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公开(公告)号：CN102854200B
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201210328378.5
申请日：2012-09-06
申请人： 北京京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G01N21/94
摘要： 本发明公开了一种阵列基板检测设备，用以通过采集到的被测物的图像确定被测物的高度。本发明提供的阵列基板检测设备包括：检测设备本体、设置于所述检测设备本体上的图像采集装置、高度计算装置以及报警装置，所述图像采集装置采集被测物在不同于垂直方向上的至少两个角度上的图像的数据信息，并将所述数据信息传送给所述高度计算装置；所述高度计算装置根据接收到的数据信息，计算出所述被测物的高度；所述报警装置与所述高度计算装置进行通讯，用于在被测物的高度超过预设值时实施报警。
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公开(公告)号：CN104280904A
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201410505974.5
申请日：2014-09-26
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
CPC分类号： G02F1/1309 , G09G3/006
摘要： 本发明提供了一种阵列基板检测头及检测装置、阵列基板检测方法，属于阵列电路检测领域。其中，该阵列基板检测头用于对阵列基板上的多个阵列电路进行检测，所述阵列基板检测头包括：检测头本体；设置在所述检测头本体上、用于向所述阵列电路的信号端点加载测试信号的探针组件；设置在所述检测头本体上、用于检测所述阵列电路传递的测试信号的检测电路。本发明的技术方案能够对基板上的阵列电路进行全方位的测试，并且避免了检测头与探针框架发生碰撞造成的损失。
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公开(公告)号：CN102854200A
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN201210328378.5
申请日：2012-09-06
申请人： 北京京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G01N21/94
摘要： 本发明公开了一种阵列基板检测设备，用以通过采集到的被测物的图像确定被测物的高度。本发明提供的阵列基板检测设备包括：检测设备本体、设置于所述检测设备本体上的图像采集装置、高度计算装置以及报警装置，所述图像采集装置采集被测物在不同于垂直方向上的至少两个角度上的图像的数据信息，并将所述数据信息传送给所述高度计算装置；所述高度计算装置根据接收到的数据信息，计算出所述被测物的高度；所述报警装置与所述高度计算装置进行通讯，用于在被测物的高度超过预设值时实施报警。
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公开(公告)号：CN106024604B
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201610626126.9
申请日：2016-08-02
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H01L21/268
摘要： 本发明提供一种激光退火设备，通过在激光源和掩膜板之间设置透镜，对激光源产生的准分子激光束进行会聚，变更设备光路，激光源和透镜沿掩膜板同步水平移动，利用会聚后的准分子激光束扫描掩膜板，会聚后的准分子激光束经由掩膜板的透光区透射至阵列基板的退火区，实现激光退火。在激光退火过程中，掩膜板始终覆盖在阵列基板上，不会随激光源和透镜而移动，不但能够提高对位精度，而且无需实时追踪基板上的图案，从而能够不以牺牲产能为代价即可满足高PPI基板的精度要求；而且，本发明的激光退火设备用普通的透镜代替微透镜阵列，该透镜可以适用于各个型号的阵列基板，从而降低设备成本投入和时间投入。
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公开(公告)号：CN106024604A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610626126.9
申请日：2016-08-02
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H01L21/268
CPC分类号： H01L21/268
摘要： 本发明提供一种激光退火设备，通过在激光源和掩膜板之间设置透镜，对激光源产生的准分子激光束进行会聚，变更设备光路，激光源和透镜沿掩膜板同步水平移动，利用会聚后的准分子激光束扫描掩膜板，会聚后的准分子激光束经由掩膜板的透光区透射至阵列基板的退火区，实现激光退火。在激光退火过程中，掩膜板始终覆盖在阵列基板上，不会随激光源和透镜而移动，不但能够提高对位精度，而且无需实时追踪基板上的图案，从而能够不以牺牲产能为代价即可满足高PPI基板的精度要求；而且，本发明的激光退火设备用普通的透镜代替微透镜阵列，该透镜可以适用于各个型号的阵列基板，从而降低设备成本投入和时间投入。
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公开(公告)号：CN201887031U
公开(公告)日：2011-06-29
申请号：CN201020592167.9
申请日：2010-10-29
申请人： 北京京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/683 , G02F1/1333
摘要： 本实用新型公开了一种调整玻璃基板位置的装置，包括升降活塞、支撑架，其中，还包括：旋转电机，位于升降活塞及支撑架的下方，转子通过升降活塞与支撑架相连；第一基台，位于旋转电机的下方，旋转电机的底座固定在第一基台的上表面；第一直线电机，位于第一基台的下方，动子固定于第一基台的下表面；第二基台，位于第一直线电机的下方，第一直线电机的底座固定在第二基台的上表面；第二直线电机，位于第二基台的下方，动子固定于第二基台的下表面，动子的移动方向与第一直线电机的动子移动方向垂直；第三基台，位于第二直线电机的下方，第二直线电机的底座固定在第三基台的上表面。
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公开(公告)号：CN202903692U
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN201220453690.2
申请日：2012-09-06
申请人： 北京京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G01N21/94
摘要： 本实用新型公开了一种阵列基板检测设备，用以通过采集到的被测物的图像确定被测物的高度。本实用新型提供的阵列基板检测设备包括：检测设备本体、设置于所述检测设备本体上的图像采集装置、高度计算装置以及报警装置，所述图像采集装置采集被测物在不同于垂直方向上的至少两个角度上的图像的数据信息，并将所述数据信息传送给所述高度计算装置；所述高度计算装置根据接收到的数据信息，计算出所述被测物的高度；所述报警装置与所述高度计算装置进行通讯，用于在被测物的高度超过预设值时实施报警。
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公开(公告)号：CN203733446U
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201420101565.4
申请日：2014-03-06
申请人： 北京京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G09G3/00
摘要： 本实用新型公开一种检测设备，用于检测一被检测件，所述检测设备包括：容置件、第一活塞、检测部件、连接杆和压力调整装置，所述容置件内开设有第一腔体；所述第一活塞设置于所述第一腔体内，将所述第一腔体分割成第一子腔体和第二子腔体，所述第一活塞在力的作用下能够在所述第一腔体内移动；所述检测部件用以与所述被检测件接触，以检测所述被检测件；所述连接杆一端连接所述检测部件，另一端穿入所述第一子腔体连接所述第一活塞；所述压力调整装置与所述第二子腔体连接，用于改变所述第二子腔体内的压力；其中，在所述第二子腔体的压力增加时，所述第一活塞能够推动所述连接杆带动所述检测部件与所述被检测件接触，以检测所述被检测件。
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公开(公告)号：CN202486303U
公开(公告)日：2012-10-10
申请号：CN201220120464.2
申请日：2012-03-27
申请人： 北京京东方光电科技有限公司
摘要： 本实用新型涉及应用电子技术领域，尤其涉及阵列测试设备的校验系统、位移检测装置以及移动装置，用于解决如何自动调整阵列测试设备中光学系统与检测底座之间位移的问题；校验系统包括阵列测试设备，阵列测试设备包括电耦合摄像机，光学系统以及检测底座；校验系统还包括：安装在光学系统上或检测底座上的位移检测装置；安装在检测底座上的移动装置；位移检测装置，用于检测光学系统与检测底座之间的位移；移动装置，用于在位移检测装置检测到光学系统与检测底座之间产生位移时，根据位移带动所述检测底座进行移动。采用该校验系统，能够实现自动调整阵列测试设备中光学系统与检测底座之间的位移。
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公开(公告)号：CN202110354U
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201120236149.1
申请日：2011-07-07
申请人： 北京京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G02F1/13
摘要： 本实用新型实施例提供一种钨粉罐，涉及液晶显示面板制造领域，能够自动清除钨粉罐出口的钨粉堵塞。该钨粉罐，包括罐体，位于罐体上的进气管和出气管，以及位于进气管上的进气阀门和位于出气管上的出气阀门，还包括：清理部件，一端与驱动装置相连接，另一端设置在所述出气阀门与所述罐体之间的出气管内；驱动装置，与所述清理部件相连接，用于驱动清理部件。本实用新型实施例用于液晶显示面板修复。
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