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公开(公告)号：CN101778795A
公开(公告)日：2010-07-14
申请号：CN200880019233.9
申请日：2008-06-06
申请人： 信越化学工业株式会社
IPC分类号： C01B33/037
CPC分类号： C01B33/037 , C30B11/00 , C30B29/06
摘要： 一种金属硅的凝固方法，其特征在于定向凝固具有800ppm或更小的铁浓度的金属硅。可通过以减少的费用、缩短的步骤有效地去除金属硅中的任何金属杂质成分。
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公开(公告)号：CN103579592B
公开(公告)日：2017-06-06
申请号：CN201310335045.X
申请日：2013-08-02
申请人： 信越化学工业株式会社
IPC分类号： H01M4/38 , H01M4/62 , H01M10/0525
CPC分类号： H01M4/134 , B23K15/0006 , B23K15/0086 , B23K15/02 , B23K2101/38 , B23K2103/00 , B23K2103/05 , H01M4/0469 , H01M4/1395 , H01M4/386 , H01M4/622 , H01M4/8621 , Y02E60/122
摘要： 本发明的目的在于提供一种含硅粒子，其在作为非水电解质二次电池用负极活性物质使用时，充放电时的体积变化较少，可以使非水电解质二次电池的初始效率较高并且循环特性优异。为了达到上述目的，提供一种含硅粒子、使用此含硅粒子的非水电解质二次电池用负极材料、非水电解质二次电池及含硅粒子的制造方法，所述含硅粒子，作为非水电解质二次电池用负极活性物质而使用；并且，该含硅粒子在X射线结晶衍射中，具有以2θ＝28.6°为波峰的衍射线。
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公开(公告)号：CN103676460A
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201310394876.4
申请日：2013-09-03
申请人： 信越化学工业株式会社
摘要： 提供一种在减轻入射EUV光的减少的同时，有具有高强度的的EUV用防尘薄膜组件。本发明为一种具有用网格形状的结构体加固的EUV透过膜的EUV用防尘薄膜组件，其特征在于∶所述网格形状的结构体的纵截面形状（高度方向截面形状）为越远离EUV透过膜，前端越细的形状。
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公开(公告)号：CN104793460A
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201510028801.3
申请日：2015-01-20
申请人： 信越化学工业株式会社
摘要： 本发明提供一种EUV用防尘薄膜组件，使用其的EUV用组合体以及其组合方法。本发明的EUV用防尘薄膜组件为由将防尘薄膜用网格结构体进行补强了的防尘薄膜结构体以及对该防尘薄膜结构体进行保持的防尘薄膜组件框架构成的EUV用防尘薄膜组件。网格结构体，由于EUV光在掩模面反射，2次通过EUV用防尘薄膜组件，所以在晶片上被投影为2种的影像。本发明的其特征在于，将间隔值进行设定，使所述影像的浓淡对比度比减小至25％以下，并且，这种间隔值，以设定为0.3mm～1.0mm的范围内为优选。
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公开(公告)号：CN101588992A
公开(公告)日：2009-11-25
申请号：CN200780042061.2
申请日：2007-09-26
申请人： 信越化学工业株式会社
IPC分类号： C01B33/037
CPC分类号： C01B33/037 , H01L31/1804 , Y02E10/547 , Y02P70/521
摘要： 本发明提供了一种硅的精炼方法，该方法能够在精炼金属硅、制造太阳能电池时降低作为杂质的硼的含量，其特征在于，包括以下步骤：准备熔融的硅和熔融盐共存的混合物；将含氯原子的气体导入所述混合物；将水蒸气与含氯原子的气体一同导入。所述含氯原子的气体优选氯气或四氯化硅，作为熔融盐最好至少由二氧化硅和氧化钙的混合物构成，另外也可以包含氟化钙。
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公开(公告)号：CN104793460B
公开(公告)日：2018-12-28
申请号：CN201510028801.3
申请日：2015-01-20
申请人： 信越化学工业株式会社
摘要： 本发明提供一种EUV用防尘薄膜组件，使用其的EUV用组合体以及其组合方法。本发明的EUV用防尘薄膜组件为由将防尘薄膜用网格结构体进行补强了的防尘薄膜结构体以及对该防尘薄膜结构体进行保持的防尘薄膜组件框架构成的EUV用防尘薄膜组件。网格结构体，由于EUV光在掩模面反射，2次通过EUV用防尘薄膜组件，所以在晶片上被投影为2种的影像。本发明的其特征在于，将间隔值进行设定，使所述影像的浓淡对比度比减小至25％以下，并且，这种间隔值，以设定为0.3mm～1.0mm的范围内为优选。
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公开(公告)号：CN103676460B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201310394876.4
申请日：2013-09-03
申请人： 信越化学工业株式会社
摘要： 提供一种在减轻入射EUV光的减少的同时，有具有高强度的EUV用防尘薄膜组件。本发明为一种具有用网格形状的结构体加固的EUV透过膜的EUV用防尘薄膜组件，其特征在于∶所述网格形状的结构体的纵截面形状（高度方向截面形状）为越远离EUV透过膜，前端越细的形状。
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公开(公告)号：CN103579592A
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：CN201310335045.X
申请日：2013-08-02
申请人： 信越化学工业株式会社
IPC分类号： H01M4/38 , H01M4/62 , H01M10/0525
CPC分类号： H01M4/134 , B23K15/0006 , B23K15/0086 , B23K15/02 , B23K2101/38 , B23K2103/00 , B23K2103/05 , H01M4/0469 , H01M4/1395 , H01M4/386 , H01M4/622 , H01M4/8621 , Y02E60/122
摘要： 本发明的目的在于提供一种含硅粒子，其在作为非水电解质二次电池用负极活性物质使用时，充放电时的体积变化较少，可以使非水电解质二次电池的初始效率较高并且循环特性优异。为了达到上述目的，提供一种含硅粒子、使用此含硅粒子的非水电解质二次电池用负极材料、非水电解质二次电池及含硅粒子的制造方法，所述含硅粒子，作为非水电解质二次电池用负极活性物质而使用；并且，该含硅粒子在X射线结晶衍射中，具有以2θ＝28.6°为波峰的衍射线。
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