公开(公告)号：CN103858210B

公开(公告)日：2016-07-06

申请号：CN201280047186.5

申请日：2012-09-25

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 田边将人 ,  福上典仁 ,  坂田阳 ,  古沟透 ,  原口崇

IPC: H01L21/027 ,  G03F1/24

Abstract: 本发明提供一种反射型掩模坯、反射型掩模及它们的制造方法，抑制遮光框处的反射率，改善品质。反射型掩模包括：基板；在上述基板上形成的多层反射层；和在上述多层反射层之上形成的吸收层，上述反射型掩模具有上述吸收层的膜厚比其他区域的膜厚大的框形状的遮光框区域。另外，多层反射层在遮光框区域通过熔解而扩散混合。

公开(公告)号：CN103858210A

公开(公告)日：2014-06-11

申请号：CN201280047186.5

申请日：2012-09-25

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 田边将人 ,  福上典仁 ,  坂田阳 ,  古沟透 ,  原口崇

IPC: H01L21/027 ,  G03F1/24

Abstract: 本发明提供一种反射型掩模坯、反射型掩模及它们的制造方法，抑制遮光框处的反射率，改善品质。反射型掩模包括：基板；在上述基板上形成的多层反射层；和在上述多层反射层之上形成的吸收层，上述反射型掩模具有上述吸收层的膜厚比其他区域的膜厚大的框形状的遮光框区域。另外，多层反射层在遮光框区域通过熔解而扩散混合。