ,  伊藤俊树 ,  B·T·斯塔霍维亚克 ,  W·刘

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02

Abstract: 提供了图案形成方法，其提供高生产量并可以均匀精度加工的注料区域。图案形成方法，其为光纳米压印技术，依次包括：步骤(1)，将由固化性组合物(A1)形成的层铺设在基板的表面上，该固化性组合物(A1)至少含有充当聚合性化合物的组分(a1)；步骤(2)，将固化性组合物(A2)的液滴离散地逐滴分配至固化性组合物(A1)的层上以铺设液滴，该固化性组合物(A2)至少含有充当聚合性化合物的组分(a2)；步骤(3)，将通过部分混合固化性组合物(A1)和固化性组合物(A2)获得的层夹在模具和基板之间；步骤(4)，用光从模具侧照射通过部分混合固化性组合物(A1)和固化性组合物(A2)获得的层以一次地使该层固化；和步骤(5)，在固化之后从由固化性组合物形成的层脱模模具，其中通过每注料区域固化性组合物(A2)的体积(Vr)除以固化性组合物(A1)的体积(Vc)获得的值Vr/Vc为4或更大且15或更小。