公开(公告)号：CN1685492A

公开(公告)日：2005-10-19

申请号：CN03822826.2

申请日：2003-09-12

申请人： 先进微装置公司

发明人： K·A·潘 ,  B·辛格 ,  B·兰加拉坚 ,  R·苏布拉马尼亚姆

IPC分类号： H01L21/66

CPC分类号： G03F7/70525 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70858 ,  H01L22/20

摘要： 本发明提供可促进制程执行的系统和方法。集合关键参数的值作为品质矩阵，该品质矩阵根据参数对于一个或多个设计目标的重要性而加权各个参数。通过根据诸如产品设计、仿真、测试结果、产率数据、电气数据等信息的系数来加权各关键参数。本发明然后能够开发品质指标，该品质指标为当前制程的综合“分数”。然后控制系统能够将品质指标与设计规格相比较，以便判定是否可接受当前制程。若该制程为不可接受，则可修正测试参数以用于进行中的制程，该制程能够再运作和再实施完成的制程。如此，根据产品设计和产率，组件的各个层能对于不同的规格和品质指标而定制。

公开(公告)号：CN101467102A

公开(公告)日：2009-06-24

申请号：CN200680023614.5

申请日：2006-06-23

申请人： 先进微装置公司 ,  斯班逊有限公司

发明人： R·苏布拉马尼亚姆 ,  B·辛格 ,  K·A·潘

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70925

摘要： 本发明揭露浸没式光刻方法与系统，其包含透过浸没式光刻工具的透镜与浸没液体照射光阻，该浸没液体位于浸没空间中与透镜及光阻接触；从浸没空间移除浸没液体；将超临界流体注入于浸没空间中；从浸没空间移除超临界流体；以及将浸没液体注入于浸没空间中。

公开(公告)号：CN1685492B

公开(公告)日：2012-12-26

申请号：CN03822826.2

申请日：2003-09-12

申请人： 先进微装置公司

发明人： K·A·潘 ,  B·辛格 ,  B·兰加拉坚 ,  R·苏布拉马尼亚姆

IPC分类号： H01L21/66

CPC分类号： G03F7/70525 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70858 ,  H01L22/20

摘要： 本发明提供可促进制程执行的系统和方法。集合关键参数的值作为品质矩阵，该品质矩阵根据参数对于一个或多个设计目标的重要性而加权各个参数。通过根据诸如产品设计、仿真、测试结果、产率数据、电气数据等信息的系数来加权各关键参数。本发明然后能够开发品质指标，该品质指标为当前制程的综合“分数”。然后控制系统能够将品质指标与设计规格相比较，以便判定是否可接受当前制程。若该制程为不可接受，则可修正测试参数以用于进行中的制程，该制程能够再运作和再实施完成的制程。如此，根据产品设计和产率，组件的各个层能对于不同的规格和品质指标而定制。