阵列测试设备的校验系统、位移检测装置以及移动装置

    公开(公告)号:CN202486303U

    公开(公告)日:2012-10-10

    申请号:CN201220120464.2

    申请日:2012-03-27

    IPC分类号: G01R35/00 G01B7/02 G09G3/00

    摘要: 本实用新型涉及应用电子技术领域,尤其涉及阵列测试设备的校验系统、位移检测装置以及移动装置,用于解决如何自动调整阵列测试设备中光学系统与检测底座之间位移的问题;校验系统包括阵列测试设备,阵列测试设备包括电耦合摄像机,光学系统以及检测底座;校验系统还包括:安装在光学系统上或检测底座上的位移检测装置;安装在检测底座上的移动装置;位移检测装置,用于检测光学系统与检测底座之间的位移;移动装置,用于在位移检测装置检测到光学系统与检测底座之间产生位移时,根据位移带动所述检测底座进行移动。采用该校验系统,能够实现自动调整阵列测试设备中光学系统与检测底座之间的位移。

    一种离子发生器
    2.
    实用新型

    公开(公告)号:CN202308778U

    公开(公告)日:2012-07-04

    申请号:CN201120285062.3

    申请日:2011-08-08

    IPC分类号: H01T23/00 H05F3/04

    摘要: 本实用新型公开了一种离子发生器,包括:离子发生装置、位于离子发生装置上且对离子发生装置产生的离子进行喷射的喷嘴、向清洁装置上的清洁部件滴漏清洁剂的清洁剂滴漏装置、清洁装置、对喷嘴进行清洁的清洁部件、连接离子发生装置和清洁装置的丝杠、驱动离子发生装置旋转的驱动装置、驱动清洁装置旋转的驱动装置、驱动丝杠将离子发生装置带向或带离清洁装置的驱动装置。由于离子发生装置可以旋转,当玻璃基板在离子发生器前方时,离子发生装置可以旋转一定的角度,保证离子吹向玻璃基板,从而能够更好的消除玻璃基板上的静电、避免离子浪费;并且,本实用新型可实现定期自动清洁,且清洁速度快,利于量产。

    测试玻璃基板的设备
    3.
    实用新型

    公开(公告)号:CN201732128U

    公开(公告)日:2011-02-02

    申请号:CN201020220236.3

    申请日:2010-06-01

    IPC分类号: G01R31/00 G01R1/067 G02F1/13

    摘要: 本实用新型提供一种测试玻璃基板的设备,包括承载玻璃基板的载台和向玻璃基板加载测试信号的探针框架,其中,还包括:定位装置,分别固设在载台的边缘上,用于调整探针框架到指定位置,指定位置为探针框架上的探针与玻璃基板上的信号加入金属触点对准的位置;固定装置,设置在探针框架上,用于当定位装置调整探针框架到指定位置之后,固定探针框架。本实用新型通过在载台的边缘上设置的定位装置,解决了现有技术中当探针框架上的探针与玻璃基板上的信号加入金属触点接触不良时,需要操作人员对探针框架的位置进行手动调整的问题,实现了自动调整探针框架的位置,节省了人力资源,从而提高了设备运行稼动率和玻璃基板的产量。