用于控制流体抗蚀剂液滴的布置的系统和方法

    公开(公告)号:CN111093836A

    公开(公告)日:2020-05-01

    申请号:CN201880060175.8

    申请日:2018-08-30

    Abstract: 本公开涉及一种流体分配系统、一种具有流体分配系统的压印光刻系统、一种利用所述流体分配系统制造物品的方法。所述流体分配系统包括:流体分配器和加热器。所述流体分配器构造成将流体的液滴分配到基板上。所述加热器构造成将液滴温度维持在大于23℃。所述液滴中的每一个具有小于1.2pL的流体体积。所述流体分配器构造成当所述液滴流体温度大于23℃时具有针对所述压印抗蚀剂流体的小于第一阈值的液滴布置准确度。当所述液滴流体温度小于或等于23℃时,所述液滴布置准确度大于所述第一阈值。

    用于控制流体抗蚀剂液滴的布置的系统和方法

    公开(公告)号:CN111093836B

    公开(公告)日:2022-03-01

    申请号:CN201880060175.8

    申请日:2018-08-30

    Abstract: 本公开涉及一种流体分配系统、一种具有流体分配系统的压印光刻系统、一种利用所述流体分配系统制造物品的方法。所述流体分配系统包括:流体分配器和加热器。所述流体分配器构造成将流体的液滴分配到基板上。所述加热器构造成将液滴温度维持在大于23℃。所述液滴中的每一个具有小于1.2pL的流体体积。所述流体分配器构造成当所述液滴流体温度大于23℃时具有针对所述压印抗蚀剂流体的小于第一阈值的液滴布置准确度。当所述液滴流体温度小于或等于23℃时,所述液滴布置准确度大于所述第一阈值。

    压印装置以及物品制造方法

    公开(公告)号:CN106168736A

    公开(公告)日:2016-11-30

    申请号:CN201610325478.0

    申请日:2016-05-17

    Abstract: 根据本发明的第一方面,提供了一种压印装置,用于使模具与施加在基片上的树脂接触,以便执行在基片上形成图形,所述压印装置包括:分配器,所述分配器构造成将树脂施加在基片上;以及树脂供给单元,所述树脂供给单元构造成将树脂供给至分配器,其中,所述树脂供给单元包括:树脂储存储罐,所述树脂储存储罐构造成储存树脂;泵,所述泵构造成使树脂在所述树脂储存储罐和分配器之间连续循环;以及过滤器,所述过滤器布置在被循环的树脂的流动通路处,并构造成除去异物或金属离子。还提供了一种物品制造方法。

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