公开(公告)号：CN116859682B

公开(公告)日：2023-12-08

申请号：CN202311111047.0

申请日：2023-08-31

申请人： 光科芯图(北京)科技有限公司

发明人： 张丽丽 ,  杨振 ,  谢稳 ,  马卫民 ,  菅彦斌 ,  和琨 ,  程智 ,  牛志元

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00

摘要： 本发明涉及光刻技术领域，具体涉及一种掩模的曝光标定装置及方法，应用于光刻机，装置包括光源、准直结构和标准掩模。其中，光源用于产生激光光束，形成标定光路；准直结构沿标定光路设置在光源和对应准直结构的成像位置之间，用于对激光光束进行准直以形成入射至成像位置的准直光束；其中，成像位置用于作为全息掩模的曝光位置；标准掩模对应于准直光束，在第一状态下以第一位姿设置在成像位置上，根据准直光束入射标准掩模之后产生的第一成像结果调节准直结构；其中，基于调节之后的准直结构，全息掩模在第二状态下以第一位姿在成像位置实现曝光，从而完成曝光标定。本发明通过标准掩模实现了曝光标定，从而确保了后续光刻曝光精准度。

公开(公告)号：CN116859682A

公开(公告)日：2023-10-10

申请号：CN202311111047.0

申请日：2023-08-31

申请人： 光科芯图(北京)科技有限公司

发明人： 张丽丽 ,  杨振 ,  谢稳 ,  马卫民 ,  菅彦斌 ,  和琨 ,  程智 ,  牛志元

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00

摘要： 本发明涉及光刻技术领域，具体涉及一种掩模的曝光标定装置及方法，应用于光刻机，装置包括光源、准直结构和标准掩模。其中，光源用于产生激光光束，形成标定光路；准直结构沿标定光路设置在光源和对应准直结构的成像位置之间，用于对激光光束进行准直以形成入射至成像位置的准直光束；其中，成像位置用于作为全息掩模的曝光位置；标准掩模对应于准直光束，在第一状态下以第一位姿设置在成像位置上，根据准直光束入射标准掩模之后产生的第一成像结果调节准直结构；其中，基于调节之后的准直结构，全息掩模在第二状态下以第一位姿在成像位置实现曝光，从而完成曝光标定。本发明通过标准掩模实现了曝光标定，从而确保了后续光刻曝光精准度。